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nG12500超高压纳米均质机
产品详细介绍 nG12500系列中试型高压纳米均质机(高压微射流纳米均质机) nG12500系列高压均质机是用于中试工艺微调和小规模生产的终极解决方案,采用STANSTED专利的HYD-LOK构造,克服了其它常规高压均质机的限制和繁琐,全范围工作压力下都可以高效的均质分散您的珍贵样品,具有精确、始终如一、重现性好和可调比例压力控制的特点,最大压力达4000Bar(58000psi),可在位清洗和灭菌,并且非常方便清洗和维护。使用STANSTED精密耐用的电动液压系统和精确的阀控制系统,nG12500系列高压均质机可解决各种复杂的应用和小规模化的生产。具有如下特点:具有单增压器和双增压器版本,可在1,500 psi (10 MPa) 到58,000 psi (400 MPa)压力下连续不间断运行,流量最高可达20升每小时。满足实验室和中试规模生产的多功能使用。压力平衡负载均质阀和喷射碰撞相互作用腔可互换。PLC电子控制和监控系统,按键操作。多级均质模块可选。增压器处理单元热交换器和出料热交换器。带计算机连接端口用于数据采集。温度控制模块和不同进样系统选件供选择。不锈钢外壳带透明安全盖。型号处理单元工作压力处理量nG12500nG12500S-4-054000巴5升每小时nG12500S-2-102100巴10升每小时nG12500T-4-104000巴10升每小时nG12500T-2-202100巴20升每小时Stansted Fluid Power Ltd(SFP)公司,专业于设计和制造实验、中试和生产型超高压设备,系统最大压力可达14000bar (200,000psi , 1400MPa)。SFP的HYD-LOK概念是高压均质的特别设计与应用,它除了具有传统高压高剪切的特点和效益,还赋于更优越的性能,更稳定的可靠性和更有乐趣的用户体验。该HYD-LOK系统的构造技术由SFP发明并具有专利,主体的压力产生装置附在带有支架的液压紧固装置里,这种独特的构造可实现自动化程度极高的最高端使用特性,以适应现今高压均质应用上的严格要求:坚固耐用、高稳定性和制药卫生级操作,它是高压均质自动化成功应用的关键。HYD-LOK系统的原理和优点:快速无需工具进入增压器内部HYD-LOK增压装置作为SFP高压均质机的主要部件,无需特殊技能和培训即可轻易维护.仅数秒钟即可释放压力并打开增压器,即可拆移、检查、清洗、或者更换增压器部件。在位清洗和灭菌HYD-LOK的特殊设计克服了传统高压泵系统的难题,可完全折开清洗,并可以在位灭菌。快速更换和检测阀组件SFP系列均质机拥有多种选配装置,以适应不同样品的均质要求。SFP有各种不同的均质阀,可以在几秒钟内非常快速的拿取、拆开、清洗、检查、维护和更换。良好的稳定性HYD-LOK技术将各部件钳制在同一线上用于抵抗系统运行时各部件产生的轴向运动,因此相比于传统的高压均质机密封的磨损和疲劳可大大减少。双增压器平稳递送系统SFP双增压型号系列高压均质机适用于大容量和更高级均质分散要求。双增压器采用电动同步补偿高压流体的压缩率,做到无脉冲恒压递送。这种连续流和恒定压力对于微生物破碎是必不可少的,有利于保证样品均质效果的均一性和稳定性。
安盛联合国际贸易有限公司 2021-08-23
高压微射流纳米均质分散仪
产品详细介绍英国STANSTED公司最新研发的高压微射流纳米均质仪,全新设计的互作用均质腔体,独创的Impinging Jet Technology Interaction Chamber (IJTIC)技术,采用Diamond(金钢石)材质,结合专利的液压增强驱动设计,无疑会为用户带来全新的体验。 