悬赏金额：50万元 发榜企业：惠州市强达电子工业有限公司 需求领域：特种功能材料 LED前沿与核心技术 精细化工 电子材料、半导体材料高分子、复合材料 产业集群：先进材料产业集群 技术关键词：光刻树脂; 光刻胶; 特种硅树脂; 高性能硅橡胶; 紫外光固化技术

氯乙烯是氯碱工业副产氯气的重要消纳产品，但在过去十年里，氯乙烯装置的建设规模过大，聚氯乙烯装置的开工率已低于60%，聚氯乙烯树脂行业已经入了微利和亏损的时期。特别是高速增长的房地产行业开始进入调整期，聚氯乙烯树脂的一个重要市场--下水管和塑钢门窗，也将进入停滞和收缩。面对这一挑战，开发高附加值的、差异化的氯乙烯共聚树脂，对提高氯乙烯树脂企业的竞争力有积极的意义。 目前工业化的氯乙烯共聚树脂主要有氯乙烯和醋酸乙烯酯的共聚物（氯醋树脂），氯乙烯与丙烯酸酯的共聚物和氯乙烯与乙烯基醚的共聚物（氯醚树脂）。其中氯醋树脂和氯乙烯与丙烯酸的共聚树脂是比较老的品种。氯醚树脂是一种较新的共聚树脂，首先由BASF公司工业化生产，用于工业防腐和印刷油墨，是氯化橡胶和氯化聚丙烯的替代品。特别是随着四氯化碳的禁用，氯醚树脂生产过程无污染，产品性能可调控范围大，是一种快速发展的氯乙烯共聚物。 传统的氯醚树脂是线性聚合物，我们开发了一种新型的可交联的氯乙烯共聚物。结合力氯乙烯的阻燃性、高密度，可用于低粘度、高固含的防腐涂料和建筑保温泡沫层。与现有的氯醚树脂相比，可以降低涂料的VOC排放60-80%，符合国家产业政策。 此外，鉴于塑化剂导致的人们对DOP等邻苯二甲酸酯类的担心，聚氯乙烯软制品的应用受到限制。针对这一问题，我们开发了自增塑的氯乙烯软树脂。其特色是将增塑剂单分子单体共聚到聚氯乙烯分子链中，在加工过程中无须加入小分子的增塑剂，从根本上解决了增塑剂在使用过程中的迁移问题。 目前上述的共聚树脂已经完成了实验室的研发，需寻找合作方进行中试和工业技术开发。

1)热固性树脂的固化速度与发泡速度的匹配 (2)环氧树脂、不饱和聚酯泡沫材料的制备

高吸水性树脂由于有优良吸水、保水特性，使得它有广阔的应用前景，在农业、工业、医疗卫生、日常生活等各个方面都有广泛应用, 其中90％以上用于卫生材料。由于日本地震及海啸使一些由日本进口的材料受到影响。本项目对比来源于日本的高吸水树脂，研制了具有更高吸水率、保水率的超高吸水树脂。超高吸水树脂的基本组成为合成高分子，不降解，不发生霉变。

