专利内容是本发明针对背景技术存在的缺陷，提出了一种单晶石榴石厚膜的间歇式液相外延生长方法，缓解了衬底与薄膜之间的应力产生，得到的单晶石榴石厚膜可作为磁光或微波厚膜应用，该方法制得的磁光厚膜的厚度可达100µm以上。

本发明公开一种糖基/磺化改性亲和聚合物中空纤维分离膜及其制备方法。该膜由聚合物树脂、磺化聚合物树脂和糖类高分子组成，在优选的原料与比例下对LDL有良好的特异性吸附作用，且具有良好的稳定性和生物相容性，可重复使用，成本低廉，有望投入大规模临床应用。其制备方法包括以下过程:将膜用聚合物树脂、磺化聚合物树脂、糖类高分子、致孔剂按一定比例溶于溶剂，制成均一的纺丝制膜液，将纺丝制膜液过滤、真空脱泡后，通过浸没沉淀相转化法纺丝制备中空纤维成膜，然后将所制得的中空纤维膜依次在去离子水和超纯水充分漂洗。本发明采用的共混溶解制备法具有操作简便安全、原材料廉价易得等优点。

成果与项目的背景及主要用途： Cr-Si 中高阻膜电阻器具有精度高、噪声低、温度系数小、耐热性和稳定性 好等优点，在精密电子设备和混合集成电路中大量采用。对于溅射制备电阻膜来 说，靶材是至关重要的，它制约着金属膜电阻器的电阻率、精度、可靠性、电阻 温度系数（Temperature Coefficient of Resistance, TCR）等性能。电阻温度系数 (TCR)是金属膜电阻器的一个重要性能技术指标之一，较大的 TCR 在温度变化时 会造成电阻值漂移，从而影响电阻器的精度和稳定性。目前国内外生产的金属膜 电阻器用高阻靶材，其性能不能满足低 TCR（≤25ppm/℃）要求。 技术原理与工艺流程简介： 靶材炼制工艺如下图所示所制备的靶材(382 mm ×128 mm ×14 mm)在溅射成电阻器薄膜后, 电阻温度 系数小(≤25 ×10-6 / ℃), 电阻值高(要求不刻槽数量级为千欧, 刻槽后数量级为 兆欧)且稳定(随时间变化小), 因此, 在本靶材研究中, 将选择 Cr 、Si 作为高阻 靶材的主体材料。由于 C r 、Si 熔点高, 原子移动性低, 因此由其所组成的薄膜 稳定性高。通过在金属 C r 中引入半导体材料 Si 来提高电阻器合金膜的阻值。 C r 是很好的吸收气体的金属元素, 在电阻器薄膜溅射过程中, 可通过通入微量 的氧来提高薄膜的电阻率, 同时调节电阻温度系数。 技术指标如下： 温度冲击实验后 ΔR/R ≤±0 .5 %, 过载实验后 ΔR/R ≤±0 .5 %, 寿命实验后 ΔR/R ≤±1 .0 %,电阻温度系数 TCR ≤±20 ×10-6 / ℃。 应用领域： 集成电路、电子元器件 合作方式及条件：具体面议 2 半导体微环激光器 3 基光电集成电路 4 无线网络与应用：协作无线网络 5 移动通信—LTE 技术

简介：本发明提供一种超晶格结构的纳米晶Cr2N/非晶WC超硬膜及其制备方法,属于材料表面技术领域。本发明该超硬膜是由电弧离子镀的纳米晶体相Cr2N和磁控溅射镀的非晶体相WC层交替沉积而成,并且,超晶格的调制周期为10～20nm,Cr2N单层和WC单层的厚度分别为8～14nm和2～6nm。本发明的优点在于:Cr2N层与WC层交替分布实现了Cr-N基膜成分多元化和结构多层化,解决了抗氧化性较强的Cr-N基膜获得超高硬度的难题,同时非晶WC层进一步提高了Cr-N基膜的抗氧化和耐腐蚀性能,满足不能热处理的

本发明公开了一种燃料电池膜电极热压头上表面贴片的纠偏补偿方法。传统的机器视觉采图后摆动气缸翻转，然后贴片，不能保证GDL 的贴装精度，另外，由于 GDL 料盒比 GDL 本身尺寸稍大，不能保证每次真空拾取机构吸取 GDL 的中心轴线都与旋转轴的中心轴线重合，因此翻转后也会有误差。本发明主要解决这两个误差的计算和补偿方法，实现热压头上表面的准确贴片。本发明基于现有的 GDL 热压装备实现，首先对相机进行标定，标定两个相机各自的像素坐标系和世界坐标系的关系，分别根据是由安装误差引起的贴片纠偏或者是由轴线

