上海皮赛电子有限公司生成XILINX 3S500E SPARTAN-3E FPGA学习板。

本发明公开了一种基于MEMS传感器和VLC定位融合的双粒子滤波导航装置和方法，包括MEMS传感器、INS模块、PDR定位模块、VLC定位模块、测姿粒子滤波器和定位粒子滤波器；本发明在测姿滤波器的设计中，三维姿态误差和三轴陀螺仪漂移作为6维的状态向量。基于惯导机械编排的误差方程作为其系统方程，用于更新粒子状态。观测方程包括加速度计观测量更新和磁力计观测量更新，用于计算粒子权重。测姿滤波器输出VLC接收器的姿态给VLC定位模块以校正姿态的影响。在定位滤波器的设计中，二维平面的位置信息作为系统状态向量，基于行人航位推算的误差方程作为系统方程，而VLC的定位结果则作为定位滤波器的观测方程。

本发明公开了一种基于MEMS传感器和VLC定位融合的单粒子滤波导航装置和方法，包括MEMS传感器、INS模块、VLC定位模块、PDR定位模块和测姿定位单粒子滤波器模块；本发明中基于INS惯导机械编排的误差方程作为融合滤波器的系统方程，用于对粒子群的粒子进行更新。观测方程包括VLC定位信息更新、PDR定位信息更新和磁力计观测量更新，用于计算各个粒子的权重。输出姿态信息给VLC定位模块和PDR定位模块。本发明首次在VLC定位领域使用融合测姿准确估计VLC接收器的姿态信息，解决VLC定位容易受接收器姿态影响以及在光信号被遮挡情况下定位不连续的问题，并消除姿态对VLC定位的影响。

本发明公开了一种面向物联网的硅基SIW带金属柱悬臂梁可重构带通滤波器，包括SIW带通滤波器、转接结构(3)和带金属柱的MEMS悬臂梁结构。带金属柱的MEMS悬臂梁结构包括MEMS悬臂梁(6)，MEMS悬臂梁依靠锚区(7)的支持悬浮在硅衬底(1)之上，MEMS悬臂梁的下表面上设置有金属柱(11)，硅衬底对应金属柱的位置开设有孔(14)，且该孔(14)穿过硅衬底(1)上的氮化硅层(10)和上表面金属层(5)进入硅衬底(1)中。本发明只需要通过控制MEMS悬臂梁的状态就能够改变滤波器通带的中心频率，达到切换滤波器通带中心频率的目的，MEMS悬臂梁可以实现快速的DOWN态和UP态的转换，可以有效地实现微波电路中对滤波器滤波范围的控制。

本发明公开了一种基于开关非局部全变分的椒盐噪声污染图像滤波方法，包括以下步骤：通过一个二阶段的形态学检测算子对噪声污染图像进行预处理，得到参考图像和噪声标志位。基于噪声标志位，再用改进的非局部全变分方法对参考图像进行滤波，以得到去噪后的图像。本发明可以有效检测图像的噪声分布情况，产生很低的漏检率和误检率。此外，本发明基于参考图像，能精确计算两个图像块之间的相似度，可在有效抑制椒盐噪声的同时很好地保护图像边缘和纹理等细节信息，其提供的峰值信噪比和结构相似度优于现有椒盐噪声滤波方法。

大功率的低纹波、高精度稳定电源和脉冲电源是一种非常重要的特种电源，在现代科学研究和医疗、工业生产、环境保护中获得越来越广泛的应用。本项目针对大功率稳定电源和脉冲电源对电流纹波和动态响应的严格要求，提出并实现了采用有源滤波器和负载并联，检测直流侧纹波电压、利用PWM控制技术的并联直流有源滤波器来抑制电流纹波和提高动态响应的方案。其显著优点：在对传感器和电路元

