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微纳米压印光刻工艺及装备
微纳米结构成形是光电子制造中的核心工艺之一。压印光刻克服了传统光学光刻中光学衍射效应的限制,是一种经济、高效、高分辨的结构成形方法。 正在探索的压印工艺方法包括:UV-NIL、模板电诱导自组装纳米成形、电润湿驱动纳米压印等。   正在探讨压印光刻的应用领域包括:集成电路(IC)、微机电系统(MEMS)、生物微流控、光波导、光或磁存储、有机光电子、平板显示等器件的制造。
西安交通大学 2021-04-11
压印法集成电路光刻技术
本项目提出一种创新的集成电路(IC)制造工艺路线,即压印光刻(Imprint Lithography-IL)技术,并对该技术相关的压印和脱模工艺机理、紫外光固化阻蚀胶材料的物化和工艺特性、与IC制造其它工艺的综合集成和优化、压印光刻设备的关键技术等进行研究和技术开发。其基本原理为:以电子束直写刻蚀(或其它刻蚀技术)生成IC图型母板(模具),以母板(模具)步
西安交通大学 2021-01-12
一种纳米压印制备柔性透明表面增强拉曼散射基底的方法
本发明专利公开了一种柔性透明表面增强拉曼散射基底的制备 方法。该方法结合了多孔氧化铝模板与纳米压印技术。首先,利用阳 极氧化方法制备了多孔氧化铝模板;然后,在多孔氧化铝模板上沉积 贵金属纳米颗粒;最后,利用纳米压印技术将多孔氧化铝模板的纳米 结构和贵金属纳米颗粒转移到聚合物薄膜上,得到一种柔性透明的表 面增强拉曼散射基底。基底具有优异透明性、柔性、均匀性及高灵敏 度,可以应用在瓜果蔬菜表面农药残留的原位探测、水溶液中
华中科技大学 2021-04-14
一种纳米压印制备柔性透明表面增强拉曼散射基底的方法
本发明专利公开了一种柔性透明表面增强拉曼散射基底的制备 方法。该方法结合了多孔氧化铝模板与纳米压印技术。首先,利用阳 极氧化方法制备了多孔氧化铝模板;然后,在多孔氧化铝模板上沉积 贵金属纳米颗粒;最后,利用纳米压印技术将多孔氧化铝模板的纳米 结构和贵金属纳米颗粒转移到聚合物薄膜上,得到一种柔性透明的表 面增强拉曼散射基底。基底具有优异透明性、柔性、均匀性及高灵敏 度,可以应用在瓜果蔬菜表面农药残留的原位探测、水溶液中
华中科技大学 2021-04-14
一种多点接触模式下的大面积纳米压印硅模具加工方法
一种多点接触模式下的大面积纳米压印硅模具加工方法,它将硅(100)单晶片置于多微球的多点接触板垂直下方位置,再使硅片与多点接触板两者垂直相对运动至发生接触,并达到一定接触载荷F;使多点接触板和硅片按照既定轨迹相对运动,进行刻划;刻划后,将硅片放入质量分数为15~25%的KOH溶液中腐蚀一段分钟,即可得到具有预先设定结构的纳米压印硅模具。该方法在多点接触模式下进行,可以方便地控制所加工纳米压印硅模具的图案、排列方式等;刻划过程中硅片与多点接触板始终保持平行状态。该方法的设备和原材料成本低,操作简便、步骤简单,能一次性完成大面积的硅(100)单晶片纳米压印模具加工,具有明显的低成本、高效率的特点。
西南交通大学 2016-10-20
微纳尺度图纹压印模具的制作方法
微纳尺度图纹压印模具的制作方法,属于压印模具的精细加工 方法,解决激光干涉光刻制作模具条纹尺度不够精细,而电子束光刻 制作高精细图形速度过慢、不适于大面积制作的问题。本发明的一种 方法,顺序包括电子束光刻、一次干法刻蚀、激光干涉光刻、二次干 法刻蚀、纳米压印、微电铸步骤;本发明的另一种方法,顺序包括激 光干涉光刻、一次干法刻蚀、电子束光刻、二次干法刻蚀、纳米压印、 微电铸步骤。本发明结合电子束光刻制作精细和激光干涉光
华中科技大学 2021-04-14
高性能氮化硼纳米材料
纳米氮化硼材料兼具氮化硼和纳米材料的双重优势,广泛应用于航空航天、高端电子散热材料、吸附剂、水净化、化妆品等领域。项目团队开发出一种能够实现形貌和尺寸均一且具有超大比表面积多孔氮化硼纳米纤维的规模化制备技术,目前市场尚未实现规模化生产。该技术合成工艺简单可控、成本低、过程绿色环保,处于国际领先地位。 1 产品的应用领域 图2 高性能氮化硼纳米纤维粉体 图3 氮化硼纳米纤维粉体微观形貌
吉林大学 2025-02-10
高纯α相纳米氧化铝