目前半导体光刻加工用的深紫外光刻胶都采用化学增幅体系，这种体系主要由含酸敏基团的成膜材料和光产酸剂组成，这种体系最大的问题是光产酸在后烘阶段会发生酸迁移，导致光刻分辨率难以提高。能够有效改善酸迁移问题的一种方法是采用高分子光产酸剂，且其光产酸是高分子强酸。 课题组研制了一系列新颖的含多种鎓盐光产酸基团的苯乙烯衍生物及其与甲基丙烯酸酯的共聚物。它们在曝光过程中产生大分子的磺酸，因此可作为大分子光产酸剂与其它成膜材料一起组成化学增幅型光致抗蚀剂。 以之为产酸剂与其它部分保护的对羟基苯乙烯聚合物一起组成二组分的化学增幅型248-nm光刻胶， 制备了苯乙烯磺酸鎓盐和甲基丙烯酸酯、对羟基苯乙烯的三元共聚物，再用可酸分解的叔丁基碳酸酯保护部分酚羟基，由其组成了单组分的化学增幅型248-nm光刻胶，这些正型248-nm光刻胶获得了高感度（20-50mJ/cm2）、高分辨率(0.15-0.20微米)和留膜率（＞99%）及图形线条平滑陡直等的出色表现。  利用高分子产酸剂透明性好的特点，还制备了厚膜248-nm光刻胶，可获得线宽0.34微米、高-宽比可达5：1的光刻图形：  在此基础上，还制备了负型248-nm光刻胶，这些光刻胶也都获得了很好的光刻成像性能表现。这些高分子光产酸剂也可用于制备新型的高性能193-nm光刻胶。 这些248-nm光刻胶的主要组分除了溶剂外都是自行制备，原料易得，反应条件温和可控，去金属杂质的方法也是简便易行，成本相对低廉，在经过多年的深入研究之后，完全具备了产业化的条件。 半导体加工的关键设备、材料主要掌握在美、日手中，对我国电子工业的平稳发展带来困难和潜在的巨大威胁。其中光刻胶作为芯片光刻加工的关键材料，日本公司的产品占据全球市场的70%以上，而我国在中高端产品上（248-nm光刻胶、193-nm光刻胶）完全依赖进口，即便是低端的i-线光刻胶国产化率也只有20%左右。因此，我们必须尽快扭转这种不利的局面，这需要科研工作者和产业界共同努力以及政府的大力支持。     近年来光刻胶引起了社会的广泛关注，已有多家企业开始投身于248-nm光刻胶与193-nm光刻胶的研发与产业化，但绝大部分仍处于研发阶段。我们研制的光刻胶具备了产业化的技术条件并具有与国外先进光刻胶产品竞争的产品性能。    半导体加工用光刻胶种类较多，本课题组从2002年参与国家十五“863”光刻胶重大专项开始，至今近二十年来聚焦于光刻胶研究，在i-线胶、248-nm光刻胶、聚酰亚胺光刻胶、厚膜光刻胶及抗反射涂层材料等方面都取得了很好的结果，也在致力于这些光刻胶产品的产业化。 相关项目、专利及文章： 1.国家重大科技专项（02专项）子课题,课题编号:2010ZX02303（深紫外光刻胶专用光致产酸剂及新型成膜树脂的扩试技术研究） 2.国家自然科学基金应急管理项目，51641301, 含光产酸基团的苯乙烯衍生物-甲基丙烯酸酯共聚物及其组成的化学增幅光致抗蚀剂研究,2016/01-2016/12 3.One-component chemically amplified resist composed of polymeric sulfonium salt PAGs for high resolution patterning，European Polymer Journal，114（2019），11-18 4.A new type of sulfonium salt copolymers generating polymeric photoacid: Preparation, properties and application，Reactive and Functional Polymers，130（2018），118-125 5.含光产酸基团的苯乙烯衍生物-甲基丙烯酸酯共聚物、其制备及其应用，中国发明专利，专利号：9。

目前半导体光刻加工用的深紫外光刻胶都采用化学增幅体系，这种体系主要由含酸敏基团的成膜材料和光产酸剂组成，这种体系最大的问题是光产酸在后烘阶段会发生酸迁移，导致光刻分辨率难以提高。能够有效改善酸迁移问题的一种方法是采用高分子光产酸剂，且其光产酸是高分子强酸。 课题组研制了一系列新颖的含多种鎓盐光产酸基团的苯乙烯衍生物及其与甲基丙烯酸酯的共聚物。它们在曝光过程中产生大分子的磺酸，因此可作为大分子光产酸剂与其它成膜材料一起组成化学增幅型光致抗蚀剂。 以之为产酸剂与其它部分保护的对羟基苯乙烯聚合物一起组成二组分的化学增幅型248-nm光刻胶， 制备了苯乙烯磺酸鎓盐和甲基丙烯酸酯、对羟基苯乙烯的三元共聚物，再用可酸分解的叔丁基碳酸酯保护部分酚羟基，由其组成了单组分的化学增幅型248-nm光刻胶，这些正型248-nm光刻胶获得了高感度（20-50mJ/cm2）、高分辨率(0.15-0.20微米)和留膜率（＞99%）及图形线条平滑陡直等的出色表现。   利用高分子产酸剂透明性好的特点，还制备了厚膜248-nm光刻胶，可获得线宽0.34微米、高-宽比可达5：1的光刻图形：   在此基础上，还制备了负型248-nm光刻胶，这些光刻胶也都获得了很好的光刻成像性能表现。这些高分子光产酸剂也可用于制备新型的高性能193-nm光刻胶。 这些248-nm光刻胶的主要组分除了溶剂外都是自行制备，原料易得，反应条件温和可控，去金属杂质的方法也是简便易行，成本相对低廉，在经过多年的深入研究之后，完全具备了产业化的条件。 半导体加工的关键设备、材料主要掌握在美、日手中，对我国电子工业的平稳发展带来困难和潜在的巨大威胁。其中光刻胶作为芯片光刻加工的关键材料，日本公司的产品占据全球市场的70%以上，而我国在中高端产品上（248-nm光刻胶、193-nm光刻胶）完全依赖进口，即便是低端的i-线光刻胶国产化率也只有20%左右。因此，我们必须尽快扭转这种不利的局面，这需要科研工作者和产业界共同努力以及政府的大力支持。     近年来光刻胶引起了社会的广泛关注，已有多家企业开始投身于248-nm光刻胶与193-nm光刻胶的研发与产业化，但绝大部分仍处于研发阶段。我们研制的光刻胶具备了产业化的技术条件并具有与国外先进光刻胶产品竞争的产品性能。    半导体加工用光刻胶种类较多，本课题组从2002年参与国家十五“863”光刻胶重大专项开始，至今近二十年来聚焦于光刻胶研究，在i-线胶、248-nm光刻胶、聚酰亚胺光刻胶、厚膜光刻胶及抗反射涂层材料等方面都取得了很好的结果，也在致力于这些光刻胶产品的产业化。 相关项目、专利及文章： 1.国家重大科技专项（02专项）子课题,课题编号:2010ZX02303（深紫外光刻胶专用光致产酸剂及新型成膜树脂的扩试技术研究） 2.国家自然科学基金应急管理项目，51641301, 含光产酸基团的苯乙烯衍生物-甲基丙烯酸酯共聚物及其组成的化学增幅光致抗蚀剂研究,2016/01-2016/12 3.One-component chemically amplified resist composed of polymeric sulfonium salt PAGs for high resolution patterning，European Polymer Journal，114（2019），11-18 4.A new type of sulfonium salt copolymers generating polymeric photoacid: Preparation, properties and application，Reactive and Functional Polymers，130（2018），118-125 5.含光产酸基团的苯乙烯衍生物-甲基丙烯酸酯共聚物、其制备及其应用，中国发明专利，专利号：9。