应用 可应用于药剂制备、纳米材料、蛋白动力学研究、生物工程: Nano Particles纳米粒 Lipsomes脂质体 Micro Emulsions微乳 Dispersions分散剂 Cell rupture细胞破壁 产品描述 功率:1.3KW 最大工作压力: 210 MPa (2100 bar) ,30000 psi 处理量:单次0-20ml,连续循环140ml/min 背压舱:40 MPa (6000 psi) ,可选 控制:PLC控制 产品粘度:高浓度高粘度,0-100CST 均质作用腔体和均质阀:互作用均质腔体Impinging Jet Technology Interaction Chamber (IJTIC)技术,压力平衡负载均质阀 最小样品量:5ml 清洗与灭菌:可在线清洗和灭菌,湿件也可高压蒸汽灭菌 压力测量: 数显式,0-420mpa(0-4200bar),比例缩放 温度测量: 选配 温度控制: 选配,夹套式温度控制 安全性: 安全互锁装置,安全监控,紧急制停。高压系统最高耐受压力达1400MPa(200,000psi) 电源: 230V,50HZ,单相 尺寸: 600×600×700mm 重量: 130KG
安盛联合国际贸易有限公司 2021-08-23
SPCH-20超高压纳米均质机
产品详细介绍STANSTED High Pressure HomogeniserSTANSTED超高压纳米均质机 The FRENCH® Pressure Cell 是一款极为精致的实验型超高压纳米均质机。采用革命性的设计理念,带来更出色的均质效果,更高的工作压力,更稳定的工作性能。液压增强器工作原理,驱动更强劲更稳定;压力平衡负载均质作用腔和均质作用阀体,提供更高的压力和最佳的均质效果;PLC控制模块,可选择单次、半自动循环和全自动循环操作;独有的安全监控系统和安全设计,使用更安全。STANSTED成立于1970年,具有丰富的超高压设备制造经验,可为用户提供最优的纳米均质解决方案。1.最高工作压力达4200bar,60000psi2.可选择单次操作、半自动循环和全自动循环操作3.最小样品量5ml4.压力腔体及均质阀可灭菌5.带温度控制6.良好的均质重现性和稳定性7.欧盟CE认证及其它国际通用安全标准8.产品可线性放大,可提供一系列从实验型、中试型到生产型的超高压纳米均质机 应用生物细胞破壁:(大肠杆菌、酵母菌、霉菌......等等)酶的分离和隔离,细菌和植物组织断裂,细胞内蛋白质和核酸的回收,制备EIA测试包的病毒性抗原,phizobia和假单体的膜制备,胚芽和毒素的回收,蛋白质纯化,细胞提取制备等药剂:微乳、脂质体、分散剂、纳米粒、纳米混悬液精细化工:纳米材料、纳米晶体、纳米乳液、香精香料等产品描述功率:1.3KW最大工作压力: 210 MPa (2100 bar) ,30000 psi处理量:单次0-20ml,连续循环160ml/min背压舱:40 MPa (6000 psi) ,可选控制:PLC控制产品粘度:高浓度高粘度,0-100CST均质作用腔体和均质阀:互作用均质腔体,压力平衡负载均质阀最小样品量:5ml清洗与灭菌:可在线清洗和灭菌,湿件也可高压蒸汽灭菌压力测量: 数显式,0-420mpa(0-4200bar),比例缩放温度测量: 选配温度控制: 选配,夹套式温度控制安全性: 安全互锁装置,安全监控,紧急制停。高压系统最高耐受压力达1400MPa(200,000psi)电源: 230V,50HZ,单相尺寸: 600×600×700mm重量: 130KG
安盛联合国际贸易有限公司 2021-08-23
SPCH-10超高压纳米均质机
产品详细介绍STANSTED High Pressure HomogeniserSTANSTED超高压纳米均质机 The FRENCH® Pressure Cell 是一款极为精致的实验型超高压纳米均质机。采用革命性的设计理念,带来更出色的均质效果,更高的工作压力,更稳定的工作性能。液压增强器工作原理,驱动更强劲更稳定;压力平衡负载均质作用腔和均质作用阀体,提供更高的压力和最佳的均质效果;PLC控制模块,可选择单次、半自动循环和全自动循环操作;独有的安全监控系统和安全设计,使用更安全。STANSTED成立于1970年,具有丰富的超高压设备制造经验,可为用户提供最优的纳米均质解决方案。1.最高工作压力达4200bar,60000psi2.可选择单次操作、半自动循环和全自动循环操作3.最小样品量5ml4.压力腔体及均质阀可灭菌5.带温度控制6.良好的均质重现性和稳定性7.欧盟CE认证及其它国际通用安全标准8.产品可线性放大,可提供一系列从实验型、中试型到生产型的超高压纳米均质机 应用生物细胞破壁:(大肠杆菌、酵母菌、霉菌......