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废酸性刻蚀液电解再生技术
中国是世界上最大的印制线路板生产大国，全国此类企业大大小小约4000余家。印刷线路 板刻蚀企业生产刻蚀铜线路板后失效的废蚀刻液，里面富含铜和盐酸。本技术巧妙利用电化学 原理设计出新颖的工艺路线，在不破坏任何组分的情况下，电解提取蚀刻液中金属铜，使盐酸 回收得以循环使用。其原理如下：失效的蚀刻液在阴极室中循环，铜离子被还原沉积在阴极 上。阳极室中水被电解放出氧气，同时产生的氢离子进入阴极室与氯化铜的氯离子形成盐酸， 再生的盐酸回线路板线循环使用。
华东理工大学
2021-04-13
一种深硅刻蚀方法
本发明公开了一种深硅刻蚀方法，包括如下步骤：（1）在硅片表面制备图形化的光刻胶掩膜；（2）对硅片进行深感应耦合等离子体干法刻蚀，包括多个刻蚀阶段，每个刻蚀阶段均在感应耦合等离子体机内，通过钝化、轰击和刻蚀三个步骤交替循环加工完成，随着刻蚀深度的增加，各刻蚀阶段中轰击步骤的轰击强度逐渐增强。本发明有效解决了现有技术中侧壁垂直度及粗糙度难以控制以及大刻蚀深度难以实现的问题，在提高刻蚀效率的同时，提高了对光刻胶的选择比，刻蚀槽侧壁垂直度高，粗糙度小，刻蚀深度大。
华中科技大学
2021-04-14
一种电场辅助的硅通孔刻蚀工艺
本发明公开了一种电场辅助的硅通孔刻蚀工艺，包括步骤：（1）在单晶硅片上旋涂光刻胶并通过光学光刻或电子束光刻得到光刻胶图形 ；（ 2 ） 镀 上 银 膜 或 金 膜 ；（ 3 ） 在 电 场 之 中 ， 采 用 HF 、H<sub>2</sub>O<sub>2</sub>和去离子水的混合溶液作为刻蚀剂进行金属催化刻蚀；（4）去除光刻胶；（5）去除单晶硅片上残留的金属膜并进行清洗处理。本发明通过在刻蚀过程中控制电场强度，由此形成从数十纳米至数
华中科技大学
2021-04-14
一种变线宽激光振镜扫描快速刻蚀方法
本发明公开了一种变线宽激光振镜扫描快速刻蚀方法，本发明 利用激光束离焦后功率密度梯度变小光斑变大的原理以及高速振镜扫 描误差精确矫正方法，通过设置不同的在焦和离焦激光加工距离及对 应功率参数和激光振镜扫描参数来控制激光光斑大小，对图形填充区 采用离焦后的大光斑光栅扫描填充，然后对图形轮廓进行矢量扫描勾 勒。本发明针对不同的工作距离预先进行振镜扫描误差矫正，生成高 精度振镜扫描定位表，确保在不同激光加工距离获得同等高精
华中科技大学
2021-04-14
一种刻蚀缺陷地结构的圆极化微带天线阵
本发明涉及天线设计技术领域，公开了一种刻蚀缺陷地结构的圆极化微带天线阵，它包括：天线贴片，介质基板、反射板、同轴馈线、天线馈线、紧固塑料螺钉、功分介质板和功分电路；反射板上刻蚀缺陷地结构单元，缺陷地结构单元为矩形细缝和在其外侧的三个圆环；紧固塑料螺钉穿过介质基板，反射板和功分介质板上的非金属化过孔将其紧固为一体，解决了阵元之间的互耦会严重影响圆极化天线的驻波特性与方向图特性的技术问题。
东南大学
2021-04-13
一种高质量氧化铝陶瓷的刻蚀加工方法及装置
本发明公开了一种氧化铝陶瓷的刻蚀加工方法及装置，该方法 使洁净的氧化铝陶瓷整体位于水中，水表面到氧化铝陶瓷材料表面距 离为 2mm～12mm，利用紫外脉冲激光对氧化铝陶瓷进行扫描刻蚀加 工，刻蚀加工后的氧化铝陶瓷表面无发黑变质层和重凝层。装置包括 紫外激光器、扫描振镜，二维加工平台，以及用于装水和待加工的氧 化铝陶瓷的容器。本发明巧妙的引入“水”的因素，在一定厚度或一 定流速的水下对氧化铝陶瓷进行激光刻蚀的冷却和排渣
华中科技大学
2021-04-14
基于转印激光刻蚀石墨烯的耐用可降解柔性应变传感器
成果介绍一种高性能石墨烯柔性电子皮肤，该电子皮肤结合了一种具备脱水性的商业化妆品胶体以及可编程的激光刻写石墨烯，在无毒、环保、可大量印刷的制备加工工艺下，具有轻薄、贴合皮肤、可降解、高耐用性的特性，实现了高于500的应变系数、大于75[[[%]]]的拉伸范围以及稳定的电阻变化能力。该柔性表皮压阻式传感器可应用在生命体征监测、人机交互等领域中，目前已经将其初步应用在手势识别之中，并做出了一系列人机交互应用。技术创新点及参数采用绿色环保的新工艺，解决了传统激光刻写石墨烯脆弱的问题，实现了可编程激光刻写石墨烯的耐摩擦性、耐用性改善，且传感器可降解回收利用。
东南大学
2021-04-13
设备状态检修及风险预警
改变设备定期检修的错位现象（该检修的不检修，不该检修的使劲检修），实时采集现场设备运行数据及工况数据，以AI模型评价设备状态并预警未来风险，实现精准检修，节省成本并提高安全性，保障生产线满足生产机交货需求，减少零部件储备量。
重庆邮电大学
2025-02-21
湿法刻蚀镍酸镧薄膜和铁电薄膜/镍酸镧复合薄膜的腐蚀液及其制备方法
一种湿法刻蚀镍酸镧薄膜和铁电薄膜/镍酸镧复合薄膜的腐蚀液，由双氧水、硝酸、氢氟酸和纯净水配制而成，纯净水、双氧水、硝酸、氢氟酸的体积比为：纯净水∶双氧水∶硝酸∶氢氟酸＝1∶2～3∶0.5～1.0∶0.06～0.12。所述腐蚀液的制备方法，按上述配方在常温、常压下将计量好的纯净水与双氧水混合均匀，然后加入计量好的硝酸并混合均匀，继后加入计量好的氢氟酸并混合均匀。所述腐蚀液可干净、彻底地一次性去除SiO2 和/或Pt表面的LNO薄膜或LNO复合薄膜，得到边缘清晰、侧蚀比小的刻蚀图形。
四川大学
2021-04-11
投影设备电教设备
产品详细介绍项目：虚拟电子白板，IT网络设备，通信产品，通信服务，基站机房，指纹智能识别，防盗报警，电子产品开发，行业软件，企业和单位外包业务。 其他相关产品：投影设备电教设备，网络教室方案，虚拟电子白板——电教设备，正版系统光盘，指纹采集器，指纹卡机，指纹门禁，指纹锁，
广东九嘉通讯科技有限公司（东莞市九嘉通信科技有限公司）
2021-08-23