项目简介 本成果基于金属有机化学气相沉积（MOCVD）GaN 生长的化学反应动力学原理和传热 传质原理，设计了一种新的 GaN 生长的 MOCVD 工艺，以及相应的新的 MOCVD 反应器。新 工艺可以大大减少气相寄生反应、提高衬底上方的温度和浓度均匀性，加大生长窗口。 改进了传统的 MOCVD 工艺窗口窄，对温度和浓度过于敏感等缺点，属国际首创。围绕该 成果已申请多项发明专利。 性能指标

本发明公开了一种适用于陶瓷PTC装配技术的拉膜与切膜装置。包括送膜机构、拉膜机构和切膜机构，机架上沿薄膜传送方向依次设有送膜机构、切膜机构和拉膜机构，切膜机构包括固定在机架上的压板组件和刀片组件，压板组件安装在刀片组件上方；压板组件包括前撑板气缸、前撑板气缸顶杆、前撑板、压板、后撑板、压板气缸和压板气缸顶块，拉膜机构包括拉膜电机、拉膜丝杆、拉膜滑轨和用于夹膜的拉膜夹板组件。本发明采用自动拉膜、切膜技术，相比手工拉膜、切膜技术，极大提高了生产效率。

微波等离子体化学气相沉积法合成金刚石技术是代表化学气相沉积（CVD）合成金刚石技术国际先进水平和发展方向的高新技术，本技术的主要成果包括以下几方面内容： 高效能微波等离子体化学气相沉积金刚石装备的设计与制造； 钯管提纯氢气装置设计与制造； 微波等离子化学气相沉积（CVD）合成金刚石技术及产品； 金刚石后续加工技术及应用。

近日，中国科学技术大学合肥微尺度物质科学国家研究中心和化学物理系曾杰教授、周仕明副教授研究团队发展出了一套利用电化学沉积制备单原子催化剂的普适性方法，利用该方法研究人员成功制备出了34种单原子催化剂，覆盖了多种过渡金属和多种衬底。相关成果发表在《自然·通讯》上。发展对衬底和金属无选择性的普适性单原子合成方法具有重要意义。研究人员在电化学三电极体系下进行电化学沉积，并通过阴极沉积和阳极沉积获得了两种Ir1/Co(OH)2单原子催化剂。此外，研究人员又探究了沉积条件（前驱体浓度、沉积圈数和沉积速率）对单原子形成的影响，发现当金属的负载量低于某一限度时，可以获得单原子；高于这一限度时则有金属团簇或颗粒形成，这一变化类似于液相中晶体生长中的成核过程（图1）。电化学沉积制备单原子的机理研究。(a)阴极沉积示意图；(b)阳极沉积示意图；(c)在阴极沉积中，前驱体浓度、沉积量和单原子形成的关系；(d)在阳极沉积中，前驱体浓度、沉积量和单原子形成的关系。为了证明该方法的普适性，研究人员又在氢氧化钴、硫化钼、氧化锰、氮掺杂的碳等衬底上成功获得覆盖3d、4d、5d金属的单原子催化剂，并且对所制备的单原子催化剂的结构表征后发现，阴极和阳极沉积获得的同一单原子催化剂具有不同的电子结构，这为其在不同催化反应中的应用提供了可能。研究人员还对所得单原子催化剂在电催化水分解反应中的性能进行了探究。实验结果表明，阴极沉积所得的一些催化剂在电催化析氢反应中表现出了优异的性能，同时，阳极沉积所得的一些催化剂在电催化析氧反应中也表现出了良好的性能。该制备单原子催化剂的普适性方法不仅为单原子催化领域注入了新的活力，而且为今后系统性研究催化剂结构和性能之间的关系提供了新的思路。论文链接：https://www.nature.com/articles/s41467-020-14917-6.pdf详细阅读：http://news.ustc.edu.cn/2020/0313/c15884a414545/page.htm

本发明公开了一种混合自组装分子层修饰的基底表面沉积纳米 金颗粒的方法，该方法包括:将将氧化物或无机基底的表面进行洁净 处理，去除硅表面的油脂、油污等有机物、无机物和氧化层，使基底 表面羟基化;随后采用分步法，在预处理过的硅基底浸入含有有机硅 烷自组装分子的溶液中，进行硅表面分子自组装修饰，得到不同的有 机链混合生长的自组装单分子层;最后在已生长有混合自组装单分子 层的基底表面采用柠檬酸盐法沉积金纳米颗粒。按照本发明使用的基 底清洗方法和改性方法可通过自组装分子的生长时间来实现对金纳米 颗粒均匀分布的

本实用新型公开了一种基于熔融沉积成型技术的3D打印机，属于3D打印技术领域，可简化打印机喷嘴结构、提高打印效率以及打印稳定性。所述的基于熔融沉积成型技术的3D打印机，包括打印机喷嘴和设置于打印机喷嘴下方的打印平台，还包括平台移动机构，所述打印机喷嘴固定设置，所述打印平台安装在所述平台移动机构上，所述平台移动机构可使所述打印平台分别沿X方向、Y方向和Z方向往复移动，其中X方向、Y方向和Z方向分别为三维笛卡尔坐标系中三个坐标轴所对应方向。本实用新型实现了仅由打印平台的三维复合移动即可实现3D打印过程所需的相对移动，可有效解决在打印时挤出物料不稳定的问题，进而提高打印质量和打印速率。

