本发明公开了一种用于浸没式光刻的浸液温控系统,通过其获得具有稳定温度的浸液,以用于浸没式光刻工艺中,其特征在于,该温控系统包括:用于浸液流动的浸液管路,待温控的浸液通过管路进口进入该浸液管路,温控后的浸液通过该浸液管路出口输出;用于对所述浸液进行冷却的工艺冷却液回路,工艺冷却液在该回路中循环流动;以及热交换器(6),所述浸液管路和工艺冷却液回路同时流经该热交换(6),利用该热交换器(6)完成工艺冷却液和浸液的热交换,获得具有稳定温度的浸液,实现对浸液的温度控制。本发明的装置采用内部回流结构与热交换器
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