本发明公开了一种超疏水凹角 T 状微柱结构的制备方法,包括:(a)在基片的一个表面旋凃光刻胶,并执行显影操作得到第一圆孔阵列;(b)在基片含光刻胶表面依次沉积粘附层和种子层;(c)在种子层表面旋凃光刻胶,并执行显影操作得到第二圆孔阵列;(d)同时对第一圆孔阵列和第二圆孔阵列进行电镀填充,得到金属的 T 状微柱结构;(e)去除光刻胶及多余粘附层和种子层;(f)在 T 状微柱表面沉积一层保护层;(g)去除微柱 T 状结构的横状伸出部分并保留柱状结构和保护层,得到一种凹角 T 状微柱结构。按照本发明的制造
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