本发明公开了一种用于仿壁虎脚微纳分级结构的制造工艺,包括:S1、使用LPCVD设备在洁净的硅片上热生长一层SiO<sub>2</sub>薄膜;S2、在有 SiO<sub>2</sub>层的硅片表面旋涂光刻胶并进行光刻,制备出圆孔阵列图形;S3、使用缓冲氢氟酸溶液对暴露出的SiO<sub>2</sub> 进 行 刻 蚀 , 将 光 刻 胶 上 的 图 形 转 移 到SiO<sub>2</sub>层;S4、在