技术成熟度：技术突破         传统CMOS工艺的图形处理器通常是由探测、存储、处理等多个分立系统构成，不可避免的增加了集成电路的复杂性、功耗和成本，忆阻器在新型信息存储器件、存算一体化技术及人工神经网络等领域有着巨大应用潜力。         研发团队发展的感存算一体化新型光电忆阻材料与器件能够解决传统人工视听觉系统在容量、集成度、速度等方面的技术瓶颈问题，是实现高效智能视听觉传感系统的基础。研发团队首次在基于氧化钨材料忆阻突触器件的视听觉系统中模拟了速度检测的多普勒频移信息处理，进而实现高通滤波和处理具有相对时序和频移的尖峰数据。这些结果为视听觉运动感知的模拟提供了新机会，促进了其在未来神经形态传感领域的应用。         意向开展成果转化的前提条件：中试放大及产业化工艺开发资金支持

球墨铸铁是一种高强度铸铁材料，具有优异的力学性能，如较高的强度和屈服强度，较高的伸长率和一定的冲击韧性。在常温工作条件下，球墨铸铁可以代替铸钢来铸造复杂零件，生产成本低廉，具有广泛的用途，目前我国球墨铸铁的年产量可达600多万吨。但是，一般的球墨铸铁在低温使用时，其韧性急剧下降，使球墨铸铁转变为脆性材料，无法抵抗各种使用环境所产生的冲击，可能造成零件的突然脆断，从而引发重大的人员伤亡和经济损失。对于一般铁素体基体的球墨铸铁QT400-18L，保证了400MPa的抗拉强度和18%的伸长率，但其-40℃下的标准V型缺口试样的冲击功只有3~5J。对于一般铁素体基体的球墨铸铁QT350-22L，-40℃下的标准V型缺口试样的冲击功不小于12J的要求，但其抗拉强度则会低于400MPa。 本技术立足于国内原材料，通过合理选择熔炼工艺，严格控制球化和孕育过程，合理控制球墨铸铁的化学成分与组织，可获得高韧性耐低温球墨铸铁，抗拉强度不低于400MPa，伸长率不低于18%，而且-40℃下的标准V型缺口试样的冲击功不小于12J。 该高韧性耐低温球墨铸铁可以满足大功率高速内电牵引机车的箱体铸件、磁悬浮列车轨道梁铸件、寒冷地区工作的风力发电、石油机械、矿山机械用齿轮箱及箱体的制造。

本技术主要解决了在双金属材料制造过程中，以粉末烧结方法在铸铁基零件表面烧结耐磨铜层，同时解决了结合力较弱的关键工艺技术。运用这项技术，可以使烧结铜层与铸铁基体的粘结强度达到以钢背为基的双金属材料的结合力，同时这一技术的发展，使得的钢背的制造过程完全可以以铸铁件来取代用低碳钢，用机械加工的方法制造出来的基体，可以节约大量的材料，属于节能型工艺技术。具有自主知识产权，获得发明专利（ZL91109101.7）一项。

