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报名中 | 平行论坛“标准引领的‘双一流’建设”
平行论坛“标准引领的‘双一流’建设”报名
中国高等教育学会
2025-05-16
迷你驻极式话筒
阻抗小于4欧，高灵明，抑噪比高。
宁波华茂文教股份有限公司
2021-08-23
一种塑性丝胶蛋白膜的制备方法
本发明涉及一种塑性丝胶蛋白膜的制备方法。目前还没有一种工艺简单、制备条件温和、无有毒化交联剂、有较好的力学性能的塑性丝胶蛋白膜的制备方法。本发明的特点在于：依次包括如下步骤：（1）将蚕丝蛋白原料置于浓度为7-11mol/L的LiBr溶液中，于30-100℃的条件下溶解处理0.25-15min，得到不溶胶状物；（2）将步骤（1）中得到的不溶胶状物取出，用蒸馏水洗涤数次，除去不溶胶状物中的LiBr分子，得到丝胶蛋白胶体；（3）将步骤（2）中得到的丝胶蛋白胶摊开铺平，干燥后制得塑性丝胶蛋白膜。本发明的工艺简单、制备条件温和、不添加任何化学交联剂而获得具有较好力学性能的塑性丝胶蛋白膜。
浙江大学
2021-04-11
一种复合正渗透膜的制备方法
本发明公开了一种复合正渗透膜的制备方法，用含硅脂肪二胺 部分取代多元胺作为水溶液的溶质，先将基膜在水溶液中充分浸泡后 取出并除去表面水分，再将基膜的其中一面与有机相溶液接触使得基 膜表面发生界面聚合反应，即获得所需复合正渗透膜。本发明通过引 入含有二胺和硅氧烷结构的含硅脂肪二胺改善了制备所得的复合正渗 透膜的性能，氨基作为活性基团参加界面聚合反应，而硅氧烷极易水 解，硅氧基转变成亲水性的羟基，复合正渗透膜的渗透性、亲
华中科技大学
2021-01-12
膜法中成药制备新工艺技术
本成果采用陶瓷超微滤膜、纳滤膜等分离技术的单项或者集成设计方法，替代中药传统的醇沉工艺和多效蒸发工艺，实现中药组分的纯化和浓缩。关键之一在于根据中药浸提液的构成，优化设计和生产陶瓷膜元件，优选必要的高分子超滤膜或者纳滤膜。所生产的膜分离装置采用了多项专利技术，能提高有效组分得率和产品液的澄清度，降低原材料成本，高效节能、显著降低废液排放量、消除溶剂对环境的污染。
南京工业大学
2021-01-12
膜法中成药制备新工艺技术
采用陶瓷超微滤膜、纳滤膜等分离技术替代传统的醇沉发，不但减少了药物有效成分损失、提高产品质量，而且缩短了生产周期、降低生产成本，并易于工业化放大。技术指标：本技术具有我国资源特色，在国内外均属首创，形成了具有我国自主知识产权的成套技术与装备。可根据中药厂需要，提供不同提取工艺及装备，该成果已有20多个工业化成功应用案例。例如在敖东制药公司，采用陶瓷膜技术进行血符口服液的生产，与传统的醇沉工艺相比，节约乙醇消耗70%以上，生产周期节约30%。
南京工业大学
2021-04-13
绿色环保型化学转化膜的制备
目前我国每年的钢铁产量已高达亿吨，但其中却有 30%由于腐蚀而白白损 失掉。据初步统计，我国每年因金属腐蚀造成的经济损失约占当年国民生产总 值的 4%。涂层（涂装）体系由金属表面的预处理层（即化学转化膜）与防护性 的有机涂层组成，其中化学转化膜是金属表面处理领域不可缺少的一道工序， 其一是为基体提供短期的防护性能，更重要的则是为基体与后续涂层间提供良 好的结合力。目前工业上对钢铁件及铝（合金）（涉及到汽车、家电，机械制 造等多个行业）分别采用磷酸盐转化处理（磷化）与铬酸盐钝化处理得到相应 的化学转化层，然而，磷化工艺因沉渣废液的排放对生态环境造成富磷污染而 逐渐被淘汰；为此，发展环境友好型的金属表面预处理层技术取代应用广泛但 污染环境的磷化工艺已迫在眉睫。
山东大学
2021-04-13
自清洁涂膜的制备及其产业化
自清洁涂层能够将表面污染物或灰尘颗粒在重力、雨水、风力等外力 作用下自动脱落或通过光催化降解而除去，具有节水、节能、环保等 优点，在建筑、交通、新能源等行业具有重要应用前景，是一种新型 的先进功能涂料。本项目通过纳米 TiO2 粒子与水性无机-有机杂化成膜物相结合，制备 了水性 TiO2 基自清洁涂料。该涂料可直接涂覆于乳胶漆膜表面，通 过阳光光照下聚合物的选择性光解，获得超亲水表面，表现出具有极 好的实际自清洁效果(如图，水性纳米 T
复旦大学
2021-01-12
一种纳米/微米金膜及其制备方法
本发明公开了一种纳米/微米金膜及其制备方法。所述纳米/微米金膜，包括基质和纳米/微米金层，所述纳米/微米金属层由金属纳米颗粒沉积而成，所述基质表面具有氨基，所述金属纳米颗粒与所述基质表面氨基形成强相互作用。所述制备方法包括以下步骤：(1)将基质表面进行氧等离子处理或紫外光照射；(2)将表面活化的基质，浸入 3-氨丙基三乙氧基硅烷溶液中；(3)取氯金酸和强碱的碳酸氢盐的混合溶液与葡萄糖溶液均匀混合，并涂布于表面氨基化的基质上，避光反应得到所述纳米/微米金属膜。本发明提供纳米/微米金膜，基质种类多，能满
华中科技大学
2021-04-14
半导体光刻胶成膜树脂制备技术
1.痛点问题
光刻胶作为集成电路制备中不可或缺的一部分，已成为国家的战略资源之一。半导体光刻胶的核心在于成膜树脂，受限于研发难度大、专利壁垒高、资金投入多、准入门槛高，目前国内企业尚难以突破KrF胶（248nm）或ArF胶（193nm），而EUV胶完全不能自主供给。
2.解决方案
本项技术采用了国际最前沿的纳米氧化物团簇材料的工艺路线，可以实现单2nm小分子的光刻胶成膜树脂材料，攻克了材料合成和纳米材料提纯的难题，可满足目前半导体3nm制程节点的技术要求，RLS分辨率、边缘粗糙度、灵敏度三项关键性能指标优异，其曝光剂量远低于Intel公司提出的20mJ/cm2的成本线。此外，本项技术具有多种半导体光刻胶兼容性，可以生产248nm和193nm光源的半导体光刻胶成膜树脂，以及电子束半导体掩膜用光刻胶成膜树脂，具有广阔的技术替代优势和市场应用前景。
3.合作需求
本项技术已设立衍生企业，位于江苏常州的3000m2研发生产中心正在建设中。
1）融资需求：本轮天使轮融资6000万元。
2）资源对接需求：集成电路芯片制造、掩膜板生产企业，地方政府等。
清华大学
2022-07-12