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一种纳米纤维素晶体的制备方法
一种纳米纤维素晶体的制备方法，步骤如下：用pH4.8的乙酸-乙酸钠缓冲液配制浓度为0.03-0.05g/mL的纤维素溶液，加入纤维素酶进行酶解，纤维素酶在溶液中的浓度为10-15U/mL，酶解过程中每间隔12h进行一次超声，每次超声时间为30-60min；反应结束后，取出样品，离心分离，将沉淀物离心水洗，冷冻干燥制得纳米纤维素晶体。本发明采用纤维素内切酶结合超声物理方法制备一维棒状纳米纤维素，该方
青岛农业大学
2021-01-12
一种激光快速分离光学晶体方法及装置
本发明公开了一种激光快速分离光学晶体方法，该方法先利用 超快激光或微型金刚石砂轮对光学晶体进行分离方向设置，在分离开 始端形成一条方向沿待分离路径的预制微裂纹；再利用聚焦激光对预 制微裂纹进行扫描加热，形成激光诱导微裂缝；沿着待分离路径快速 移动聚焦激光，直至激光移动速度与裂缝扩展速度相同，使聚焦激光 始终跟随着微裂缝最前端，并使微裂缝两侧材料发生热膨胀效应，在 微裂缝尖端产生前向挤压和侧向拉应力，将晶体材料拉开，最
华中科技大学
2021-04-14
一种微向下提拉晶体生长炉
本发明公开了一种微向下提拉晶体生长炉，包括自上而下设置的上部绝热层和底部绝热层(13)，底部绝热层(13)内还设置有观察孔(4)，观察孔(4)呈管状，其中心轴线与底部绝热层(13)顶表面的法线的夹角为 45°～60°；内层绝热层、中间绝热层和底部绝热层(13)均由质量比为 1:9 的氧化锆和氧化铝压制煅烧而成。本发明设置的观察窗口能够及时观察晶体生长界面的晶体生长状况；并且，该观察窗口对晶体生长炉的温度场影响小，能够
华中科技大学
2021-04-14
二氧化硅晶体结构模型
宁波华茂文教股份有限公司
2021-08-23
二氧化硅晶体结构模型
宁波浪力仪器有限公司（余姚市朗海科教仪器厂）
2021-08-23
一种酸化介孔WO3/SiO2多组份胶体球及其应用
（专利号：ZL 201410300565.1） 简介：本发明公开了一种酸化介孔的WO3/SiO2多组份胶体球，属于化学催化剂领域。该胶体球活性组分是SO42-/WO3/SiO2，其结构似胶体球，具有介孔结构，分散性好，粒径100～900nm，孔径大小3～5nm。用本发明制备的酸化介孔WO3/SiO2多组份胶体球作为催化剂，在催化不同的长链脂肪酸和醇的酯化反应时，表现出了优异的催化性能以及良好的稳定性。当长链脂肪酸为油酸、醇为甲醇的酯化反应
安徽工业大学
2021-01-12
一种具备电场自适应特性的柔性电子电喷印设备及其方法
本发明属于柔性器件制造相关领域，并公开了一种具备电场自 适应特性的柔性电子电喷印设备，其包括 XYZ 三轴运动模块、电喷印 模块和可变电场模块，其中该XYZ三轴运动模块用于控制电喷印模块 与可变电场模块的空间位置，进而控制阵列喷嘴的位置;该电喷印模 块用于喷出高速带电溶液到基板上制备柔性电子，该可变电场模块则 用于提供可变化的电场，进而由电场控制阵列喷嘴喷出的液滴或射流 在基板上的落点。本发明还公开了相应的工艺方法。通过本发明，整 个柔性电子制造工艺过程可实现电场的自适应协调，并
华中科技大学
2021-04-14
喷嘴喷射独立可控的阵列化电流体喷印头及其实现方法
本发明公开了一种喷嘴喷射独立可控的阵列化电流体喷印头， 包括设置在阵列化喷嘴与接收板之间的导引电极层，该导引电极层上 设有与喷嘴数目对应的多个圆孔，各圆孔的中心与喷嘴的中心共线， 在导引电极层上的各圆孔外周均同轴环绕有一圈导电环，且各导电环 均与一个电压源连接，阵列化喷嘴与喷射电压源相连，通过调整各个 电压源处合适电压值使得需要喷印的喷嘴与对应的导电环形成的电压 差大于其他喷嘴电压差，进而使待喷射喷嘴处的场强大于喷射启动所 需场强，其他不喷射的喷嘴处场强小于喷射启动所需场强，即可实现 各喷嘴的独立控制。本发明还公开了其实现方法。本发明可以解决目 前存在的对喷印头独立喷射控制存在的结构复杂、无法大规模集成使 用的问题。
华中科技大学
2021-04-11
一种 N2 分子振转 Raman 谱的测量系统
本发明公开了一种 N2 分子振转 Raman 谱的测量系统。该系统由发射单元和光学接收与信号检测单 元组成。发射单元采用种子注入的固体激光器输出极窄线宽的 354.8 nm 紫外激光照射大气分子；光学接 收与信号检测单元收集由 N2 分子产生的振转 Raman 谱信号，采用双光栅色散系统将 384.9-388.6 nm 范 围光以 8.3 mm nm-1 的线色散率在空间上色散开来，采用 32 通道的线阵探测器分辨并记录 N2 分子振转 Ram
武汉大学
2021-04-14
晶体生长的石英坩埚镀碳膜方法与装置
一种晶体生长的石英坩埚镀碳膜方法，工艺步骤为石英坩埚的处理、装炉、加热、 镀膜、膜层退火。石英坩埚的处理包括清洗与烘干，装炉是将清洗并烘干后的石英坩埚 与组成镀膜装置的部件进行组装，加热是将装有石英坩埚的沉淀室加热至1000℃～ 1060℃，然后在该温度保温并向石英坩埚和沉淀室内通高纯惰性气体排除残余空气，镀 膜是通惰性气体结束后，继续在1000℃～1060℃保温，并在此温度向石英坩埚内通甲烷 气体，使石英坩埚内壁上沉积符合要求厚度的碳膜，镀膜结束后，继续在1000℃～1060℃ 保温40分钟～60分钟，然后缓慢冷却至室温。镀碳膜装置包括加热炉、放置被镀膜石 英坩埚的沉淀室和供气控制器。
四川大学
2021-04-11