产品详细介绍

安全存储柜系类有黄（黄色指示易燃物品）、红（红色指示可燃物品）、蓝（蓝色指示弱腐蚀性物品）三种颜色，三种颜色的尺寸相同，存放危险品类型不同。在存储危险品的过程中，使用有色标识来辨别、管理、分开各种易燃或危险物品，这样做同时又能在发生火灾方便消防人员识别危险品。 全钢系列黄色化学品安全柜用于存储各类易燃性化学品，闪点在45℃以下。例如∶汽油、酒精、煤油、甲醇、乙醇等。根据化学品的存放量和使用的方便性，选择不同规格的黄色化学品安全柜存储，有组织有条理的分开各类危险物品，就近存放提高您的工作效率。 全钢系列红色化学品安全柜用于存储各类可燃性化学品，闪点在45℃以上。例如∶柴油、机油、润滑油、桐油等。根据化学品的存放量和使用的方便性，选择不同规格的红色化学品安全柜存储，有组织有条理的分开各类危险物品，就近存放提高您的工作效率。 全钢系列蓝色化学品安全柜用于存储各类有毒化学品或弱酸弱碱，例如;醋酸、碳酸、磷酸、硅酸等。根据化学品的存放量和使用的方便性，选择不同规格的蓝色安全柜存储，有组织有条理的分开各类危险物品，就近存放提高您的工作效率。

产品详细介绍苏威尔化学数字化实验室：3500元/套，包含：数据采集器、温度传感器、压强传感器、PH传感器、色度计传感器、电导率传感器、微电流传感器、滴定计数器。另有气中氧传感器、二氧化碳传感器、高温传感器、快速温度传感器、溶氧传感器、浊度计传感器等可选配。

使用范围介绍: 化学发光成像系统适用于化学发光、多色荧光检测与普通凝胶检测，选用了高分辨率低照度进口制冷CCD，并完美结合大光圈电动镜头，可捕获到极微弱的荧光和化学发光信号。化学发光成像系统JP-K600深度制冷的CCD，较大程度的消除了背景噪声，超大光圈镜头，收集微弱信号。化学发光成像系统JP-600可选的多种荧光光源以及多位电动滤光片轮，满足核酸成像、ECL成像等多种实验需求。 主要应用范围： 核酸检测：各种荧光染料，如Ethidium bromide,SYBRTMGold, SYBRTMGreen, SYBRTMSafe, GelStarTM, Fluorescein, Texas Red标记的DNA/RNA检测。 蛋白检测：考马斯亮蓝胶，银染胶，以及荧光染料如SyproTMRed, SyproTMOrange,Pro-Q Diamond, Deep Purple 标记胶/膜/芯片等。 印迹膜：Western Lightning、ECL、ECLplus、CDP Star、SuperSignal、CSPD、LumiGlo、Cy2、Cy3、Cy5、FITC、AlexaDyes、DyLight dyes、ProQDiamond、ProQ Emerald 300、ProQEmerald 488、IR Dye 680 等。 JP-K600化学发光成像系统产品介绍: 集凝胶成像、化学发光和生物发光成像一体的全自动多功能成像系统； 用于凝胶和膜中蛋白质与DNA样品的数字图像的检测和分析；； JP-K600化学发光成像系统产品特色： 采用最新一代冷却CCD相机，605万像素（可选配890万像素）； 配备F/0.95大光圈定焦镜头，（可选配F/0.8镜头）具有超高的检测灵敏度。 超光密闭的暗箱设计为化学发光和生物发光成像提供了最适和的环境   防散射样品台使光散射产生的影响降低到最小  暗箱配有顶置白光光源，具有顶部白光灯 标配抽屉式双位载物对焦平台，可兼容拍摄各种厚度的样品，自动对焦升降平台 可选配电脑控制自动定位样品载物升降平台，并可通过电脑进行无级定位控制 用户可自行设定定时自动关闭光源时间（0-60分钟）   JP-K600化学发光成像系统技术参数： CCD芯片 Sony ICX695，4/3英寸，2750×2200  (605万像素)    动态范围 4.8OD.16bit灰阶（0-65535） 像数尺寸 5.4um×5.4um 像素合并 1×1，2×2，3×3,4×4 ,6×6,8×8 CCD温度 -45℃"绝对温度，相对于温室-65℃ 感光效率 High QE: >75% 镜头 F/0.95定焦镜头 顶置白光光源 极高的均匀性对低亮度的图像进行增强 灵敏度 最低可检测0.01ngEB染色体DNA 暗电流 ＜0.0005e-/pixelc. 激发光源 300nm透射UV  254、365nm反射UV 透射台 超亮紫外透射台，面积200×250mm 滤光片轮 5位滤光片轮.自动控制.标配F590干涉滤色镜

