高等教育领域数字化综合服务平台
云上高博会服务平台 高校科技成果转化对接服务平台 大学生创新创业服务平台 登录 | 注册
|
搜索
搜 索
  • 综合
  • 项目
  • 产品
日期筛选: 一周内 一月内 一年内 不限
一种二维层状二硫化钼薄膜的光探测器及制备方法
本发明公开了一种二维层状二硫化钼薄膜的光探测器及制备工 艺,光探测器包括从上之下依次排列的电极结构、多个层状二硫化钼 薄膜以及衬底;电极结构为电极、主支、分支三部分,相邻主支之间 和相邻分支之间的间距为二硫化钼薄膜的平均大小,起到并联二硫化 钼薄膜、增大光敏面积的作用。二硫化钼薄膜的生长采用化学气相沉 积(CVD)的方法,硅片作为衬底,MoO3 粉末作为钼源,硫粉作为硫源, 通过控制钼源与衬底之间的间距、硫蒸气进入反应的时间和反应温度, 制备得到大面积的层状二硫化钼薄膜。使用该方法制备层状二硫化钼
华中科技大学 2021-04-14
一种二维层状二硫化钼薄膜的光探测器及制备方法
本发明公开了一种二维层状二硫化钼薄膜的光探测器及制备工 艺,光探测器包括从上之下依次排列的电极结构、多个层状二硫化钼 薄膜以及衬底;电极结构为电极、主支、分支三部分,相邻主支之间 和相邻分支之间的间距为二硫化钼薄膜的平均大小,起到并联二硫化 钼薄膜、增大光敏面积的作用。二硫化钼薄膜的生长采用化学气相沉 积(CVD)的方法,硅片作为衬底,MoO3 粉末作为钼源,硫粉作为硫源, 通过控制钼源与衬底之间的间距、硫蒸气进入反应的时间和反应温度, 制备得到大面积的层状二硫化钼薄膜。使用该方法制备层状二硫化钼
华中科技大学 2021-04-14
一种二维过渡金属二硫族化合物单晶及其制备方法和应用
本发明公开了一种二维过渡金属二硫族化合物单晶及其制备方法和应用。在惰性气氛中,借助常见 的可与硫族单质(S,Se)反应的金属和氢气辅助控制体系中 S 或 Se 的浓度,以达到控制过渡金属层硫化 或硒化程度的目的,利用化学气相沉积方法可控地生长 TMDs 单晶;将沉积时的温度控制为 750°C至 850°C,并且沉积时间控制为 5 至 15 分钟,完成 TMDs 
武汉大学 2021-04-14
CO2 分离膜制备技术
成果与项目的背景及主要用途:用于 CO2 分离的膜技术在天然气、沼气的 净化,三次采油中的 CO2 回收,密闭空间中的 CO2 脱除以及减轻温室效应等领 域有广阔的应用性前景。与传统的 CO2 分离技术相比,膜分离方法具有投资少, 能耗低,环境友好,设备简单紧凑、节约空间、高效灵活、易于操作等优点,而 且 CO2 浓度越高,膜法分离越经济,即使 CO2 浓度低于 5%,用膜法的费用也 仅为吸收法的 64.7%。 18天津大学科技成果选编 19 可以用于脱除酸性气体的膜主要有液膜、无机膜和高分子膜,实际应用中满 足气体分离要求的目前只有高分子膜。但普通的高分子膜也存在高的渗透性和选 择性不能兼得的缺点。含有固定载体的促进传递膜兼具液膜和普通高分子膜的优 势,能同时具有高的分离系数和透过速率,而且稳定性好,是一类很有发展前途 的气体分离膜,已引起国际上研究者们的极大关注。 技术原理与工艺流程简介:本研究成果合成了几种对 CO2 具有促进传递作 用的固定载体膜材料,通过载体与 CO2 的相互作用促进 CO2 在膜内的传递,因 而具有较高的渗透选择性。同时由于载体是以化学键固定在高分子上,因此具有 很好的稳定性。 本成果以自主开发的固定载体膜材料为分离层,以多种材质的超滤膜为基膜, 制备了用于 CO2 分离的固定载体复合膜。所研制的复合膜,其 CO2/CH4 透过分 离性能处于世界领先水平。 技术水平及专利与获奖情况:所制备的固定载体复合膜 CO2/CH4 分离因子 可达 100~300,CO2 渗透速率可达 10-6~10-5 cm3(STP)/cm2·s·cmHg。 本研究成果共获得发明专利 3 项,分别为: 1. 用于酸性气体分离的固定载体复合膜制备方法(专利号:ZL02148632.8) 2. CO2 气体分离复合膜的制备方法(专利号:01144974.8) 3. 用于分离酸性气体的固定载体复合膜制备方法(专利号:ZL02158530.X) 本成果与所在课题组其他成果一起,获 2004 年度天津市自然科学奖一等奖 应用前景分析及效益预测:本研究成果所开发的 CO2 分离膜制备技术其经 济效益是明显的。首先,采用 CO2 膜分离可以降低我国能源生产的成本。我国 目前的天然气产量已经超过 300 亿 m3,若其中的 10%以膜分离方法来进行净化, 则需要约 12 万 m2 的膜才能满足需要,与传统方法相比每年可节约 4000 万元。 此外,由于可持续发展和环境保护的需要,采用城市生活垃圾和其他工业垃圾生 产沼气近年来得到了迅速发展。至今,我国已建设了大中型沼气池 3 万多个,总 容积超过 137 万 m3,年产沼气 5.5 亿 m3,采用膜分离技术处理这些沼气也需要 大量的 CO2 分离膜。最后,随着海上油气资源的开发以及农业生产中气肥的大 量使用,对 CO2 分离膜的需求和产生的效益也很大。天津大学科技成果选编 应用领域: 1. 天然气、沼气的净化; 2. 三次采油中的 CO2 回收; 3. 密闭空间中的 CO2 脱除; 4. 农业生产中气肥的使用。 该项目需要以下条件: 1. 聚合物合成的相关设备及原料:反应釜,冷却装置等。 2. 复合膜加工设备及原料:涂膜机,干燥器,膜交联设备,交联剂等。 3. 膜组件加工设备及原料。 4. 需要厂房面积大于 1000m2。 合作方式及条件: 由天津大学提供膜材料合成、复合膜制备、交联等相关技术,由合作方提供 厂房、设备、原材料及相关的人员配套。 
