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新型阳极氧化法种植体表面处理技术
影响骨整合性能的诸多因素中,种植体的表面特性是重要因素之一。因此,开发先进的牙种植体表面处理技术和工艺是成功开发具有竞争力的种植体系统的重要技术保障。瑞典的Nobelbiocare公司于2000年推出采用阳极氧化工艺制备的TiUnite表面,成为该公司的特色技术,在商业种植体生产企业中独树一帜。TiUnite表面具有0.5~3 μm的火山口状的微孔,主要含晶相二氧化钛和磷元素,具有良好的骨传导性。该表面的缺点是表面的孔径过小,根据仿生学观点,最优的表面应该具有类似自然骨吸收表面形貌。本项目通过采用新的电源模式和新的电解液配方,在钛种植体表面构建出类似骨吸收陷窝的微米凹坑结构形貌(15~40 μm),进一步采用二次阳极氧化法和碱热处理法制备亚微米微孔结构和纳米结构,最终获得仿生微米-亚微米-纳米复合多孔形貌。该技术有望成为新一代的种植体表面处理技术。
四川大学 2016-04-18
纳米氮化钒粉体的制备方法
一种纳米氮化钒粉体的制备方法,工艺步骤依次为:(1)前驱体的制备,以V2O5和草酸为原料,V2O5与草酸的重量比为1∶1~1∶3,将所述配比的V2O5和草酸放入反应容器并加水,然后在常压、40℃~70℃进行搅拌,直到V2O5和草酸的还原反应完成为止,还原反应完成后,将所获溶液蒸干即得到前驱体草酸氧钒;(2)前驱体的氨解,将所获前驱体草酸氧钒放入加热炉,在流动氨气氛围中加热至600℃~750℃进行氨解,保温10分钟~3小时后关闭加热炉电源,保持炉内氨氛围,待分解产物冷却至100℃以下取出,即获得纳米氮化钒粉体。
四川大学 2021-04-11
氮化铝薄膜和高频滤波器
高效率制备高品质氮化铝薄膜,并研究应用于 4G、5G 通信(智能手机和基站)的高频滤波器。制备薄膜质量高于现有工艺,制备效率提高十倍以上。作为制备滤波器的关键薄膜性能指标,薄膜的取向性良好(XRD摇摆曲线半高宽2度左右), 薄膜表面起伏小于 1 纳米;薄膜制备效率比传统工艺提高 10 倍以上 
中国科学技术大学 2021-04-14
氮化镓陶瓷薄膜电路的激光直写
LPKF ProtoLaser R4可针对敏感基材实现高精度加工
乐普科(天津)光电有限公司 2022-06-22
一种涂层钛阳极及其喷涂热解制备方法
本发明属于电化学工程的电极制备领域,更具体地,涉及一种涂层钛阳极及其喷涂热解制备方法。包括如下步骤:(1)在预处理后的钛板表面涂覆抗氧化层;(2)控制钛板温度在 250~300℃之间,将电极制备原料浆液雾化喷涂至所述钛板的抗氧化层表面;(3)对所述钛板行高温烧结处理,得到所述涂层钛阳极。本发明采用喷涂技术结合分步热处理的方法制备涂层钛阳极,巧妙地克服了现有技术刷涂法存在的涂层高温烘烤易发生干裂而导致电极寿命短的技术缺陷;实现了快速精确制备涂层钛阳极,且制备成本低,产品质量可控。在保证性能的前提下,极
华中科技大学 2021-04-14
氮化镓高压电力电子器件
已有样品/n基于AlGaN/GaN异质结材料体系,通过采用导电机制融合和能带分区调控的先进技术路线改变传统氮化镓肖特基二极管正向电压与反向电流等参数之间的经典调控规律,采用无损伤工艺,提升了器件的均匀性和可靠性,进一步提升了氮化镓肖特基二极管的性能。测试结果达到1700V反向耐压,正向开启电压达到0.38V以及高防浪涌能力,为肖特基二极管器件市场提供了一种新选择。
中国科学院大学 2021-01-12
氮化硅超细粉流态化制备技术
氮化硅陶瓷是一种耐高温耐磨材料,广泛用于冶金、化工、能源等领域,氮化硅粉是制备氮化硅的原材料。实验室提出了一种流态化直接氮化制备超细粉方法,可低成本生产晶相和非晶相氮化硅粉。
北京科技大学 2021-04-13
一种 MEMS 陀螺仪芯片双面阳极键合工艺
本发明提出这样一种阳极键合工艺方法:将 MEMS 陀螺仪器件层沉积到临时高分子衬底上,完成金属电极沉积和 MEMS 结构刻蚀之后,将临时高分子衬底用化学机械抛光的方法去除。去除之后,将玻璃基体和玻璃盖帽分别紧贴 MEMS 结构的两侧,加电加热后一次完成双面阳极键合。这种工艺方法与传统的两次阳极键合分两步进行相比,更加节省成本,而且避免了第二次阳极键合对第一次阳极键合强度削弱这个固有缺点,使得产品可靠性提高。
华中科技大学 2021-04-14
关于氮化物半导体掺杂研究的进展
采用红外光谱和拉曼光谱技术,克服了GaN中强烈的剩余射线带相关反射区导致的测量难题,实验中观察到半绝缘GaN中与C有关的两个局域振动模,并结合第一性原理计算,给出了C杂质在GaN中替代N位的直接证据,解决了这一长期存在的争议问题。该成果对于理解和认识C杂质在AlN、BN、ZnO等其他六方对称化合物半导体材料中的掺杂行为亦具有重要的参考价值。
北京大学 2021-04-11
成分振荡金属氮化物涂层的制备方法
本发明属于表面工程技术的应用,具体是成分振荡金属氮化物涂层的制备方法,在等离子体偏压反溅清洗过的表面平整的基片上,以反应溅射工艺模式在基片表面沉积成分振荡金属氮化物涂层,沉积过程中,通过改变N2气与Ar气的分流量或分气压来控制溅射气体中N2气与Ar气的含量比,且N2气与Ar气的含量比变化曲线随涂层沉积时间呈现出周期性变化规律。本发明制得的涂层中N元素的含量比沿涂层生长方向的分布具有振荡特征;涂层是由多个亚层组成的多层结构,而每一亚层中N元素含量比的变化呈现梯度分布特征,该涂层具有梯度化与多层化的双重复合结构特征。
四川大学 2016-09-29
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