该项目已经获得国家发明专利：专利号：ZL200510130795.9。 聚合松香是松香改性的产品，由于聚合松香具有色泽浅、软体点高、不结晶、不氧化等优点，被广泛的应用于油墨、油漆、胶粘剂和合成树脂等的生产，同时还应用于橡胶、电气、造纸及制造多种助剂等。但是，聚合松香中的甲苯不溶物在国产聚合松香中普遍存在，这是一个不容忽视的问题。甲苯不溶物的存在既影响了产品质量，也增加了成本。所以，去除聚合松香中的甲苯不溶物显得特别重要。然而，到目前为止，国内尚没有较好的技术可以实现聚合松香中的甲苯不溶物的去除。 该项目在不影响聚合松香性能的基础上，将聚合松香中的甲苯不溶物的含量降到0.01%以下。所用的工艺简单、快速和所需成本低，能有效降低聚合松香甲苯溶液中的不溶物。

成果创新点 发展绿色友好反应体系，通过核心过程的耦合，实现关 键中间体 HMF 百吨级生产新工艺研发与中试；开发了基于 HMF 下游新型聚合单体的高选择性合成，实现合成呋喃聚合材料 单体的高效催化氧化新工艺，在提高反应浓度的同时提高了 产物收率及选择性，降低反应成本及三废排放；开展并制备 了呋喃基聚合材料，同时对材料的结构调控及结构性能关系 进行研究，呋喃基聚酯材料 PEF 表现出优于石油基材料 PET

发展绿色友好反应体系，通过核心过程的耦合，实现关键中间体 HMF 百吨级生产新工艺研发与中试；开发了基于 HMF 下游新型聚合单体的高选择性合成，实现合成呋喃聚合材料单体的高效催化氧化新工艺，在提高反应浓度的同时提高了产物收率及选择性，降低反应成本及三废排放；开展并制备了呋喃基聚合材料，同时对材料的结构调控及结构性能关系进行研究，呋喃基聚酯材料 PEF 表现出优于石油基材料 PET的结构性能。 主要产品预期可实现参数指标：1） 建成千吨级呋喃基新材料单体 FDCA 产业化示范工程，单体 FDCA 纯度达到聚合级，生产成本控制在 15 万/吨以内； 2）建立呋喃基新材料产品质量标准和性能评价标准，对比传统聚酯材料隔水性能提高 2 倍，隔氧性能提高10 倍； 3） 进行呋喃聚酯、聚酰胺材料工程应用实验，完成 1-2 项终端应用产品设计开发。 

化学镀Ni-P具有优良的耐腐蚀性能，在工业生产中获得了广泛应用。但是，随着应用的增多也出现了一些问题。由于化学镀层是阴极性的，如在施镀过程中形成针孔、麻点以及使用过程中外力对镀层的损坏等，往往造成镀层在腐蚀介质中形成电偶腐蚀，使得镀层不仅对基体起不到保护作用，反而加速了基体的腐蚀。三元合金Ni-W-P镀层的出现在一定程度上解决了Ni-P镀层中所存在的问题。W元素的加入可以提高镀层的致密性，减小了腐蚀介质穿透镀层在镀层与基体之间形成电偶腐蚀的几率。此外，W是一种自钝化元素，在腐蚀介质中有利于镀层表面钝化膜的形成，提高了镀层的耐蚀性能，因此，P的含量相近时Ni-W-P镀层的耐蚀性能优于Ni-P镀层。但是Ni-W-P镀层与Ni-P镀层相比在与基体的结合力上并没有提高，在后续加工过程中如受到一定外力作用时，镀层很容易脱落，这就使得镀层的应用范围受到了一定的限制。该技术针对现有化学镀层在使用过程中所存在的问题，提出将含有一定量W元素的Ni-W-P镀层在高温下进行热处理，提高镀层的结合力和硬度，大幅度提高镀层的耐蚀耐磨性能，延长镀层的使用寿命。

化学镀Ni-P具有优良的耐腐蚀性能，在工业生产中被广泛应用。但是，随着应用的增多也 出现了一些问题。由于化学镀层是阴极性的，如在施镀过程中形成针孔、麻点以及使用过程中 外力对镀层的损坏等，往往造成镀层在腐蚀介质中形成电偶腐蚀，使得镀层不仅对基体起不到 保护作用，反而加速了基体的腐蚀。 三元合金Ni-W-P镀层的出现在一定程度上解决了Ni-P镀层中所存在的问题。W元素的加入 可以提高镀层的致密性，减小了腐蚀介质穿透镀层在镀层与基体之间形成电偶腐蚀的几率。此 外，W是一种自钝化元素，在腐蚀介质中有利于镀层表面钝化膜的形成，提高了镀层的耐蚀性 能，因此，P的含量相近时Ni-W-P镀层的耐蚀性能优于Ni-P镀层。但是Ni-W-P镀层与Ni-P镀层 相比在与基体的结合力上并没有提高，在后续加工过程中如受到一定外力作用时，镀层很容易 脱落，这就使得镀层的应用范围受到了一定的限制。 该技术针对现有化学镀层在使用过程中所存在的问题，提出将含有一定量W元素的Ni-W-P 镀层在高温下进行热处理，提高镀层的结合力和硬度，大幅度提高镀层的耐蚀耐磨性能，延长 镀层的使用寿命。 可应用于换热器、泵、轴、空冷等耐蚀或者耐磨的场合