重庆建筑工程职业学院建校于1956年，位于重庆市主城南岸区茶园新区梨花大道，占地520余亩，是重庆唯一一所公办建设类高等院校。学院始终秉承“厚德、笃学、求实、创新”校训，始终坚持“习学相融，知行统一，培育建设英才，服务城乡发展”理念，充分彰显城乡建设行业特色，先后为国家输送了近7万名高素质技能型的技术精英、管理能手和经营骨干。 学院师资力量雄厚，专业课教师大部分具有一级注册结构工程师、一级注册建造师、注册造价工程师、注册咨询工程师、注册监理工程师等执业资格证书和丰富的从业经历。学院有2个省部级科研平台，有国家级、市级重点实训基地9个，相对稳定的校外实训实习基地70余个，3.2万平米综合实训基地和1万平米建筑产业现代化实训基地将于2020年9月投入使用，形成完善的国家级、市级、校级实训体系。学院深度推进产教融合，不断加强校企合作，2019年牵头组建“重庆市智能建造职教集团”，与中交集团、中治赛迪集团、重庆建工集团、重庆市轨道交通(集团)、重庆市建筑科学研究院、金科地产集团、重庆中科建设集团、维特根（中国）机械有限公司等国内外知名企业进行深度合作，开展订单、定向等方式培养人オ。围绕服务重庆重点产业发展，学院与重庆文理学院合作开展机电一体化技术-机器人工程、与重庆科技学院合作开展计算机应用技术-计算机科学与技术专业专本贯通人才培养试点项目。围绕退役军人学历教育、创业就业培训服务，学院牵头成立“重庆建筑工程职业学院—博众城市发展管理研究院军民融合学院”。学院与澳大利亚高登职业技术学院举办建筑工程技术专业国际合作办学，与新西兰国立理工学院开展学分互认，2019年开始招收国际留学生。多年来，学院毕业生得到社会广泛好评，就业率稳定在较高水平，优质就业率稳步提升。

近年来学院以 “青海省省级重点高等职业院校建设计划”立项建设、“高等职业院校提升专业服务产业发展能力建设项目以及全面推进高职内涵建设”的第二轮人才培养工作评估为抓手，全面深化内涵建设,取得了良好的质量发展。在建设和发展过程中，立足青海，面向行业，形成了“密切行业 突出支撑 集群发展 强化特色”的专业发展格局。坚持以校企合作、工学结合为核心，大力推行工学交替，积极探索订单培养，创新人才培养模式改革，并根据区域经济发展的要求，结合青海省地方产业结构、产业政策、产业发展和人才规格的需求，在办好传统专业的基础上，拓展新专业。学院设有5个系23个专业，其中工程造价、建筑装饰工程技术、太阳能应用技术、通信技术专业为中央财政支持“高等职业院校提升专业服务产业发展能力”建设专业;建筑工程技术、工程造价、建筑设备工程技术、建筑设计技术、建筑装饰工程技术为省级示范专业;建筑工程技术、工程造价、建筑设备工程技术为院级建设特色专业，学院持续推进实践教学改革和实训基地建设，现有建筑装饰工程技术、工程造价、建筑设备工程技术、建筑设计技术和楼宇智能化工程技术专业5个省级实训基地;拥有为学生实习实训服务的院内实训、实验室39个;院内生产性实训基地6个;并与百余家建筑、通信类企业建立实习、实训合作关系，建有稳固的校外实训基地18个;在学院设有全省建设行业职业技能鉴定站。 学院注重立德树人，不断夯实学生成长与成才的基础，自2012年启动了“3211”育人工程(3个主阵地育人，2个渗透育人，1个育人机制，1支师德高尚的育人队伍)，构建了“多视角、立体化、全过程”的育人体系;学院始终坚持“以生为本”的资助体系，积极落实国家、省厅、学院各类“奖、助、补”等资助政策，为优秀学生、家庭经济困难等学生提供帮助和支持，鼓励学生积极进取、奋发向上、学以致用和回报社会。 学院高度重视招生与毕业生就业工作。始终把此项工作作为学院提高教育教学质量，提升社会影响力和竞争力的中心任务，积极开拓就业市场、内强素质、外联企业、全员参与、促进就业，近几年毕业生就业率平均保持在98%以上，并多次在全省高校就业评估中被评为“全省就业先进集体”， 2009年荣获“全国普通高校毕业生就业工作先进集体”。 千秋基业，教育为本。在高等职业教育蓬勃发展的大好形势下，青海建筑职业技术学院全体师生以坚定的信心，进取的精神，扎实的工作，深化内涵式建设发展，为创建极具行业和同类院校影响力的新建院而努力奋斗。