产品特点   高纯纳米氧化铝通过等离子体气相燃烧法制备,纯度高、粒径小、分布均匀,比表面积大、表面干净,无残余杂质,松装密度低,易于分散,晶相稳定、硬度高、尺寸稳定性好,应用于各种塑料、橡胶、陶瓷产品的补强增韧,提高陶瓷的致密性、光洁度、冷热疲劳性、断裂韧性、抗蠕变性能和高分子材料产品的耐磨性能尤为**。由于纳米三氧化二铝也是性能优异的远红外发射材料,作为远红外发射和保温材料被应用于化纤产品和高压钠灯中。此外,α相氧化铝电阻率高,具有良好的绝缘性能,可应用于YGA激光晶的主要配件和集成电路基板中。   产品参数 产品名称 型号 平均粒度(nm) 纯度(%) 比表面积(m2/g) 松装密度(g/cm3) 晶型 颜色 纳米氧化铝 ZH-Al2O330N 30 99.9 63.67 0.12 α相 白色 纳米氧化铝 ZH-Al2O350N 50 99.9 55.46 0.19 α相 白色 纳米氧化铝 ZH-Al2O3100N 100 99.99 35.19 0.33 α相 白色 纳米氧化铝 ZH-Al2O3200N 200 99.99 23.18 0.56 α相 白色 加工定制 为客户提供定制颗粒大小和表面改性处理   产品应用   1、红宝石、蓝宝石的主成份皆为氧化铝,用高纯的纳米氧化铝粉做出来的产品,杂质少,色泽更亮,更均匀;   2、铝与空气中的氧气反应,生成一层致密的氧化铝薄膜覆盖在暴露于空气中铝表面;   3、铝为电和热的良导体。氧化铝的晶体形态因为硬度高,适合用作研磨材料及切割工具;   4、高纯纳米氧化铝粉末常用作色层分析的媒介物;   5、**度氧化铝陶瓷、C基板、封装材料、高纯坩埚、绕线轴、轰击靶、炉管;抛光材料、玻璃制品、金属制品、半导体材料、塑料、磁带、打磨带;涂料、橡胶、塑料耐磨增强材料、耐水材料;气相沉积材料、荧光材料、特种玻璃、复合材料和树脂材料;催化剂、催化载体、分析试剂;   6、高纯纳米氧化铝粉应用于照明:长余辉荧光粉原料及稀土三基色荧光粉原料,高压钠灯透光管,LED灯等。   产品表征   包装储存   本品为镀铝箔袋热封包装,密封保存于干燥、阴凉的环境中,不宜暴露空气中,防受潮发生氧化团聚,影响分散性能和使用效果;包装数量可以根据客户要求提供,分装。   技术咨询与索样   联系人:王经理(Mr.Wang)   电话:18133608898  微信:18133608898 QQ:3355407318 邮箱:sales@hfzhnano.com  
安徽中航纳米技术发展有限公司 2025-11-28
高纯纳米四氧化三钴
 产品特点   高纯纳米四氧化三钴通过等离子体气相燃烧法制备,纯度高、粒径小、分布均匀,比表面积大、表面干净,无残余杂质,松装密度低,易于分散。   产品参数 产品名称 型号 平均粒度(nm) 纯度(%) 比表面积(m2/g) 松装密度(g/cm3) 形貌 颜色 纳米氧化钴 ZH-Co3O450N 50 99.9 31.43 0.36 近球形 黑色 纳米氧化钴 ZH-Co3O4100N 100 99.9 25.79 0.45 近球形 黑色 纳米氧化钴 ZH-Co3O4500N 500 99.9 11.30 0.87 近球形 黑色 加工定制 为客户提供定制颗粒大小和表面改性处理   产品应用   1、高纯纳米四氧化三钴应用于催化剂上面:利用四氧化三钴纳米棒作催化剂,可将汽车尾气中的CO在低温下转化为CO2;   2、可用作颜料、釉料、氧化催化剂、分析试剂,也用于从镍中分离钴等;   3、高纯纳米四氧化三钴具有尖晶石晶体结构,是一种重要的磁性材料、P—型半导体,在异相催化、锂离子充电电池的材料、固态传感器、电致变色器件、太阳能吸收材料和颜料等方便的应用;   4、适用范围:压敏电阻、热敏电阻、氧化锌避雷器、显象管玻壳、锂离子电池等行业;   5、用作锂电子材料,用于氧化钴及钴盐的制备,用作高纯分析试剂、氧化钴及钴盐的制备,用作锂电子材料、氧化钴及钴盐的制备,用于电池材料、磁性材料、热敏电阻等; 也可用作催化剂机制作珐琅等。   包装储存   本品为充惰气塑料袋包装,密封保存于干燥、阴凉的环境中,不宜暴露空气中,防受潮发生氧化团聚,影响分散性能和使用效果;包装数量可以根据客户要求提供,分装。   技术咨询与索样   联系人:王经理(Mr.Wang)   电话:18133608898 0551-65110318 微信:18133608898 QQ:3355407318 邮箱:sales@hfzhnano.com  
安徽中航纳米技术发展有限公司 2025-11-28
纳米铝塑板
产品名称:纳米氟碳涂层铝塑板 表面涂层: 铝合金:AA1100series,AA3003series 铝厚:0.3mm,0.40mm,0.45mm,0.50mm 铝厚度:4mm,5mm,6mm 宽度:1220mm,1250mm,1500mm 长度:最长至6000mm,特殊宽度可定制 背涂: 品牌:ALUSHINE 产地:山东临沂
临沂金湖彩涂铝业有限公司 2021-09-02
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