无标题文档抗磨铸铁规范应用于水泥、矿山、电力等行业，目前我国使用的磨球有两大类：轧（锻）钢球和铸球。轧（锻）钢球的优点是韧性好，但其弱点是不耐磨、能耗高。铸球大致可分为高铬白口铸球、中锰球墨铸铁磨球、白口铸铁及各种低合金铸铁磨球。我校开发的新型贝氏体球铁磨球既具有中锰球铁的底成本和工艺简便的特点，有具有高鉻铸铁的耐磨性。1、各种磨球在水泥行业的磨损比及价格比：磨 球 种 类高 铬中 锰锻（轧）钢新型贝氏体球磨 耗 比125~10~1价 格 比4.5~52.0~2.51.5~1.83.0~3.5粉碎吨水泥价格比1140.6~0.82、各种磨球优缺点比较：铸 球 种 类高 铬中 锰白 口 铁贝氏体球铁球优 点 适用于水泥磨煤行业（干磨），磨耗低 廉价，不用电炉 廉价，不用电炉 廉价，也可不用电炉 干磨湿磨均适用 原材料来源广泛缺 点 成本高，需电炉 铬铁要进口 不适于湿磨 质量不稳 容易碎球 硬度较低 质量不稳 容易碎球 硬度较低3、各种磨球的机械性能及跌落试验（从3.4M高度落下）磨 球 种 类硬度 HRC冲击值KgM／cm迭落试验磨前磨后迭落次数剥落尺寸（mm）热轧45#钢13.714.7／／／中锰球铁45.947.40.95326648高鉻铸铁53~620.3~0.610000~2000033新型贝氏体球铁51.252.21.225933354、新型贝氏体磨球的化学成分金相组织及生产工艺化学成分按铸件壁厚的不同，原铁水的化学成分范围如下：CSiMnPS3.6~3.82~3.52~3.5<0.070.08      新型贝氏体球铁的金相组织主要由贝氏体、马氏体及少量残余马氏体组成。新型贝氏体球铁的生产几乎可以不改变中锰球铁磨球的生产工艺流程，只对化学成分进行适当调整，因而保留了中锰球铁磨球的生产工艺简单、成本低的特点。铸铁可用砂型也可采用金型，浇注后需进行热处理。球化处理工艺与中锰球铁相同，采用冲入法，并用75Si-Fe进行多次孕育。      我们长期从事球墨铸铁研究，该项工作属国内首创，国外未见未见类似开发应用。选材来源广泛，价格便宜，采用余热淬火和特殊淬火介质，成本低，工艺简便易行；磨球的组织和化学成分设计新颖合理，在抗磨行业具有普遍推广应用的条件。曾获国家级新产品证书。  

低合金马氏体球墨铸铁磨球的生产采用冲天炉或中频感应电炉化铁，金属型或真空消失模（ V-EPC）铸球，低温回火生产工艺，铸球中不加贵重合金元素。因此，具有设备投资少、生产成本低、工艺出品率高及生产率高等特点。产品性能、指标低合金马氏体球墨铸铁磨球经力学性能检测：σb≥1000Mpa， ak≥8.5J/cm2 ， HRC54-58, 且淬透性强， Ф100mm 磨球心部也能淬透。低合金马氏体球墨铸铁磨球的耐磨性为普通碳素锻钢磨球的 4～6 倍，为贝

低合金马氏体球墨铸铁磨球的生产采用冲天炉或中频感应电炉化铁，金属型或真空消失模（V-EPC）铸球，低温回火生产工艺，铸球中不加贵重合金元素。因此，具有设备投资少、生产成本低、工艺出品率高及生产率高等特点。 低合金余热淬火马氏体球墨铸铁磨球特别适用于金属矿山湿式球磨机选矿使用。据资料介绍我国金属矿山球磨机选矿使用磨球每年约200-300万吨。目前，市场上销售的磨球以高铬或低铬磨球为主，而高铬或低铬磨球特别适用于矿物原料的干磨条件，适用于金属矿山湿磨条件的磨球不多。因此，低合金余热淬火马

EV-400高真空金属有机蒸发镀膜机 真空腔室：前开门真空腔体，方便取放基片、更换钨舟、添加蒸发材料以及真空室的日常维护保养； 真空系统：国产分子泵作为主抽泵，真空极限优于5.0✕10-5Pa（经烘烤除气后）；另可选进口磁悬浮分子泵或是低温泵作为主抽泵，真空极限优于3.0✕10-6Pa（经烘烤除气后）； 真空抽速：大气～8✕10-4Pa≤30min； 蒸发源：4～6组欧美技术金属或是有机束源炉蒸发源可选，多源共蒸获得复合膜/分蒸获得多层膜，功能强大，性能稳定； 蒸发电源：真空专业蒸发电源，恒流/恒功率控制。电流、功率可预先设置，可实现一键启动和停止的自动控制功能； 基片台：最大120mm基片/15～25mmITO/FTO玻璃25片，可定制一体化高精度刻蚀掩膜板；基片台公转，转速0～20r/min连续可调； 基片台功能：衬底可选择加热（室温～300℃可调可控）或水冷，基片台可选升降，源基距最大350mm； 溅射电源：直流脉冲溅射电源、全自动匹配的射频溅射电源可任选； 膜厚监控仪：可选配国产或进口单水冷探头膜厚仪； 可镀材料：可沉积金属（Au、Ag、Al、Ca、Cu、Mg、Fe、Cr、Ti、Ni等）、非金属、化合物（MoO3、LiF等）及有机材料，可拓展沉积单层膜、多层膜及混合膜； 控制方式：PLC+触摸屏控制系统，具备漏气自检与提示、通讯故障，实现一键抽停真空。

