本发明公开了一种多元物质原子层沉积膜制备方法和装置,所 述方法,即使基片相对于原子层沉积反应腔直线运动,依次通过其内 用于完成不同原子层沉积的原子层沉积系统,基片通过每个原子层沉 积系统时:调整基片温度为相应原子层沉积反应最适温度。所述装置, 包括原子层沉积反应腔、基片承载台、运动平台和温度控制装置;原 子层沉积反应腔依次设置有多个原子层沉积系统;基片承载台,设置 在原子层沉积反应腔下方;运动平台,与基片承载台连接,带动基片 承载台运动;温度控制装置,设置在基片承载台下方。所述方法能高 效快速的制备多元物质原子层沉积膜,所述装置,能方便的通过现有 原子层沉积系统组装,兼容性强,功耗低,沉积效率高。
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