本发明公开了一种 Ag 基电触头的制造方法,利用激光选区熔化 法 , 首 先 使 用 4 × 10<sup>5</sup>W/m<sup>2</sup> ~ 10 × 10<sup>5</sup>W/m<sup>2</sup>的激光,在触桥表面预制 20μm~50 μm 的 Ag2O 过渡层,再在过渡层表面打印出 Ag 基电触头三维结构。 本发明利用