全球 88%的钒从钒渣中提取，其余则从其它矿物中提取（如石煤，废催化剂）。粗钒渣中 V 2 O 3 和 Cr 2 O 3 含量一般分别为 12-18wt%和 5-8wt%左右。目前攀钢和承钢从钒渣提取钒的方法是将钒渣粉料与 Na 2 CO 3 、 NaCl、Na 2 SO 4 钠盐混合后置于多膛炉或回转窑中在 800℃左右空气气氛中氧化焙烧，然后水浸处理。钒渣中不溶于水的三价钒和三价铬经上述钠盐氧化焙烧分别转化为水溶性的五价和四价钒和六价铬，再经水浸处理就能被提取至浸取液中。目前工业上钒的两次焙烧提取率为 80%，铬的提取率为 5%。大量未被提取的铬和钒留在水浸渣中。水浸渣中未提取的铬和钒有可能在堆放过程中在自然界微生物催化氧化和土壤元素锰等催化氧化作用下被氧化成水溶性的五价钒和六价铬，随雨水浸出，流入周围环境中。因而传统水浸钒渣是一种极危险的有毒固体，不能在自然环境中长期存放。现在国家已明确指出，对于攀枝花另一大型含钒红格矿区（一种铬含量较高的钒钛磁铁矿区），开采企业如不能拿出解决水浸渣中高铬和高钒难题，就严禁开采。传统钒渣提钒过程由于加入了 NaCl 和 Na 2 SO 4 ,这些钠盐焙烧过程产生大量有毒气体，如氯气、氯化氢、二氧化硫、三氧化硫等，严重污染周围环境。

活动修复假牙适用基牙不好、牙体缺失较多的患者，目前国内外普遍采用的先进修复技术是使用精密铸造方法用钴铬钼合金制作活动修复支架，在其上形成塑胶牙及卡环、腭杆等固位结构。本成果采用多元化设计和组分优化，运用特种真空冶炼工艺，生产出强度高、回弹性好、不易断裂、生物安全性优良的贱金属活动支架用合金，十分适合国内口腔修复患者的消费水平。已在全国20余家口腔医疗单位应用，替代进口，具有良好的经济效益和社会效益。

MS-450高真空多靶磁控溅射镀膜机 真空腔室：直径450✕H400mm，1Cr18Ni9Ti优质不锈钢材质，氩弧焊接，前开门结构； 真空系统：机械泵+分子泵（进口和国产可选）； 极限真空：优于5✕10-5Pa（经烘烤除气后）； 真空抽速：大气～8✕10-4Pa≤30min； 升降基片台：2～6英寸基片台，靶基距60～120mm连续在线自动可调，旋转0～20r/min可调，可加热至500℃（可选水冷功能），可选配偏压清洗功能； 磁控靶：直径3英寸2～4只（可升级成直径4英寸靶2～3只），兼容直流和射频，可以溅射磁性材料的靶材； 溅射电源：直流脉冲溅射电源、全自动匹配的射频溅射电源可任选； 质量流量计：2～3路工艺气体，可根据工艺要求增加； 膜厚监控仪：可选配国产或进口单水冷探头膜厚仪； 控制方式：PLC+触摸屏控制系统，具备漏气自检与提示、通讯故障，实现一键抽停真空。