本发明涉及一种大型复杂金属表面等离子体与脉冲放电复合抛 光加工装置，目的是解决常规金属表面精密加工和抛光方法的不足及 加工和抛光效率低、易产生加工应力和表层损伤等问题。该装置包括 射频电源、射频电源匹配器、高压直流脉冲电源、脉冲电源极性调节 装置、高压直流脉冲电源阻抗、等离子体炬、加工保护罩、控制电路 和联动机构；本发明是在大气压下对金属的表面的精密加工和抛光， 不需要真空室和特制的抛光液，可降低设备成本并扩大其使用范围。 加工效率是传统抛光方法的几倍，并且是无应力加工，无表面和亚表 层损伤、无表面污染，抛光工件的表面粗糙度可达到 Ra-0.2μm。 

本实用新型提供了一种黄曲霉毒素的螺旋式等离子体降解装置，所述黄曲霉毒素的螺旋式等离子体降解装置设有等离子发射器、等离子体发生器、螺旋塔装置、控制面板。本实用新型提供了一种黄曲霉毒素的螺旋式等离子体降解装置，主要用于粮食表面的黄曲霉毒素的降解。物料在重力和螺旋离心力的作用下，缓慢的从螺旋塔上部流到下部，保证每颗物料都均匀地受到等离子体的作用。该装置可以进行连续化作业，降解速度快，效率高，处理环境温度低，无溶剂残留，无环境污染，且能保证物料的色香味及营养成分不被破坏。

本发明提供了一种基于等离子体源的双高频高压信号同步调试方法，步骤S01：对于不存在信号输出端口的高频电源端从高压输出端进行采样。步骤S02：从高压输出的信号首先经过采样电路等比例采样到ADC的输入范围±5V以内，通过ADC和RAM系统的通信完成逻辑的控制运行。步骤S03：获取采样数据并处理，过固定的延时，通过GPIO口输出PWM信号给另外一台电源的IGPT控制端口，通过延时来实现两个电源从某一时刻达到信号的同步输出。本发明能够精确地调节和同步高频与高压信号，确保等离子体源在最佳工作状态下运行。不仅提高了信号的同步性和稳定性，还具有较高的自动化水平，能够在复杂环境下实现对信号源的精确控制。

一种等离子体发射光谱法检测重金属污染方法，对样品的发射光谱进行实时采集，根据不同重金属元素的特征发射波长对光谱数据进行识别，以标准样品的浓度为横坐标，光谱峰值强度为纵坐标，绘制标准校准曲线；将待测样品的光谱峰值强度代入标准校准曲线，计算出重金属元素的浓度，在对样品的发射光谱进行实时采集前，利用放电等离子体对样品进行处理，如果样品是液体时，将液体样品吸附在载体上进行处理。本发明在检测过程中，利用放电等离子体，能够激发重金属元素，提高检测效率，适用于快速响应的应用场景。此外，该方法无需昂贵的真空设备或复杂的化学试剂，并通过标准曲线校准，可实现对重金属元素的准确定量分析，检测精度高且结果稳定可靠。

成果简介： 回转体构型运动副在重大装备及精密装备中应用广泛，各类主机的工作精度、性能、寿命、可靠性等指标均与回转体运动副的性能密切相关，然而其空间结构的复杂性及高的功能特性要求对其制造工艺提出了巨大挑战。复杂构型回转体运动副表面要求耐磨、减阻并具有较高的疲劳强度，需要较高的表面面型精度。目前回转体构型零件淬硬表面一般采用固结磨料面接触制造工艺实现，然而固结磨料制造技术易于造成磨削烧伤及表面裂纹，影响零件的性能及使用寿命。此外，某些精密元器件或者特殊环境下工作的元器件在使用过程中表面会附着污染物、粉尘等物质而导致腐蚀或者性能下降，常规的机械作用强度较大，易于导致表面损伤，耦合化学、机械以及超声振动的表面精密修整工艺能够柔顺覆盖材料全表面，确保精准去除表面缺陷、污染物的同时避免附加损伤；此外某些工件空间尺寸较小且内外表面工艺结构复杂，蕴含大量的边、角、棱结构，易于导致制造工艺末端缺陷（毛刺）并对运动副配合表面造成损伤，严重影响使用性能，确保已加工表面的面形精度同时高效去除表面末端缺陷已成为迫切需要解决的生产实际问题。常规刚性工具难以实现表面的精准吻合而无法实现全表面精密修整，而基于自由磨料的液态柔性磨具可以实现容器空间的全部填充，实现工具-工件的全表面精准吻合并避免表面附加损伤，是复杂构型零件表面精密修整与清洗的理想工艺。基于上述分析，课题组开发了复杂构型表面精密修整清洗多功能一体机。表面精密修形是在柔性工具对零件表面廓形进行拟合运动的基础上通过表层材料的塑性流动、小尺度材料剥离实现表面几何特征属性的全面提升，柔性工具与零件表面之间的弱机械作用可以在提高零件表面微观几何精度的同时有效避免附加损伤，然而目前为止获得纳米级表面粗糙度仍然主要依靠熟练操作者的手工研抛为主，生产效率低、劳动强度大、最终表面质量严重依赖于操作者个人的技术水准，难以保证高精度复合曲面制造精度的稳定性。复杂构型表面精密修整清洗多功能一体机将有助于实现表面精密修整、去污的一体化，降低生产成本，提高生产效率，具有广阔的市场前景。 市场分析及前景： 表面精密修整清洗一体化技术在许多行业都具有较好的应用前景：一、机械零部件在电镀前后的清洗或喷涂前的清洗，拆修零部件的清洗，要求高清洗度，如油泵油嘴偶件、轴 承、制动器、燃油过滤器、阀门的清洗。二是印制电路板、硅片、晶片、元器件壳、座、铁路系统用的信号控制继电器、元器件、连接件、显像管以及电真空器件等的清洗。三是眼镜、显微镜、望远镜、瞄准具等光学系统及取样玻璃片的清洗。四是医用器具、食品、制药、生化等试验中所用各种瓶罐的清洗。五是喷丝头、精密 模具、精密橡胶件、珠宝工艺品等的清洗。天津大学科技成果选编我国现有各类超声设备制造企业上百家，分布主要集中在东南沿海地区。据统计资料，沿海地区的厂家占全国总数的 85%，可见经济发达地区对超声波表面修整技术的应用广泛，普及程度高，这也证明超声波清表面修整技术推广普及的前景十分广阔。 主要技术指标： [1] 精密修整后的表面粗糙度小于 1nm，边、角、棱结构处的末端缺陷消失； [2] 表面光滑亮泽，无油污及颗粒物附着。 技术水平及知识产权认定情况情况：本成果属于国际先进水平，成果归独家所有。 应用领域：工程机械、微电子系统、光学精密仪器，医疗器械等 合作方式及条件：技术入股 