等等)酶的分离和隔离,细菌和植物组织断裂,细胞内蛋白质和核酸的回收,制备EIA测试包的病毒性抗原,phizobia和假单体的膜制备,胚芽和毒素的回收,蛋白质纯化,细胞提取制备等药剂:微乳、脂质体、分散剂、纳米粒、纳米混悬液精细化工:纳米材料、纳米晶体、纳米乳液、香精香料等产品描述功率:1.3KW最大工作压力: 420 MPa (4200 bar) ,60000 psi处理量:单次0-10ml,连续循环80ml/min背压舱:40 MPa (6000 psi) ,可选控制:PLC控制产品粘度:高浓度高粘度,0-100CST均质作用腔体和均质阀:互作用均质腔体,压力平衡负载均质阀最小样品量:5ml清洗与灭菌:可在线清洗和灭菌,湿件也可高压蒸汽灭菌压力测量: 数显式,0-420mpa(0-4200bar),比例缩放温度测量: 选配温度控制: 选配,夹套式温度控制安全性: 安全互锁装置,安全监控,紧急制停。高压系统最高耐受压力达1400MPa(200,000psi)电源: 230V,50HZ,单相尺寸: 600×600×700mm重量: 130KG
安盛联合国际贸易有限公司 2021-08-23
nG12800超高压纳米均质机
产品详细介绍STANSTED High Pressure HomogeniserSTANSTED超高压纳米均质机 The FRENCH® Pressure Cell 是一款极为精致的实验型超高压纳米均质机。采用革命性的设计理念,带来更出色的均质效果,更高的工作压力,更稳定的工作性能。液压增强器工作原理,驱动更强劲更稳定;压力平衡负载均质作用腔和均质作用阀体,提供更高的压力和最佳的均质效果;PLC控制模块,可选择单次、半自动循环和全自动循环操作;独有的安全监控系统和安全设计,使用更安全。STANSTED成立于1970年,具有丰富的超高压设备制造经验,可为用户提供最优的纳米均质解决方案。 1.最高工作压力达4200bar,60000psi2.可选择单次操作、半自动循环和全自动循环操作3.最小样品量5ml4.压力腔体及均质阀可灭菌5.带温度控制6.良好的均质重现性和稳定性7.欧盟CE认证及其它国际通用安全标准8.产品可线性放大,可提供一系列从实验型、中试型到生产型的超高压纳米均质机。  型号1   10ml  60000psi 流量约为80ml/min型号2   18ml  30000psi 流量约为160ml/min 型号3   35ml  30000psi 流量约为300ml/min 应用生物细胞破壁:(大肠杆菌、酵母菌、霉菌......等等)酶的分离和隔离,细菌和植物组织断裂,细胞内蛋白质和核酸的回收,制备EIA测试包的病毒性抗原,phizobia和假单体的膜制备,胚芽和毒素的回收,蛋白质纯化,细胞提取制备等药剂:微乳、脂质体、分散剂、纳米粒、纳米混悬液精细化工:纳米材料、纳米晶体、纳米乳液、香精香料等 可选配件包Type 10to20 pressure cell conversion kit  CC10/20Type 20to10 pressure cell conversion kit  CC20/10Type 10 pressure cell seal kit 5pk  PCSK-010Type 20 pressure cell seal kit 5pk PCSK-020High shear valve ref.kit   HPVS-1-VRK 尺寸:550mm*550mm*700mm重量:100kg(220lb)电源:230v 1ph 50hz STANSTED拥有实验型、中试型、生产型超高压纳米均质机供选择,流量从5升每小时到1200升每小时,最高工作压力可达4200Bar(420MPa)的超高压纳米均质机。
安盛联合国际贸易有限公司 2021-08-23
数模混合集成电路设计产品
模数转换器(ADC)芯片,是绝大多数电子系统中必不可少接口部件,进行了高速ADC结构、高性能运算放大器、高速采样保持、高精度基准电压源等方面的研究与设计,已经完成了10位40MSPS的高速高精度ADC芯片的色伙计与流片。
东南大学 2021-04-10