高层建筑火灾时通常采用的防、排烟方式是设置挡烟垂臂、机械加压送风、机械排烟方式，这种方式一方面不利于老人儿童等弱势群体的快速疏散，另一方面加压送风输送的新鲜空气对火灾进一步发展有较强的助推作用，而防烟空气幕可以克服以上防、排烟方式的缺点。本项目通过确定火灾时影响烟气流动的因素，分析烟气流动特性，在此基础上，建立烟气流动数学模型及空气幕射流流动数学模型。通过计算机仿真研究、实验研究验证和完善理论研究数学模型，完成防烟空气幕结构设计。确定防烟空气幕的基本型式和结构设计的计算数学模型，在理论和实验的基础

工业固体废渣的有效处置、生态环境污染的源头治理、新老建筑物的节能降耗、海绵城市建设中的排水蓄水、美好城市建设中的路面装饰及传统建材生产对土地资源的消耗等，是国民经济和社会持续发展迫切需要解决的重大问题。本成果以尾矿（黑色金属尾矿、有色金属尾矿、稀贵金属尾矿和非金属尾矿）、燃料废渣（粉煤灰、煤矸石、石油焦等）、冶炼废渣（钢铁冶金渣和有色金属冶金渣）、建筑垃圾、水处理污泥及工业粉尘等工业固体废渣为主要原料，制备建筑物隔热保温隔声用泡沫陶瓷、海绵城市建设用透水陶瓷、裸露路面及建筑物装饰用陶瓷板等新型建筑材料制品，提供全固废或以工业废渣为主要组成的新型建筑材料的产业化技术与方案。 根据不同尾矿、燃料废渣、冶炼废渣、建筑垃圾、水处理污泥等工业固废的化学组成与物相特点，利用各废渣化学组成间的协同-互补-相克原理，通过组成的科学设计和工艺控制，实现工业废渣的最佳组合、最大化利用和高附加值利用；通过化学键合和物理包埋技术，实现对废渣中可能存在的重金属离子的固溶与固封，使制品不产生二次污染。其中，泡沫陶瓷的固废含量为100wt%，体积密度0.37-0.61g/cm3，气孔率78.3-88.5%，抗压强度2.9-8.1MPa，抗弯强度1.4-4.3MPa；透水陶瓷的固废含量为100wt%，透水系数4.68×10-2cm/s，抗压强度72.3MPa，抗弯强度13.3MPa；陶瓷板的固废含量为100wt%，体积密度1.96～2.01g/cm3，最高抗压强度346.5MPa。 优势：（1）原材料优势：以工业废渣为原料，无需消耗化工原料及矿产与土地资源；（2）技术优势：利用各废渣化学组成间的协同-互补-相克效应及固溶-固封技术，既可实现废渣的最佳组合、最大化利用，又可赋予制品优良的综合性能，还可降低烧结温度与时间，从而减少制备过程的能源消耗与排放。（3）其它优势：与有机泡沫材料相比，无机泡沫材料耐高温，无安全隐患；与免烧结泡沫水泥相比，烧结泡沫陶瓷的强度高，使用可靠性强。

IBV以基于数字孪生的三维虚拟化技术为基础，以数字化、可视化、智能化理念为目标，通过直观、动态的形式，展示园区各类建筑及设备的空间分布、运行状况和统计数据，实现对园区从宏观到微观的全方位展示与管理。

本成果以水溶性丙烯酸酯树脂为基体制备特种胶黏剂，胶黏剂可与水任意比例混合，VOC含量低，无刺激性气味。胶黏剂在基材表面干燥后，室温状态下为无色透明薄膜，在一定温度下软化并具有一定粘结性，继续升温并保持一段时间后可以形成热固性树脂，具有较高的粘结强度。本成果已经通过中试试验，产品质量稳定，具有进行大规模生产的前景和能力。