本发明公开了一种纳米氢氧化钴-石墨烯复合膜、其制备方法及 应用。所述复合膜，包括纳米石墨烯底层和纳米氢氧化钴表层，所述 纳米石墨烯底层厚度在 4000nm 至 6000nm 之间，所述纳米氢氧化钴表 层厚度在 50nm 至 100nm 之间，所述纳米氢氧化钴表层均匀沉积在所 述纳米石墨烯底层上。其制备方法，包括以下步骤：将氧化石墨烯均 匀分散于水中，涂敷在片状导电基底上，干燥得到纳米氧化石墨烯膜； 组建三电极体系采用

本发明属于柔性膜质量检测设备相关领域，并公开了一种适用 于对移动中的柔性膜执行标识的多自由度打标装置，包括支撑组件、 传动组件、动力组件、打标针组件和记号笔组件，其中支撑组件可实 现打标装置的机械连接，同时还具有导向和位置调节的功能；动力组 件为打标装置提供可控的动力，传动组件可适于在运动中多自由度地 驱动打标针组件和记号笔组件，并提供高精度的打标操作；打标针组 件和记号笔组件分别可在柔性膜上打出针孔和颜色标记，并检测标记 是否成功完成。通过本发明，在高速运动过程中也能够高精度、稳定 可靠地执行打标操作，而且反应灵敏度高，因而尤其适用于 RFID 标 签之类对表面标识质量高的运用场合。 

相关专利提出了一种可吸收的肺动脉支架。用于在肺动脉植入支架时，避免支架长期存在。

成果与项目的背景及主要用途： 微创介入医学工程是医学对人类文明的重要贡献之一，在冠心病治疗方法中， 介入治疗以微创和高效性，成为目前治疗冠心病的重要方法。 术后血管再狭窄一直是冠心病介入治疗面临的一个巨大挑战。虽然支架的介 入能够撑开狭窄的血管，但也将不可避免的对血管造成损伤，由此可能引起血管 再狭窄。血管再狭窄主要发生在介入性治疗术后 3-6 个月，1 年后罕有再狭窄的 发生。目前冠脉支架介入术后，再狭窄率高达 20%-30%，已经成为支架介入治 疗的主要问题。 镁合金支架既具有金属支架的强度，又具有可降解聚合物支架的生物可吸收 性，具有独特的优势。通过本项目的研发，得到了良好的具有抗再狭窄药物释放 和镁合金腐蚀速率双重可控的镁合金支架样品。通过细胞毒性、生物相容性研究 和初步的动物实验，完成了支架材料和双重可控涂层的选取和制备。 技术原理与工艺流程简介： 研究了镁合金表面药物释放机制，采用双层药物释放模型制备了可控紫杉醇 等释放膜层，采用 PLGA 作为紫杉醇药物释放膜层，采用交联明胶作为药物控 释涂层，通过控制药物释放膜层的 PLGA 的膜厚，药物含量，添加剂等方法控 制药物释放速率，使药物比较稳定的释放，避免了释放初期由于药物突释而带来 的一系列危害，使药物达到缓慢持久有效的治疗。 采用乳化溶剂挥发方法制备 PLGA 紫杉醇药物微球，并采用交联明胶的方 法控制释放紫杉醇，通过调整药物浓度，PLGA 浓度，及超声功率的大小测定了 PLGA 紫杉醇微球的药物释放速率变化，通过条件优化制备出药物包封率高，药 物释放缓慢的 PLGA 紫杉醇微球。采用 PLGA 紫杉醇微球与交联明胶共混膜来 封孔镁合金表面微弧氧化膜。有效的提高镁合金耐腐蚀性的同时可以更好的控制 释放紫杉醇，同时减少了膜层过多、过厚带来的负面影响。有效的得到了双重可控释放镁离子和紫杉醇药物，同时明胶不同的交联度及明胶膜的厚度有效的控制 药物在明胶膜中的扩散。 技术水平及专利与获奖情况： 这一技术已经获得三项中国发明专利授权，另有一项在专利局实审过程中。 1、具有双重可控释放涂层的可吸收镁合金支架及其制备方法。申请号： 200610130594.3，中国发明专利授权时间：2009-5-20 2、无机有机防腐生物相容性复合涂层的可吸收镁合金支架及其制备方法。 申请号：200910245022.3，中国发明专利授权时间：2014-4-9 3、防腐与药物缓释复合涂层的可吸收镁合金支架与制备方法，申请号： 200910245023.8，中国发明专利授权时间：2011-7-6 4、一种医用镁合金支架及处理方法，申请号：201110136252.3，中国发明 专利申请时间：2011-12-14，公开 应用前景分析及效益预测： 本项目研发的具有双重释放功能的可生物吸收镁合金药物洗脱支架，有望克 服普通金属支架在体内长期存留导致的负面效应，稳定的药物释放对于降低再狭 窄有良好的作用。对于心血管疾病的治疗具有重要的现实意义，还可用于尿道支 架、小儿肺动脉支架等多种需要支架降解的无创、微创介入治疗中，为国际研究 前沿，对于推动医疗器械国产化、降低同类产品垄断价格、减轻国民医疗负担、 提高患者生存质量、增强民族产业竞争力等具有重大的社会效益。应用领域：医药领域 合作方式及条件：具体面议