大面积多功能高效减反射膜技术近年来受到广泛关注。针对目前采用溶胶-凝胶法、层层自组装法、化学蒸镀法等方法存在制备过程繁琐、生产效率低、所得减反膜呈开孔结构、存在环境稳定性差、力学性能劣等问题。本项目采用半连续乳液聚合的方法一步合成出可控聚合物/硅复合结构纳米粒子，并利用提拉镀膜的方法将其涂敷在玻璃基材上，通过一定温度的热处理制备出闭孔型减反膜涂层。研究体系pH值、单体比例、硅烷偶联剂的类型及用量等条件对所形成复合纳米粒子涂敷出的减反膜折射率、减反效果以及耐候性、耐刮伤性、力学性能的影响。力争制备出多功能抗反射涂层。旨在从本质上提升减反膜的光学性能、耐候性和机械特性。通过理论计算与实验验证并举，探索减反膜实现的新途径。改变目前减反膜的生产工艺问题。本项目与现有的减反膜工艺相比，具有工艺简单，解决了环保问题（一般减反膜都需采用醇做溶剂，而本工艺全程采用水来在溶剂）。而且减反效果优异，目前在可见光波段较宽的范围能够达到99.5%以上的透过率。而且增透波段可以通过需求进行调整。 这个项目起源于与赛肯森公司的合作项目。这家公司的主要产品之一是减反膜。据该公司介绍，大规模制备减反率可以达到99.5%的减反膜是他们公司的核心竞争力。其产品一直出口。从此可见，前景比较乐观。后面我们可以考虑与该企业继续进行合作或者找一家更为合适的合作企业。

成果与项目的背景及主要用途：术后粘连是有手术史以来国内外亟待解决的 重要医学难题之一。在外科领域开展的手术中，绝大多数都涉及到防止组织之间 粘连的问题。术后粘连可以引起严重的并发症，如腹部、盆腔等均可引起粘连性 肠梗阻，甲状腺手术后引起喉返神经损伤以及因盆腔组织粘连而导致的女性不育 症。90%的患者在术后均有不同程度的粘连产生，60%的患者需要采取一定的防 粘连措施。 目前防止术后粘连国际上采用较多的是“短期屏障"法，即术后在容易发生 粘连的部位植入隔离材料。随着 70 年代后美国医用材料方面的突破，可生物降 解吸收材料已得到医疗市场的认可。现有的美国 FDA 批准的术后防粘连产品有 三种。本课题组设计和研制了一种结构独特的可抛型防粘连膜材料 AntiTriplex。 它是一种生物相容性良好、安全、无毒、无刺激、可降解吸收的薄膜材料，其独 特的表面结构特性可以将手术创面和周围组织有效隔离开，有效地保护好手术创 面。 技术原理与工艺流程简介：该术后防粘连膜由多糖分子、多肽大分子和合成 大分子组装而成的三元膜。该三元膜综合了三种材料的优点，使膜材料的力学性 能、水稳定性、降解速率、临床可操作性、防粘连效果等得到全面提升。主要工 艺流程如下： 多肽大分子 ↓ 合成大分子 → 反应器 --→成膜 → 后处理 → 干燥 → 成品膜 → 包装 → 灭菌 ↑ 改性多糖大分子 技术水平及专利与获奖情况：该新型术后防粘连膜独特的结构设计代表了当 今该领域国际先进水应用前景分析及效益预测：不管是传统的腹腔、心血管、椎板外科手术，还 是新兴的微创手术，均会存在不同程度的粘连现象。现阶段欧美已经形成了一个 庞大的防粘连材料市场，据统计，在美国每年用于治疗腹腔、盆腔粘连的费用高 达约 12 亿美元。美国在 2000 年有 750 万例出现术后粘连，预计到 2006 年将增 加到 2000 万。虽然美国 FDA 已批准了 3 个防粘连材料，但均有缺陷。中国人口 众多，医疗水平不及美国，如以 1500 万人保守数字计，每人需要防粘连材料一 份（至少），每份约 200 元，市场容量将是 30 亿，利税近 10 亿，是国家鼓励优 先发展的高技术产业。 应用领域：医疗器械、生物材料制品、组织工程制品 技术转化条件（包括：原料、设备、厂房面积的要求及投资规模）：原材料 均为国产，价格低廉。所需设备为常用设备，投资不大。常规医药行业的厂房基 本上能满足要求，主要生产车间 150 平方米。投资规模依生产规模而定。 合作方式及条件：面谈平, 目前已申报国家发明专利 2 项。 

本技术主要产品为空气净化膜及成套分离设备，包括中低温与高温空气净化膜两大类主要产品。除尘膜材料为碳化硅等无机材料或改性聚四氟乙烯材料，化学稳定好，机械强度高。可经受各种有机气体腐蚀，能够进行频繁的反吹和化学清洗，寿命在3年以上。可用于冶金、化工、水泥等工业过程烟气处理及家庭、商场、写字楼、汽车等民用场所空气净化。

根据传统的制膜方式，设计出一套自动溶胶凝胶制膜设备，该装置采用旋涂法，由基板、将装有制备好的胶体溶液的滴液针管、匀胶机构、将匀胶台移动至针管下的水平移动机构、控制针管滴液的滴液系统、以及干燥系统组成。使用该装置可以将已制备好了的胶体溶液旋涂于清洗好的基片表面从而形成纳米气敏薄膜。一次可在四块基片上制膜。这对减少制模过程不确定性，降低劳动强度，易于大规模生产等具有很大的现实意义。