目前半导体光刻加工用的深紫外光刻胶都采用化学增幅体系，这种体系主要由含酸敏基团的成膜材料和光产酸剂组成，这种体系最大的问题是光产酸在后烘阶段会发生酸迁移，导致光刻分辨率难以提高。能够有效改善酸迁移问题的一种方法是采用高分子光产酸剂，且其光产酸是高分子强酸。 课题组研制了一系列新颖的含多种鎓盐光产酸基团的苯乙烯衍生物及其与甲基丙烯酸酯的共聚物。它们在曝光过程中产生大分子的磺酸，因此可作为大分子光产酸剂与其它成膜材料一起组成化学增幅型光致抗蚀剂。 以之为产酸剂与其它部分保护的对羟基苯乙烯聚合物一起组成二组分的化学增幅型248-nm光刻胶， 制备了苯乙烯磺酸鎓盐和甲基丙烯酸酯、对羟基苯乙烯的三元共聚物，再用可酸分解的叔丁基碳酸酯保护部分酚羟基，由其组成了单组分的化学增幅型248-nm光刻胶，这些正型248-nm光刻胶获得了高感度（20-50mJ/cm2）、高分辨率(0.15-0.20微米)和留膜率（＞99%）及图形线条平滑陡直等的出色表现。  利用高分子产酸剂透明性好的特点，还制备了厚膜248-nm光刻胶，可获得线宽0.34微米、高-宽比可达5：1的光刻图形：  在此基础上，还制备了负型248-nm光刻胶，这些光刻胶也都获得了很好的光刻成像性能表现。这些高分子光产酸剂也可用于制备新型的高性能193-nm光刻胶。 这些248-nm光刻胶的主要组分除了溶剂外都是自行制备，原料易得，反应条件温和可控，去金属杂质的方法也是简便易行，成本相对低廉，在经过多年的深入研究之后，完全具备了产业化的条件。 半导体加工的关键设备、材料主要掌握在美、日手中，对我国电子工业的平稳发展带来困难和潜在的巨大威胁。其中光刻胶作为芯片光刻加工的关键材料，日本公司的产品占据全球市场的70%以上，而我国在中高端产品上（248-nm光刻胶、193-nm光刻胶）完全依赖进口，即便是低端的i-线光刻胶国产化率也只有20%左右。因此，我们必须尽快扭转这种不利的局面，这需要科研工作者和产业界共同努力以及政府的大力支持。     近年来光刻胶引起了社会的广泛关注，已有多家企业开始投身于248-nm光刻胶与193-nm光刻胶的研发与产业化，但绝大部分仍处于研发阶段。我们研制的光刻胶具备了产业化的技术条件并具有与国外先进光刻胶产品竞争的产品性能。    半导体加工用光刻胶种类较多，本课题组从2002年参与国家十五“863”光刻胶重大专项开始，至今近二十年来聚焦于光刻胶研究，在i-线胶、248-nm光刻胶、聚酰亚胺光刻胶、厚膜光刻胶及抗反射涂层材料等方面都取得了很好的结果，也在致力于这些光刻胶产品的产业化。 相关项目、专利及文章： 1.国家重大科技专项（02专项）子课题,课题编号:2010ZX02303（深紫外光刻胶专用光致产酸剂及新型成膜树脂的扩试技术研究） 2.国家自然科学基金应急管理项目，51641301, 含光产酸基团的苯乙烯衍生物-甲基丙烯酸酯共聚物及其组成的化学增幅光致抗蚀剂研究,2016/01-2016/12 3.One-component chemically amplified resist composed of polymeric sulfonium salt PAGs for high resolution patterning，European Polymer Journal，114（2019），11-18 4.A new type of sulfonium salt copolymers generating polymeric photoacid: Preparation, properties and application，Reactive and Functional Polymers，130（2018），118-125 5.含光产酸基团的苯乙烯衍生物-甲基丙烯酸酯共聚物、其制备及其应用，中国发明专利，专利号：9。