天津大学 2021-04-11
手持式立磨二维角度测量仪的CCD驱动电路
本实用新型涉及手持式立磨二维角度测量仪的CCD驱动电路,由振荡器、逻辑电路、分频器、N位二进制计数器及门电路构成,其分频器左端与振荡器相连,分频器右端与N位二进制计数器相连,分频器下端连接一逻辑电路,其N位二进制计数器下端连接三门电路,本实用新型的有益效果为:结构应用方便,测量精度准确。
安徽建筑大学 2021-01-12
限域效应驱动的二维碘化铅钙钛矿铁电体的发现
前期,东南大学化学化工学院国际分子铁电科学与应用研究院暨江苏省“分子铁电科学与应用”重点实验室科研人员首次发现了杂化铅碘钙钛矿分子铁电薄膜中的“涡旋-反涡旋”(vortex-antivortex)畴结构。此次,
东南大学 2021-01-12
二维Bi2O2Se超快高敏红外芯片材料
具有超高电子迁移率、合适带隙、环境稳定和可批量制备特点的全新二维半导体芯片材料(硒氧化铋,Bi 2 O 2 Se),在场效应晶体管器件、量子输运和可见光探测方面展现出优异性能。由Bi 2 O 2 Se制备成的原型光电探测器件具有很宽的光谱响应(从可见光到1700 nm短波红外区),并同时具有很高的灵敏度(在近红外二区1200nm处灵敏度高达~65A/W)。 而利用飞秒激光器组建的超快光电流动态扫描显示Bi 2 O 2 Se光电探测器具有约1皮秒(10 -12 秒)的本征超快光电流响应时间。化合物由交替堆叠的Bi 2 O 2 和Se层组成,晶体中氧的存在,使其在空气中具有极佳的稳定性,完全可暴露于空气中存放数月且保持稳定。
北京大学 2021-04-11
一种空间二维码双通道互补光通信系统
本发明公开了一种空间二维码双通道互补光通信系统。该系统包括光发送机模块和光接收机模块。光发送机模块包括:光源、透镜、DMD阵列、排干扰装置和电路控制部件;透镜把光源光束聚焦在DMD阵列面上;电路控制部件调节DMD阵列上微镜的随机翻转,形成不同的二维数值阵列面,利用DMD阵列正负12度翻转角度,形成两个光通道,把信号以二维阵列形式传输;排干扰装置可避免杂音干扰严重降低光通信传送的实际强度,最终影响光通信速度的问题;光接收机模块包括:光接收机前端、滤波器、电路控制部件;光接收机前端负责接收通过传输路径的二维阵列光信号,把光信号转换成电信号,经过滤波器滤除无用信息或噪声,筛选出有用信号给接收端。
四川大学 2016-10-09
一种二维纳米 SnSe2 晶体材料的制备方法
本发明公开了一种二维纳米 SnSe2 晶体材料的制备方法,采用 化学气相沉积法用单质硒和卤化锡在衬底上沉积所需厚度的 SnSe2 晶 体;其中,沉积设备为水平管式炉,顺序设有上游低温区、中心温区 以及下游低温区,所述单质硒和卤化锡分别独立但紧靠放置于上游低 温区,所述衬底放置于下游低温区;利用不同温区的温度差,单质硒 蒸汽和卤化锡蒸汽形成于上游低温区;两者反应生成 SnSe2,并通过 沉积载气带入下游温区,在衬底上沉
华中科技大学 2021-04-14
制备隐藏二维码图像全息防伪标签的方法及其识别装置
制备隐藏二维码图像全息防伪标签的方法及其识别装置,属于防伪标签制备及识别领域,解决现有裸露二维码图像防伪力度不高的问题。本发明的方法,依次得到数据符号密文、生成二维码图像、得到傅里叶变换频谱图、绘制信息调制条纹图像、形成方形缩微条纹图像、将多个方形缩微条纹图像排列成组合图案、将组合图案制成浮雕图案母板,最后将浮雕图案母板复制到标签材料上。本发明的识别装置,包括激光光源、全反镜、标签平台、毛玻璃片、图像传感器、信号采集模块、识别模块、显示屏及语音播报器。本发明将隐藏有经信息加密的二维码衍射光栅条纹制作在全息防伪标签上,识别需经特殊处理,同时信息经过加密,将大大提高防伪性能。 
华中科技大学 2021-04-11
首页 上一页 1 2 3 4 5 6
  • ...
  • 193 194 下一页 尾页
    热搜推荐:
    1
    云上高博会企业会员招募
    2
    64届高博会于2026年5月在南昌举办
    3
    征集科技创新成果
    中国高等教育学会版权所有
    北京市海淀区学院路35号世宁大厦二层 京ICP备20026207号-1