青岛中康原能细胞生物科技有限公司成立于2020年05月06日，注册地位于中国(山东)自由贸易试验区青岛片区太白山路172号中德生态园双创中心288室(经营场所:青岛市黄岛区齐长城路499号)，法定代表人为苏亚勒。经营范围包括一般项目：人体干细胞技术开发和应用；第一类医疗器械生产；第一类医疗器械销售；第二类医疗器械销售；医学研究和试验发展；技术服务、技术开发、技术咨询、技术交流、技术转让、技术推广；技术推广服务；科技推广和应用服务；化妆品批发；化妆品零售；第二类医疗器械零售；企业管理；健康咨询服务（不含诊疗服务）；从事与外国（地区）企业相关的非营利性业务活动；信息咨询服务（不含许可类信息咨询服务）（除依法须经批准的项目外，凭营业执照依法自主开展经营活动）

黄 昆（1919—2005）浙江嘉兴人。物理学家。学部委员（院士）。曾任北京大学教授等。是中国半导体物理学研究的开创者之一。提出多声子的辐射和无辐射跃迁的“黄—里斯理论”。

电子束团在时间－能量的相空间内形成角状分布，具有强而窄的电流尖峰和较长的低电流拖尾，只有尖峰部分有足够的强度产生自由电子激光，从而可获得几百阿秒的X射线脉冲。通过优化加速器参数及电子束团电荷量，产生了200阿秒、光子能量为5.6 千电子伏和9千电子伏的X射线激光脉冲。这一方案不需对现有XFEL装置进行任何复杂的升级改造，因此也可在国际上其它类似的XFEL装置上实现阿秒X射线脉冲。

小试阶段/n本发明属于水产养殖技术领域，涉及主养黄颡鱼混养其它吃食性鱼类方法（专利号201310554849.9）。发明的关键是设计一种新的网围方式，使池塘黄颡鱼主养能够因地制宜套养各种吃食性鱼类，大幅提高黄颡鱼主养池塘单位养殖效率。主要步骤为：根据投饵机可覆盖的投喂面积，于主养鱼种黄颡鱼投饵机前方架设围网，使无风条件下投饵机投出的饵料80%以上落入围网包围的区域为宜，围网为聚乙烯，长60m、髙4m、网目为4cm，围网底部缝制密网圆筒状聚乙烯网片，密网片直径6cm，其内装填鹅卵石作沉子，围网用竹竿固

本发明的目的是提供瓦氏黄颖鱼成鱼生产过程中的无公害高效人工颗粒饲料，它不仅可以促进瓦氏黄颗 鱼的生长，降低养殖成本，还可以保护长江上游瓦氏黄颗鱼种质资源，维持瓦氏黄颗鱼养殖业的可持续发 展。本发明具有如下优点：（1）所发明的人工颗粒饲料，水中稳定性好、溶失率低，对水中污染小；（2）明 显改善瓦氏黄颖鱼的色泽，促进鱼生长；（3）本发明所用的原料来源稳定、价格低廉，生产工艺简单； （4 ）蛋白质水平为32-36% ,脂肪水平为4-7%。

为攻克糖尿病足顽症，提供一种使用方便、治疗效果好的治疗糖尿病足的中药湿性敷料。

产品详细介绍可定制多种规格尺寸厚度一、产品介绍：产品名称：防静电抗疲劳地垫产品性能:采用工艺，精心制作而成，以满足现代人工作舒适的要求。   1、防静电或不防静电可选。   2、柔韧、反弹力强、清洁方便、易于移动。   3、表面为柳叶纹防滑设计，使用方便。   4、可耐酸碱溶剂，弱酸弱碱。二、产品规格：厚度：20mm 宽度和长度可选 三层合一定制色彩：黑色黄边棉层: 耐撕耐压回弹快执行标准GB/T 17794-2008三、静电值：   表面电阻测试仪检测为10的9次方欧姆。底部为10的3-5次方欧姆。四、保质期：16个月。正常8个小时连续作业踩踏。适用于需长时间站立的防静电工作场所，起到有效缓冲脚部压力、缓解疲劳的作用。五、注意事项： 避免使用易挥发性液体在表面清洗，如酒精、苯类、香蕉水等溶剂。⒈ 产品表面严禁接触强酸碱性溶剂或易挥发性溶剂，此举可能导致产品表面变色，褪色和电阻值衰退。不能用高温铁器和锋利物器在表面接触和划伤。因为产品中间为棉层，连续12-24小时作业会有所下陷或有所损耗。地址：深圳市宝安西乡黄麻布第二工业区第5栋四楼电话：0755-29165652传真：0755-27490894邮箱：957182835@qq.com  

