产品详细介绍  三用紫外分析仪,暗箱式紫外分析仪 三用紫外分析仪,暗箱式紫外分析仪,手提式紫外分析仪,台式紫外分析仪,凝胶成像系统,紫外灯管，紫外分析仪生产厂家，紫外分析仪用途，紫外分析仪原理 UVG25型紫外割胶仪  产品简介：领成UVG15 /UVG20 /UVG25型紫外割胶仪（暗箱替代型），结构现代，替代传统的庞杂的暗箱型紫外分析仪。 特别采用302nm波长对样品的破坏作用更小，它可适用于DNA、RNA电泳凝胶样品的观察，可检测蛋白质，核甘酸等，在制药工业中检查激素生物碱、维生素等能产生萤光的药品质量，对薄层分析，各种同功酶，纸层分析进行观察分析和摄影，并可作为PCR技术的专用仪器。  二、仪器结构 仪器装有二组透射紫外光源，提供不同的光强度。并专业设计的进口防紫外玻璃盖，可对样品全面直观地观察分析，紫外玻璃盖能过滤99%以上的紫外线  三、技术参数

目前半导体光刻加工用的深紫外光刻胶都采用化学增幅体系，这种体系主要由含酸敏基团的成膜材料和光产酸剂组成，这种体系最大的问题是光产酸在后烘阶段会发生酸迁移，导致光刻分辨率难以提高。能够有效改善酸迁移问题的一种方法是采用高分子光产酸剂，且其光产酸是高分子强酸。 课题组研制了一系列新颖的含多种鎓盐光产酸基团的苯乙烯衍生物及其与甲基丙烯酸酯的共聚物。它们在曝光过程中产生大分子的磺酸，因此可作为大分子光产酸剂与其它成膜材料一起组成化学增幅型光致抗蚀剂。 以之为产酸剂与其它部分保护的对羟基苯乙烯聚合物一起组成二组分的化学增幅型248-nm光刻胶， 制备了苯乙烯磺酸鎓盐和甲基丙烯酸酯、对羟基苯乙烯的三元共聚物，再用可酸分解的叔丁基碳酸酯保护部分酚羟基，由其组成了单组分的化学增幅型248-nm光刻胶，这些正型248-nm光刻胶获得了高感度（20-50mJ/cm2）、高分辨率(0.15-0.20微米)和留膜率（＞99%）及图形线条平滑陡直等的出色表现。  利用高分子产酸剂透明性好的特点，还制备了厚膜248-nm光刻胶，可获得线宽0.34微米、高-宽比可达5：1的光刻图形：  在此基础上，还制备了负型248-nm光刻胶，这些光刻胶也都获得了很好的光刻成像性能表现。这些高分子光产酸剂也可用于制备新型的高性能193-nm光刻胶。 这些248-nm光刻胶的主要组分除了溶剂外都是自行制备，原料易得，反应条件温和可控，去金属杂质的方法也是简便易行，成本相对低廉，在经过多年的深入研究之后，完全具备了产业化的条件。 半导体加工的关键设备、材料主要掌握在美、日手中，对我国电子工业的平稳发展带来困难和潜在的巨大威胁。其中光刻胶作为芯片光刻加工的关键材料，日本公司的产品占据全球市场的70%以上，而我国在中高端产品上（248-nm光刻胶、193-nm光刻胶）完全依赖进口，即便是低端的i-线光刻胶国产化率也只有20%左右。因此，我们必须尽快扭转这种不利的局面，这需要科研工作者和产业界共同努力以及政府的大力支持。     近年来光刻胶引起了社会的广泛关注，已有多家企业开始投身于248-nm光刻胶与193-nm光刻胶的研发与产业化，但绝大部分仍处于研发阶段。我们研制的光刻胶具备了产业化的技术条件并具有与国外先进光刻胶产品竞争的产品性能。    半导体加工用光刻胶种类较多，本课题组从2002年参与国家十五“863”光刻胶重大专项开始，至今近二十年来聚焦于光刻胶研究，在i-线胶、248-nm光刻胶、聚酰亚胺光刻胶、厚膜光刻胶及抗反射涂层材料等方面都取得了很好的结果，也在致力于这些光刻胶产品的产业化。 相关项目、专利及文章： 1.国家重大科技专项（02专项）子课题,课题编号:2010ZX02303（深紫外光刻胶专用光致产酸剂及新型成膜树脂的扩试技术研究） 2.国家自然科学基金应急管理项目，51641301, 含光产酸基团的苯乙烯衍生物-甲基丙烯酸酯共聚物及其组成的化学增幅光致抗蚀剂研究,2016/01-2016/12 3.One-component chemically amplified resist composed of polymeric sulfonium salt PAGs for high resolution patterning，European Polymer Journal，114（2019），11-18 4.A new type of sulfonium salt copolymers generating polymeric photoacid: Preparation, properties and application，Reactive and Functional Polymers，130（2018），118-125 5.含光产酸基团的苯乙烯衍生物-甲基丙烯酸酯共聚物、其制备及其应用，中国发明专利，专利号：9。

