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一种并行 LLL 高维模糊度降相关算法
本发明公开了一种并行 LLL 高维模糊度降相关算法,首先通过混合利用 Cholesky 下三角 LTL 分解 以及上三角 UTU 分解,提高 LLL 算法针对高维模糊度降相关的计算效率,增强高维模糊度降相关的能 力。其次为了得到降相关能力较强的 Z 变换矩阵,所以在每一次 QR 分解变换过程中,变换系数矩阵要 获取较小的整数值,因此在每次下三角分解前先对模糊度协方差矩阵的行向量按内积大小进行升序排序, 而在上三角分解前先对矩阵的列向量按内积大小进行降序排列,由此求得的 Z 变换降相关性能更佳。最 后把算法正交变换过程中的取整运算移至在求 Z 矩阵时取整,可以避免算法迭代过程中反复取整而引起 的误差累积,解决算法发散的问题,从而进一步提高并行 LLL 算法的计算效率和稳定性。 
武汉大学 2021-04-13
高白度抗静电纳米粉体
        研发团队针对高性能、抗静电热控涂层材料开展自主科研攻关,研发出具有自主知识产权的白色氧化锌导电粉体,与相关企业合作建立了100Kg级导电粉体中试生产线,完成了粉体批次稳定性验证,突破了批量制备导电粉体稳定性差的瓶颈,形成了一套高性能白色氧化物导电粉体的标准生产工艺。产品技术指标经权威检测机构检验达到或超过进口产品水平,并已通过国家航天领域应用验证。同时,产品原料及生产成本远低于进口产品,有望在我国民用市场普及。产品可应用于汽车、电子、纺织、橡胶和化工等领域的防静电、节能、电磁屏蔽等,如轮胎橡胶添加剂、红外反射涂层、防静电涂层等,市场前景广阔。         意向开展成果转化的前提条件:中试放大及产业化工艺开发资金支持
东北师范大学 2025-05-16
人工神经网络映射降维优化技术
研发阶段/n内容简介:用人工神经网络将生产过程的数据所隐含的目标函数关系降维映射到二维平面上,自动生成目标函数的等值曲线,由此可展现出操作空间的面貌和特征,直接识别出最优操作点或最优操作区域,实现生产过程的操作优化,达到降低原料消耗和能量消耗、提高生产率和产品质量、把对环境污染降到最小的目的。技术指标:1、人工神经网络降维优化技术通过降维,在映射平面上能全景式的展现出多维空间的面貌和特征,可以根据优化目标选择最优操作区域,最大限度的挖掘生产过程或装备的潜力;2、当最优操作点或区域不在现有数据集合区域
湖北工业大学 2021-01-12
附加大气信息动态约束的 URTK 模糊度快速固定方法
本发明公开了附加大气信息动态约束的 URTK 模糊度快速固定方法,本发明利用用户与参考站间的 位置关系、用户所在地区的大气延迟内插结果的有效性及大气延迟随当地时间的变化,动态设定用户处 天顶方向对流层延迟和测站卫星方向电离层延迟的先验信息,将残余的对流层延迟和电离层延迟作为随 机游走待估参数进行估计,通过顾及对流层和电离层的时空变化特性等大气约束信息改进 URTK 模糊度 解算。在 URTK 模糊度解算时利用 EWL/WL 观测值波长较长,便于
武汉大学 2021-04-14
用于光谱图像数据降维的邻居点搜索方法及系统
本发明提出了一种用于光谱图像数据降维的邻居点搜索方法及系统,包括首先对当前像素所在窗口 的像素进行筛选,剔除受噪声等因素干扰较大的像素;然后对当前像素以及待比对像素所在窗口内像素 分别进行排序,计算当前像素和待比对像素所在窗口的光谱距离;选取相似度最高的若干像素为当前像 素的邻居点。本发明的方法充分利用了空间信息,而且通过排序使得搜索过程不受图像几何形态上的变 化影响,具有空间鲁棒性,对一些噪声污染点也有很好的抑制作用,使得寻找到的邻居点更准确,提高 了高光谱图像数据降维处理的性能。 
武汉大学 2021-04-13
针对运动模糊图像复原的模糊核计算方法
本发明公开了一种针对运动模糊图像复原的模糊核计算方法,本发明是基于稀疏特性、超拉普拉斯先验和集成BP神经网络的模糊核参数估计算法,首先,在图像灰度梯度符合超拉普拉斯分布的约束条件下,通过分析模糊图像的稀疏表示系数确定模糊图像的模糊角度;然后,将模糊图像傅里叶变换后获取的傅里叶系数幅值和作为输入,通过训练基于Bagging方法的集成BP神经网络模型,完成对模糊长度的估计;最后,通过一步已知模糊核的去模糊算法得到去模糊图像。本发明估计模糊核参数准确,运算速度快,耗时短,去模糊效果好,通过本发明恢复运动模糊图像,可以使恢复出的图像边缘更加清晰,振铃效应更少。