高频高功率密度GaN栅驱动电路
作为第三代半导体代表性器件.硅基GaN开关器件由于具有更小的FOM.能够把开关频率推到MHz应用范围,突破了传统电源功率密度和效率瓶颈(功率密度提高5-10倍).且具有成本优势,满足未来通信、计算电源、汽车电子等各方面需求,开展相关领域的研究对我国在下一代电力电子器件产业的全球竞争中实现弯道超车,具有重要意义。然而,器件物理特殊性需要定制化栅驱动电路和采用先进的环路控制策略,最大程度提高GaN开关应用的可靠性,发挥其高频优势。
电子科技大学 2021-04-10
印刷电路板换热器关键技术
技术创新性和领先性 (1)构建了基于元胞自动机方法的蚀刻模型,并结合浸没蚀刻和喷淋蚀刻 实验,揭示了蚀刻时间、蚀刻液成分及浓度、温度、线宽等因素对印刷电路板换 热器换热板蚀刻速率、侧蚀、表面粗糙度等蚀刻质量和表面形貌的影响机理,建 立了在特定蚀刻液下蚀刻速率随各因素变化的半经验公式,掌握了可控的印刷电 路板换热器换热板蚀刻工艺。 (2)构建了基于分子动力学方法的扩散焊接模型,并结合宏观扩散焊接和 拉伸实验,揭示了压力、温度和表面粗糙度等参数对印刷电路板换热器模块的扩 散层厚度、焊接强度的影响机理,掌握了印刷电路板换热器换热芯体的扩散焊工 艺。 (3)研究了印刷电路板换热器内超临界二氧化碳、高温氦气等介质的传热 和阻力特性,掌握了印刷电路板式换热器的热力设计和结构设计方法,具备自主 研发新型高效印刷电路板换热器的能力。 图 1 多种结构的印刷电路板换热器换热板 图 2 扩散焊获得的印刷电路板换热器芯体和焊缝金相组织 (2)技术成熟度 相关成果荣获 2016 年舰船热能动力技术学术会议优秀论文二等奖、2015 年 第三届节能控排传热进展国际会议最佳论文奖和 2015 年中国工程热物理学会传
西安交通大学 2021-04-10
一种双钳位取电电路
本实用新型涉及一种双钳位取电电路,由二极管D1、共模电感L1、稳压二极管Z、电阻R、三极管Q及电容C构成,其二极管D1依次与共模电感L1、第三三极管Q3串联,第三三极管Q3的输出端连接第一电容C1、第二电容C2,其第一电容C1与第二电容C2之间为并联,其二极管D1与共模电感L1之间连接一保险丝F1,本实用新型的有益效果为:通过该取电电路,使得输出电压范围在18~36V之间,为后续的DC-DC芯片提供稳定范围的电压,减少因电源的波动造成系统的不稳定以及系统芯片的烧毁。
安徽建筑大学 2021-01-12
全透明薄膜晶体管及其电路
薄膜晶体管(thin film transistor, TFT)本质上是一种场效应晶体管,其电性质与传统的MOS场效应管一样,都是利用垂直于导电沟道的电场强度来控制沟道的导电能力来实现系统放大,这被称为电导率调制或场效应原理。同时它也是良好的开关元件,当栅源电压小于阈值电压时器件截止,反之导通。场效应管是通过改变输入电压来控制输出电流的,它是电压控制器件,不吸收信号源电流,不消耗信号源功率,因此它的输入阻抗很高,它还具有很好的温度特性、抗干扰能力强、便于集成等优点。 与硅材料相比,ZnO薄膜材料的禁带宽度大、透明等优异的半导体特性,使得ZnO-TFT可能替代a-Si TFT成为平板显示器件的像素开关。若使用ZnO-TFT作为有源矩阵驱动的开关元件有以下明显优势: (1) ZnO为宽禁带半导体材料,可以避免可见光照射对器件性能的影响,保证显示器的清晰度不受太阳光照的影响; (2) 提高开口率,提高显示器的亮度,进而可以降低功耗; (3) 如果存储电容也用透明材料制备,制备全透明显示器件便成为可能; (4) 对衬底要求不高。ZnO薄膜的生长温度较低,即使室温条件下也可以生长高质量ZnO薄膜,因此衬底可以选择廉价的玻璃或者柔韧性塑料等,这又是柔性显示器成为可能; (5) ZnO具有很好的载流子迁移率,使得ZnO-TFT既具有很高的开态电流,又有效的抑制关态电流的增加;研究ZnO-TFT的另一个重要意义在于推动透明电子学的研究。ZnO-TFT的实现对透明电子学来说是一个富有成效的进展,具有里程碑的意义,为制造透明电路和系统创造了条件。
大连理工大学 2021-04-13
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