目前半导体光刻加工用的深紫外光刻胶都采用化学增幅体系，这种体系主要由含酸敏基团的成膜材料和光产酸剂组成，这种体系最大的问题是光产酸在后烘阶段会发生酸迁移，导致光刻分辨率难以提高。能够有效改善酸迁移问题的一种方法是采用高分子光产酸剂，且其光产酸是高分子强酸。 课题组研制了一系列新颖的含多种鎓盐光产酸基团的苯乙烯衍生物及其与甲基丙烯酸酯的共聚物。它们在曝光过程中产生大分子的磺酸，因此可作为大分子光产酸剂与其它成膜材料一起组成化学增幅型光致抗蚀剂。 以之为产酸剂与其它部分保护的对羟基苯乙烯聚合物一起组成二组分的化学增幅型248-nm光刻胶， 制备了苯乙烯磺酸鎓盐和甲基丙烯酸酯、对羟基苯乙烯的三元共聚物，再用可酸分解的叔丁基碳酸酯保护部分酚羟基，由其组成了单组分的化学增幅型248-nm光刻胶，这些正型248-nm光刻胶获得了高感度（20-50mJ/cm2）、高分辨率(0.15-0.20微米)和留膜率（＞99%）及图形线条平滑陡直等的出色表现。   利用高分子产酸剂透明性好的特点，还制备了厚膜248-nm光刻胶，可获得线宽0.34微米、高-宽比可达5：1的光刻图形：   在此基础上，还制备了负型248-nm光刻胶，这些光刻胶也都获得了很好的光刻成像性能表现。这些高分子光产酸剂也可用于制备新型的高性能193-nm光刻胶。 这些248-nm光刻胶的主要组分除了溶剂外都是自行制备，原料易得，反应条件温和可控，去金属杂质的方法也是简便易行，成本相对低廉，在经过多年的深入研究之后，完全具备了产业化的条件。 半导体加工的关键设备、材料主要掌握在美、日手中，对我国电子工业的平稳发展带来困难和潜在的巨大威胁。其中光刻胶作为芯片光刻加工的关键材料，日本公司的产品占据全球市场的70%以上，而我国在中高端产品上（248-nm光刻胶、193-nm光刻胶）完全依赖进口，即便是低端的i-线光刻胶国产化率也只有20%左右。因此，我们必须尽快扭转这种不利的局面，这需要科研工作者和产业界共同努力以及政府的大力支持。     近年来光刻胶引起了社会的广泛关注，已有多家企业开始投身于248-nm光刻胶与193-nm光刻胶的研发与产业化，但绝大部分仍处于研发阶段。我们研制的光刻胶具备了产业化的技术条件并具有与国外先进光刻胶产品竞争的产品性能。    半导体加工用光刻胶种类较多，本课题组从2002年参与国家十五“863”光刻胶重大专项开始，至今近二十年来聚焦于光刻胶研究，在i-线胶、248-nm光刻胶、聚酰亚胺光刻胶、厚膜光刻胶及抗反射涂层材料等方面都取得了很好的结果，也在致力于这些光刻胶产品的产业化。 相关项目、专利及文章： 1.国家重大科技专项（02专项）子课题,课题编号:2010ZX02303（深紫外光刻胶专用光致产酸剂及新型成膜树脂的扩试技术研究） 2.国家自然科学基金应急管理项目，51641301, 含光产酸基团的苯乙烯衍生物-甲基丙烯酸酯共聚物及其组成的化学增幅光致抗蚀剂研究,2016/01-2016/12 3.One-component chemically amplified resist composed of polymeric sulfonium salt PAGs for high resolution patterning，European Polymer Journal，114（2019），11-18 4.A new type of sulfonium salt copolymers generating polymeric photoacid: Preparation, properties and application，Reactive and Functional Polymers，130（2018），118-125 5.含光产酸基团的苯乙烯衍生物-甲基丙烯酸酯共聚物、其制备及其应用，中国发明专利，专利号：9。

本发明公开了一种用于浸没式光刻的浸液温控系统，通过其获得具有稳定温度的浸液，以用于浸没式光刻工艺中，其特征在于，该温控系统包括：用于浸液流动的浸液管路，待温控的浸液通过管路进口进入该浸液管路，温控后的浸液通过该浸液管路出口输出；用于对所述浸液进行冷却的工艺冷却液回路，工艺冷却液在该回路中循环流动；以及热交换器（6），所述浸液管路和工艺冷却液回路同时流经该热交换（6），利用该热交换器（6）完成工艺冷却液和浸液的热交换，获得具有稳定温度的浸液，实现对浸液的温度控制。本发明的装置采用内部回流结构与热交换器