本发明公开了一种用于浸没式光刻的浸液温控系统，通过其获得具有稳定温度的浸液，以用于浸没式光刻工艺中，其特征在于，该温控系统包括：用于浸液流动的浸液管路，待温控的浸液通过管路进口进入该浸液管路，温控后的浸液通过该浸液管路出口输出；用于对所述浸液进行冷却的工艺冷却液回路，工艺冷却液在该回路中循环流动；以及热交换器（6），所述浸液管路和工艺冷却液回路同时流经该热交换（6），利用该热交换器（6）完成工艺冷却液和浸液的热交换，获得具有稳定温度的浸液，实现对浸液的温度控制。本发明的装置采用内部回流结构与热交换器

本发明公开了一种光刻机自动调焦方法及装置，其方法是将平行光束经第一狭缝投射至硅片表面，再经振动反射镜扫描后通过第二狭缝，由光电探测器接收光强信号，然后通过提取光强信号中二倍于扫描频率的频域成分得到硅片的粗调量，通过提取光强信号中一倍于扫描频率的频域成分得到硅片的精调量，最后由驱动装置调整硅片至焦点位置。调焦装置主要由两个狭缝、一个振动反射镜、光电传感器、驱动台和若干光学镜片组成，信号处理过程由计算机编程完成。该方法与装置相较于以往对比光斑强度进行调焦的方式，具有结构简单、响应迅速、精度高(优于 0.

项目成果/简介:顾名思义，粘结就是把两个独立的具有几何尺寸和物理性能的材料重新组合成一个新的实体。对大多数应用而言，要求粘结剂具有3个性能：1. 很好的粘结性能；2. 粘结剂材料本身具有很好的物理化学性能如强度和耐久性；3. 具有亲水或者在水环境工作性能。 对1，2点容易理解。对第3点而言，是因为绝大多数粘结应用都是需要亲水或处于水环境这样的工况。如果把第1、2点作为A方， 第3点作为B方， 那么A与B是矛盾的，好的A往往是坏的B。如果说粘结剂同时具有A 和B的属性，那么目前一种途径是开始时候让B占主导，然后慢慢过渡到A占主导。从整体到达一个平衡，而不是过渡强调A或B。而这样的过渡可以引进各类技术与方法。 天津在建的武警医院负二层墙体漏水，采用了新型粘结剂直接刷的工艺取得了较好的效果。 技术分析(创新性、先进性、独占性)传统的树脂类粘结材料以油性为多，对制作鞋或箱包制品等的注塑粘合，采用水性新型粘结材料会比油性材料带来工艺上的简便和高效益，提高质量控制。目前水性化主要是采取分子官能团和复合等技术加以实现。应用范围:应用范围及目前应用状态树脂类粘结材料具有多样性，基质包括丙烯乙烯、环氧、聚酯等等，按照生产流程和产品需求选择。效益分析:前景及经济社会效益分析等鞋或箱包制品在数量上都是巨量的，而起制成过程中，粘结起到了主要作用，具有关键技术指标。在粘结方面的改进会推动整个鞋或箱包制品行业发展个进步。知识产权类型:其他技术成熟度:可以量产技术先进程度:达到国际先进水平成果获得方式:独立研究获得政府支持情况:无