东南大学 2021-04-11
基于光谱抽样直方图的超光谱降维匹配方法及系统
本发明提供一种基于光谱抽样直方图的超光谱降维匹配方法及系统,包括对待匹配光谱和光谱库中 的所有光谱分别进行归一化处理,分别获取归一化后的待匹配光谱和光谱库中所有光谱的抽样直方图, 计算待匹配光谱的抽样直方图与光谱库中所有光谱的抽样直方图的欧氏距离,在光谱库中选取与待匹配 光谱抽样直方图欧氏距离最小的一条光谱作为匹配对象。本发明通过对归一化后的光谱使用等间距的窄 带进行抽样,从而获得维数远小于原始光谱的抽样直方图,完成了光谱的降维,然后使用降维后的抽样 直方图代替原始光谱进行匹配,显著降低了后续匹配时的运算量,同时在抽样时利用分段提取的方法保 留了光谱图中的相对位置信息,提高了匹配的精度。
武汉大学 2021-04-13
一种基于视觉感知特征的光谱降维方法及系统
本发明公开了一种基于视觉感知特征的光谱降维方法及系统,包括构造综合人眼视觉色度特性和光 谱特性的权函数 w(λ),利用构造的权函数 w(λ)计算任意光谱样本集 S 的权函数 Siw(λ),对样本集的权函 数 Siw(λ)进行均值化处理,得到样本集均值权函数矩阵 Wfv,构造用于均值权函数 Wfv 平滑优化模型及 约束目标函数,利用优化目标函数 ObjFunc 对平滑优化模型进行约束,确定权函数矩阵 Wfv 最佳平滑优 化函数参数 n 值,利用确
武汉大学 2021-04-14
维意真空高真空金属有机蒸发镀膜机支持定制
EV-400高真空金属有机蒸发镀膜机 真空腔室:前开门真空腔体,方便取放基片、更换钨舟、添加蒸发材料以及真空室的日常维护保养; 真空系统:国产分子泵作为主抽泵,真空极限优于5.0✕10-5Pa(经烘烤除气后);另可选进口磁悬浮分子泵或是低温泵作为主抽泵,真空极限优于3.0✕10-6Pa(经烘烤除气后); 真空抽速:大气~8✕10-4Pa≤30min; 蒸发源:4~6组欧美技术金属或是有机束源炉蒸发源可选,多源共蒸获得复合膜/分蒸获得多层膜,功能强大,性能稳定; 蒸发电源:真空专业蒸发电源,恒流/恒功率控制。电流、功率可预先设置,可实现一键启动和停止的自动控制功能; 基片台:最大120mm基片/15~25mmITO/FTO玻璃25片,可定制一体化高精度刻蚀掩膜板;基片台公转,转速0~20r/min连续可调; 基片台功能:衬底可选择加热(室温~300℃可调可控)或水冷,基片台可选升降,源基距最大350mm; 溅射电源:直流脉冲溅射电源、全自动匹配的射频溅射电源可任选; 膜厚监控仪:可选配国产或进口单水冷探头膜厚仪; 可镀材料:可沉积金属(Au、Ag、Al、Ca、Cu、Mg、Fe、Cr、Ti、Ni等)、非金属、化合物(MoO3、LiF等)及有机材料,可拓展沉积单层膜、多层膜及混合膜; 控制方式:PLC+触摸屏控制系统,具备漏气自检与提示、通讯故障,实现一键抽停真空。
北京维意真空技术应用有限责任公司 2025-04-25
维意真空多靶高真空磁控溅射镀膜机支持定制
MS-450高真空多靶磁控溅射镀膜机 真空腔室:直径450✕H400mm,1Cr18Ni9Ti优质不锈钢材质,氩弧焊接,前开门结构; 真空系统:机械泵+分子泵(进口和国产可选); 极限真空:优于5✕10-5Pa(经烘烤除气后); 真空抽速:大气~8✕10-4Pa≤30min; 升降基片台:2~6英寸基片台,靶基距60~120mm连续在线自动可调,旋转0~20r/min可调,可加热至500℃(可选水冷功能),可选配偏压清洗功能; 磁控靶:直径3英寸2~4只(可升级成直径4英寸靶2~3只),兼容直流和射频,可以溅射磁性材料的靶材; 溅射电源:直流脉冲溅射电源、全自动匹配的射频溅射电源可任选; 质量流量计:2~3路工艺气体,可根据工艺要求增加; 膜厚监控仪:可选配国产或进口单水冷探头膜厚仪; 控制方式:PLC+触摸屏控制系统,具备漏气自检与提示、通讯故障,实现一键抽停真空。
北京维意真空技术应用有限责任公司 2025-04-25
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