本成果以水溶性丙烯酸酯树脂为基体制备特种胶黏剂，胶黏剂可与水任意比例混合，VOC含量低，无刺激性气味。胶黏剂在基材表面干燥后，室温状态下为无色透明薄膜，在一定温度下软化并具有一定粘结性，继续升温并保持一段时间后可以形成热固性树脂，具有较高的粘结强度。本成果已经通过中试试验，产品质量稳定，具有进行大规模生产的前景和能力。

目前半导体光刻加工用的深紫外光刻胶都采用化学增幅体系，这种体系主要由含酸敏基团的成膜材料和光产酸剂组成，这种体系最大的问题是光产酸在后烘阶段会发生酸迁移，导致光刻分辨率难以提高。能够有效改善酸迁移问题的一种方法是采用高分子光产酸剂，且其光产酸是高分子强酸。 课题组研制了一系列新颖的含多种鎓盐光产酸基团的苯乙烯衍生物及其与甲基丙烯酸酯的共聚物。它们在曝光过程中产生大分子的磺酸，因此可作为大分子光产酸剂与其它成膜材料一起组成化学增幅型光致抗蚀剂。 以之为产酸剂与其它部分保护的对羟基苯乙烯聚合物一起组成二组分的化学增幅型248-nm光刻胶， 制备了苯乙烯磺酸鎓盐和甲基丙烯酸酯、对羟基苯乙烯的三元共聚物，再用可酸分解的叔丁基碳酸酯保护部分酚羟基，由其组成了单组分的化学增幅型248-nm光刻胶，这些正型248-nm光刻胶获得了高感度（20-50mJ/cm2）、高分辨率(0.15-0.20微米)和留膜率（＞99%）及图形线条平滑陡直等的出色表现。  利用高分子产酸剂透明性好的特点，还制备了厚膜248-nm光刻胶，可获得线宽0.34微米、高-宽比可达5：1的光刻图形：  在此基础上，还制备了负型248-nm光刻胶，这些光刻胶也都获得了很好的光刻成像性能表现。这些高分子光产酸剂也可用于制备新型的高性能193-nm光刻胶。 这些248-nm光刻胶的主要组分除了溶剂外都是自行制备，原料易得，反应条件温和可控，去金属杂质的方法也是简便易行，成本相对低廉，在经过多年的深入研究之后，完全具备了产业化的条件。 半导体加工的关键设备、材料主要掌握在美、日手中，对我国电子工业的平稳发展带来困难和潜在的巨大威胁。其中光刻胶作为芯片光刻加工的关键材料，日本公司的产品占据全球市场的70%以上，而我国在中高端产品上（248-nm光刻胶、193-nm光刻胶）完全依赖进口，即便是低端的i-线光刻胶国产化率也只有20%左右。因此，我们必须尽快扭转这种不利的局面，这需要科研工作者和产业界共同努力以及政府的大力支持。     近年来光刻胶引起了社会的广泛关注，已有多家企业开始投身于248-nm光刻胶与193-nm光刻胶的研发与产业化，但绝大部分仍处于研发阶段。我们研制的光刻胶具备了产业化的技术条件并具有与国外先进光刻胶产品竞争的产品性能。    半导体加工用光刻胶种类较多，本课题组从2002年参与国家十五“863”光刻胶重大专项开始，至今近二十年来聚焦于光刻胶研究，在i-线胶、248-nm光刻胶、聚酰亚胺光刻胶、厚膜光刻胶及抗反射涂层材料等方面都取得了很好的结果，也在致力于这些光刻胶产品的产业化。 相关项目、专利及文章： 1.国家重大科技专项（02专项）子课题,课题编号:2010ZX02303（深紫外光刻胶专用光致产酸剂及新型成膜树脂的扩试技术研究） 2.国家自然科学基金应急管理项目，51641301, 含光产酸基团的苯乙烯衍生物-甲基丙烯酸酯共聚物及其组成的化学增幅光致抗蚀剂研究,2016/01-2016/12 3.One-component chemically amplified resist composed of polymeric sulfonium salt PAGs for high resolution patterning，European Polymer Journal，114（2019），11-18 4.A new type of sulfonium salt copolymers generating polymeric photoacid: Preparation, properties and application，Reactive and Functional Polymers，130（2018），118-125 5.含光产酸基团的苯乙烯衍生物-甲基丙烯酸酯共聚物、其制备及其应用，中国发明专利，专利号：9。