可以量产/n该项目的研究目标是采用多传感器信息融合技术设计一套能够检测并准确定位紫外灾害信息的紫外／可见双光谱相机，该仪器应具有紫外灵敏度高、虚警率低、分辨率好、紫外信号定位准确，可进行图片和视频拍摄、实时性好，支持移动拍摄、图像存储且与PC机之间方便的数据通信等特点。通过项目的研究使电力部门能够及时发现电晕放电、森林管理部门及时发现火灾隐患，准确定位紫外灾害信号并采取相应措施，将紫外灾害引起的损失降到最低，符合节能降耗新型发展观要求。市场前景:推广中。

利尔达紫外线空气消杀机是一种受自然界启发的空气净化系统，它采用了内置紫外线照射的技术，通过引导空气循环，使空气得到消毒和净化，同时也保证了环境和人类不会受到紫外线的伤害和影响。   一、工作原理   它是从进气口的变速风扇将空气吸入含有紫外线（UV-C）光源的封闭室，从而对空气进行安全过滤和消毒。这个腔体是进行消毒灭菌的地方，紫外线（UV-C）滤芯安装在设备内部，每小时最大可处理30立方米的空气消毒，平均使用寿命为12个月。滤芯更换方便，并能长期保证净化功能。   二、优势明显   ●经验可杀灭99.9%的病毒和细菌   ●产品设计安全且能持续消毒   ●在打开空调的环境内使用效果更理想   ●静音运行，舒适清静   ●无UV-C泄露及无臭氧杀菌，对人更安全   三、应用场景   广泛应用于医院、酒店、学校、办公室、餐厅、商店、酒吧、家庭等场所。   它拥有壁挂式、落地式、平铺摆放以及悬吊式四种灵活的安装方式。目前该产品的控制方式是通过设备上集成按钮实现。   四、测试认证   根据ISO15714标准对不同种类的细菌，病毒和其他微生物进行了测试。该设备还符合空气净化器上IEC60335-2-65标准中规定的安全要求。

自助服务终端一体机银行政务海关酒店医院智能报道缴费工位机终端

天津工业大学生命科学学院生物医学工程专业教师与天津市胸科医院呼吸重症专家对临床需求进行技术探讨，确定医护人员亟需便携式紫外消毒设备，是阻断病毒传播和保护自己的重要“武器”之一。生命科学学院一方面发动师生进行消毒设备的技术调研，一方面积极从各种渠道筹集所需要的基本原材料，一周内在家庭实验室中成功赶制出第一批含着“杀毒芯”的杀毒装备，并于2月17日送至胸科医院重症监护室。杀毒宝具有紫外和臭氧消毒的双重功能。紫外消毒技术具有其他技术无可比拟的杀菌效率，杀菌效率可达99%~99.9%，其中深紫外线（200-280nm）是紫外波段最具有杀菌消毒作用的部分。紫外线主要作用于微生物的DNA，破坏DNA结构，使之失去繁殖和自我复制的功能从而达到杀菌消毒的目的。此外，深紫外线能通过与空气中氧气作用，产生有强氧化性的臭氧，从而杀死病毒。杀毒紫外线的安全使用需注意一定使用规范，本设备专门设计了定时和单键触发功能，可有效减少使用人员和深紫外的接触，保护使用者。 2020年2月17日，天津工业大学生命科学学院王慧泉副教授带着天工大—胸科医院“深呼吸”联合实验室自制的2套杀毒宝和4套含着“杀毒芯”的杀毒包，送至胸科医院重症监护室的赵晓赟主任手中，为医生进行了培训和使用演示，希望对控制病毒传播，保护临床工作者作出自己的贡献。研发团队决定将本技术资料无偿开放给具有生产能力的相关厂家，希望可快速生产，为阻断新冠病毒传播提供有利工具。

可以量产/n紫外灯固化传动系统可用于环氧树脂和光敏胶的固化，可以自动将固化工件从进料口传送到出料口。传送带的运动速度连续可调。该系统适用于电子元器件、光学零件的固化。市场前景:推广中。

本实用新型公开了一种紫外 LED 器件，它包括紫外 LED 芯片、玻璃盖板和陶瓷基座；所述玻璃盖板边缘设有焊料环；所述陶瓷基座上开设有用于放置紫外 LED 芯片的凹槽，所述陶瓷基座上于所述凹槽的外围设有环形金属焊框；所述焊料环与金属焊框通过感应局部加热的焊接方式连接在一起。本实用新型的目的是解决紫外 LED 器件封装难题，通过结构设计与感应局部加热实现玻璃盖板与陶瓷基座间的低温封装，提高紫外 LED 器件的封装效率与可靠性。