本实用新型提供一种贝类捕捞清洗设备，包括船体，船体中设置有安装仓、清洗仓和存储仓，清洗仓和存储仓之间还设置有网链输送机；还包括捕捞组件和清洗组件，捕捞组件包括：吸盘、伸缩机构和文丘里喷射泵，伸缩机构设置在船体的底部，吸盘设置在伸缩机构上，文丘里喷射泵的进口与吸盘连接，文丘里喷射泵的出口连接有输送管，输送管的自由端口设置在清洗仓中并位于网链输送机的上方；清洗组件包括吸水泵和喷淋管，吸水泵的进水口连接有进水管，进水管延伸至船体的下方，吸水泵的出水口与通过管道与喷淋管连接，喷淋管设置在清洗仓中并位于网链输送机的上方。实现自动捕获并清洗贝品，以降低工人劳动强度并提高捕获效率。

产品详细介绍 产品简介RD-15D反渗透去离子纯水机配置有在线电阻率仪，出水水质一目了然。出水水质：13-16MΩ-cm 25℃，0.077-0.063 µs/cm，脱盐率：近100%，1个反渗透水出水口＋1个去离子水出水口，出水量：15升/小时 RD-15D反渗透去离子纯水机详细介绍 RD-15D反渗透去离子纯水机融合各种尖端水处理技术和过程控制方法于一体，将自来水直接转化为超纯水，出水水质完全符合ASTM、NCCLS I级、GB6682-92 I级和GB/T11446-1997 I级等规定的用水要求。广泛适用于化学、生物、制药、医学、微电子、半导体等领域，满足光谱分析、色谱分析、细胞培养、蛋白纯化、分子生物学等的应用要求。精选全球优质组件：● RO膜：美国DOW陶氏、美国FCS● 泵、机箱：美国Kflow● 预处理组件：美国Kflow● 自动控制组件和安全保护装置：美国Kflow、美国Sciencetool融入世界尖端科技：● RO膜采用美国太空总署NASA研发的反渗透技术，脱盐率>99%，除菌率>99.5%● 二级混床保证出水水质，延长超纯柱寿命；特有内循环功能，时刻保证顶级水质● RO膜自动防垢冲洗，24小时全自动运行● 长效预过滤器，2年不用更换，降低使用成本，延长后续过滤组件寿命

本实用新型提供了一种黄曲霉毒素的连续式等离子体—紫外耦合降解装置，所述装置设计有等离子体发射器、等离子体发生器、紫外光源、传送带、总控制面板。该装置主要用于粮食中黄曲霉毒素的降解。该装置利用紫外光源和等离子体协同降解黄曲霉毒素，可用于工业化连续生产。该装置结构简单，操作方便，可以快速连续化地降解每粒表面的黄曲霉毒素，降解过程低温、无溶剂残留，无环境污染，且处理后的物料保持原有的色香味及营养品质。

本发明公开了一种空气等离子切割机单传感器引弧电路及其控 制方法。该引弧电路包括输入电源、移相全桥模块、滤波模块、引弧 吸收模块、维弧模块、检测模块、高频模块、控制模块。本发明的控 制方法仅用一个电流检测霍尔来实现引弧的控制，具体方法如下：先 获取引弧电路的参数，计算出适合的占空比增加速度，再结合检测到 的输出电压和输出电流信号，进行引横弧控制，最后把控制信号送入 驱动模块，产生驱动信号并送入移相全桥。本发明的控制方法使得引 弧电阻上的电流电压波形为锯齿波，大大减小了引弧电阻的功率等级， 提高了切割机

（专利号：ZL 201410375287.6） 简介：本发明公开了一种Ag/AgBr胶体球光催化剂的制备方法，属于光催化剂领域。该光催化剂活性组分是Ag/AgBr，其结构似胶体球，分散性好，粒径为100～900nm。上述Ag/AgBr胶体球制备过程简单，采用一步法完成。以PVP和CTAB为表面活性剂，同时，CTAB也是Br-的来源，首先在一定温度下使二者溶解在乙二醇中，加入AgNO3，然后在155℃下反应15min，便得到Ag/AgBr胶