目前半导体光刻加工用的深紫外光刻胶都采用化学增幅体系，这种体系主要由含酸敏基团的成膜材料和光产酸剂组成，这种体系最大的问题是光产酸在后烘阶段会发生酸迁移，导致光刻分辨率难以提高。能够有效改善酸迁移问题的一种方法是采用高分子光产酸剂，且其光产酸是高分子强酸。 课题组研制了一系列新颖的含多种鎓盐光产酸基团的苯乙烯衍生物及其与甲基丙烯酸酯的共聚物。它们在曝光过程中产生大分子的磺酸，因此可作为大分子光产酸剂与其它成膜材料一起组成化学增幅型光致抗蚀剂。 以之为产酸剂与其它部分保护的对羟基苯乙烯聚合物一起组成二组分的化学增幅型248-nm光刻胶， 制备了苯乙烯磺酸鎓盐和甲基丙烯酸酯、对羟基苯乙烯的三元共聚物，再用可酸分解的叔丁基碳酸酯保护部分酚羟基，由其组成了单组分的化学增幅型248-nm光刻胶，这些正型248-nm光刻胶获得了高感度（20-50mJ/cm2）、高分辨率(0.15-0.20微米)和留膜率（＞99%）及图形线条平滑陡直等的出色表现。   利用高分子产酸剂透明性好的特点，还制备了厚膜248-nm光刻胶，可获得线宽0.34微米、高-宽比可达5：1的光刻图形：   在此基础上，还制备了负型248-nm光刻胶，这些光刻胶也都获得了很好的光刻成像性能表现。这些高分子光产酸剂也可用于制备新型的高性能193-nm光刻胶。 这些248-nm光刻胶的主要组分除了溶剂外都是自行制备，原料易得，反应条件温和可控，去金属杂质的方法也是简便易行，成本相对低廉，在经过多年的深入研究之后，完全具备了产业化的条件。 半导体加工的关键设备、材料主要掌握在美、日手中，对我国电子工业的平稳发展带来困难和潜在的巨大威胁。其中光刻胶作为芯片光刻加工的关键材料，日本公司的产品占据全球市场的70%以上，而我国在中高端产品上（248-nm光刻胶、193-nm光刻胶）完全依赖进口，即便是低端的i-线光刻胶国产化率也只有20%左右。因此，我们必须尽快扭转这种不利的局面，这需要科研工作者和产业界共同努力以及政府的大力支持。     近年来光刻胶引起了社会的广泛关注，已有多家企业开始投身于248-nm光刻胶与193-nm光刻胶的研发与产业化，但绝大部分仍处于研发阶段。我们研制的光刻胶具备了产业化的技术条件并具有与国外先进光刻胶产品竞争的产品性能。    半导体加工用光刻胶种类较多，本课题组从2002年参与国家十五“863”光刻胶重大专项开始，至今近二十年来聚焦于光刻胶研究，在i-线胶、248-nm光刻胶、聚酰亚胺光刻胶、厚膜光刻胶及抗反射涂层材料等方面都取得了很好的结果，也在致力于这些光刻胶产品的产业化。 相关项目、专利及文章： 1.国家重大科技专项（02专项）子课题,课题编号:2010ZX02303（深紫外光刻胶专用光致产酸剂及新型成膜树脂的扩试技术研究） 2.国家自然科学基金应急管理项目，51641301, 含光产酸基团的苯乙烯衍生物-甲基丙烯酸酯共聚物及其组成的化学增幅光致抗蚀剂研究,2016/01-2016/12 3.One-component chemically amplified resist composed of polymeric sulfonium salt PAGs for high resolution patterning，European Polymer Journal，114（2019），11-18 4.A new type of sulfonium salt copolymers generating polymeric photoacid: Preparation, properties and application，Reactive and Functional Polymers，130（2018），118-125 5.含光产酸基团的苯乙烯衍生物-甲基丙烯酸酯共聚物、其制备及其应用，中国发明专利，专利号：9。

（专利号：ZL 201410111072.3） 简介：本发明公开了一种银基导电胶的制备方法，属于复合材料制备技术领域。该制备方法具体步骤是：将γ-环糊精、硝酸银、聚丙烯酸钠、浓硝酸、蒸馏水混合，搅拌加热至50～80℃，缓慢滴加抗坏血酸、3,4-乙烯二氧噻吩、吡咯赖氨酸、蒸馏水的混合溶液，反应1小时，过滤，经大量蒸馏水、乙醇洗涤，干燥后得到银含量为88～96%的银基复合导电粒子；将环氧树脂、固化剂以及银基复合导电粒子充分混合,100℃下固化

已有样品/n以辐射加工技术为代表的非动力核技术应用对传统的加工方式产生了颠覆性创新，比如航天航空特种电线、污水处理、材料改性等，产生了很好的经济效益和社会效益。汽车雨刮胶条主要成分是天然橡胶或合成橡胶，实验研究表明电子束辐射能改变橡胶传统的硫化方式，有效提升交联度，通过辐射处理的胶条具有更好的耐候性、耐磨性、拔水性。比如，经过辐照处理后，胶条刮擦循环稳定性可达50 万次，抗拉强度（100%）从4.92MPa 增加到8