本发明公开了一种基于相关系数和EMD滤波特性的碰摩声发射信号降噪方法。本方法对含白噪声和粉红噪声的碰摩声发射信号具有很好的降噪效果，并具有不受主观参数影响，结果稳定，自适应等优点。本发明对碰摩声发射试验装置采集的声发射信号加入不同信噪比的白噪声和粉红噪声，对含噪信号EMD分解，求出分解得到的各阶本征模态函数与含噪信号的相关系数，结合EMD的滤波特性找到各阶本征模态函数所对应的相关系数的变化规律，通过重构碰摩声发射信号能量相对较大的本征模态函数得到降噪后的信号。

茶。灌木，树姿半开张，小叶种，叶片长椭圆形，生长势较旺盛，发芽 期较早，春茶一芽两叶水浸出物含量42.33%，氨基酸含量3.19%，咖啡碱含量1.83%，茶 多酚含量26.5%，适制绿茶或红绿茶兼制品种。嫩栗香、鲜醇。高抗茶炭疽病、云纹叶 枯病，中抗小绿叶蝉。抗寒性较强，抗旱性较强。第1生长周期亩产160千克，比对照瑞 雪增产10%；第2生长周期亩产240千克，比对照瑞雪增产20%。

研发阶段/n项目简介：该数控插床是我院研制的新型数控产品，适用于柴油机新型喷油泵泵体导向槽的加工，亦可以用于类似零件插槽加工。该数控机床设有3根数控轴，能够精确控制插槽加工，双工位交替工作，生产效率高。该项目技术水平国内领先。主要技术特点：1.床身由底座和立柱构成，具有良好的刚性和抗振动能力；2.采用进口高精度双支座滚珠丝杠，精度高，寿命长；3.伺服电机与滚珠丝杠直接连接，传动准确；4.采用西门子sinumerik802c三轴伺服控制系统，操作简单、运行可靠；5.自动控制机床的润滑，机床维护工作量少

产品详细介绍黑体产品分类    黑体按温度分为 低温、中温、高温三段。    低温黑体：下限温度为环境温度以下的黑体。因为下限温度等于和低于环境温度时，需要有制冷设备，因此分类为低温黑体，即Tmin≤T环境。    中温黑体：下限温度为环境温度以上、上限温度为1200℃以下的黑体。因为该段温度为最常用，用普通的加热方式就能实现。因此分类为中温黑体，即T环境＜T≤1200℃。     高温黑体：上限温度为1200℃以上的黑体。因为1200℃以上的温度使用地方不多，加热用通常的方式已经不能解决，温度大于1600℃只能进行抽真空。因此分类为高温黑体，即T＞1200℃。     说明：各个黑体温度段的温度有重叠和交差，但按照上面的分段均能准确的分类。     如果有特殊要求，可以和我们联系，进行特殊定做。   中温黑体 低温黑体 热管黑体 高温黑体 型    号 HZ-1 HZ-2 HZ-3 HL-3 HL-2 HL-1 RB1-1 RB1-2 RB1-3 HG-1 HGK-1 HG-2 HG-3 工作温度℃ 300～1100 300～1200 50～600 -50～100 -20～100 0～100 室温～150 150～300 300～500 700～1600 300～1600 1400～2500 2200～3000 腔口直径mm Φ40 Φ30 Φ30/Φ40 Φ30 发射率 ≥0.995 ≥0.997 ≥0.995 显示分辨率 0.1℃ 0.01℃ 0.1℃ 1℃ 温度稳定度 ≤±0.5℃/10min ≤±0.1℃/10min   ≤±1℃/10min ≤±1.5℃/10min 电源功率kW 2.0 2.0 0.6 3.2 2.7 1.5 4.0 6.0 重量 kg 25 15 195 100 40 100 500 　 　 HZ-3中温黑体 HZ-2中温黑体 HG-1高温黑体 HL-3低温黑体 　 　 联系人:王世福(销售副总/总监)    电话:010-67810538    13601309802