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高分子自修复涂层关键技术及产业化
可以量产/n智能自修复防腐涂料通过先进技术方法,将封装缓蚀剂的纳米容器均匀分散至传统涂层中,一方面解决缓蚀剂与涂层的相容性问题,同时在涂层发生异常变化(破损,过度挤压, 酸碱刺激)时,纳米容器中封装的缓蚀剂迅速被释放,附着在金属材料表面,有效抑制这些位置腐蚀的发生。该技术是个智能保护系统,腐蚀发生时,可在特定的时间和位置自动释放腐蚀抑制剂。当该位置腐蚀停止时,纳米容器的释放也自动终止。市场预期:该技术既能保持金属材料原有的物理和力学性能,又具有良好的防腐效果和较高的经济效益。据2016年市场研究机构
中国科学院大学 2021-01-12
一种基于磁梯度自愈合防腐涂层的制备方法
本发明设计了一种基于磁梯度自愈合防腐涂层的制备方法,属于金属防腐涂层领域。基于磁梯度自愈合防腐涂层的制备方法,其特征在于,向涂层中添加包封缓蚀剂的磁性纳米颗粒,在涂层制备过程中通过施加外部磁场,使磁性纳米颗粒在涂层中呈纵向梯度分布,近金属表面的纳米颗粒浓度高,该方法制备工艺简单,安全环保,降低了的智能纳米容器或功能性高分子微球的使用量,提高了常规自愈合涂层的防腐效果。
青岛农业大学 2021-01-12
钛金属表面原位合成 TiC-DLC 复合涂层的方法
本发明公开了一种钛金属表面原位合成 TiC-DLC 复合涂层的方法,将 Ti 靶置于镀膜室内,并通入 烃类气体,对镀膜室抽真空并保持 100~400°C温度,采用电弧离子镀使 Ti 离子从 Ti 靶蒸发出来,同时 利用电弧放电离化烃类气体,从而在 Ti 靶形成 TiC 掺杂的 DLC 复合涂层。本发明采用原位合成技术在 Ti 靶材表
武汉大学 2021-04-14
高效可转位刀具多元复合膜涂层设备及技术
项目简介: 随着机械工业的发展和自动化水平的提高, 数控机床的普及, 对工具和耐磨件的要求越来越高。同时随着生活水平的提高, 钟表等饰品的外观要求越来越高。国内外都大
西华大学 2021-04-14
一种新型钢结构水性带锈防锈涂层
本实用新型公开了一种新型钢结构水性带锈防锈涂层,包括钢材基底、水性铁锈转化漆底层、水性防腐漆中层、水性调色面漆层;在钢材基底表面具有锈蚀层,所述的水性铁锈转化漆底层设置于钢材基底表面锈蚀层上,水性防腐漆中层及水性调色面漆层从下到上依次设置于水性铁锈转化漆底层上。本实用新型的所有涂层均采用水性涂料组成,无VOC,对环境和人体无伤害,同时能最大限度的保护钢结构再生锈,提高了钢铁的使用寿命,同时不需要在施工前,进行大规模的除锈工作,可节省大量财力和人力。
浙江大学 2021-04-13
在钛合金表面制备 Ti-Si-C 涂层的方法
项目简介 一种在钛金属表面制备 Ti-Si-C 涂层的方法,其特征是它由涂层合金粉末片制备和 激光熔覆处理组成。其中,Ti 粉、Si 粉和石墨粉经混合球磨烘干后,在压片机上压制合 金粉末片,且涂层合金粉末片中各组分的原子个数百分比为:Ti 粉 50%,Si 粉 16.7%,C 粉 33.3 %。 产品性能、指标 本发明熔覆工艺性能优良,涂层组织致密,界面结合良好,主要组成相为 α-Ti、TiCx、 Ti5Si3 和 Ti3SiC2,组织为 α-Ti 基体+
江苏大学 2021-04-14
高性能水泥基系列快速修补材料
混凝土结构因其脆性大的弱点,在工程应用中往往不可避免产生开裂。混凝土结构 因开裂导致混凝土结构水密性下降、渗漏,影响工程的使用寿命,甚至无法正常使用。 这是建筑界普遍存在的问题。水工、道路、桥梁等工程中混凝土结构受损后,需要进行 快速修补。从混凝土结构产生开裂的原因与环境条件分析,开发新型高性能修补材料具 有重要意义。 本发明技术根据不同现代混凝土工程的修补需求,开发出系列高性能快速修补材料, 包括超快硬修补材料、快硬早强修补材料、高性能快速修补材料。 高性能水泥基系列快速修补材料的主要特点是早期强度高、无收缩、与基面粘接强 度高、长期稳定性好、耐久性优越等特点。还具有耐磨性好、抗冲击性能优越、高抗冻 性等特殊功能。更重要的是通车时间可从 3 小时到 24 小时内调节。 高性能水泥基系列快速修补材料可广泛适用于道路、机场跑道、钢筋混凝土、轻集 料混凝土、桥梁、建筑、水工和路面等混凝土结构物(构筑物)等裂缝或缺陷的修补, 也适合于路面的大面积修补,尤其适合于北方严寒、盐冻地区的工程应用。 
同济大学 2021-04-11
深度多级还原冶炼钛基合金项目
项目涉及的产品是钛基合金,具体包括钛铁合金、钛铝合金以及钛铝钒合金等,其广泛用于冶金、国防、军工、航空、航天以及生物医学等领域。目前,现有的钛及钛合金等钛材的利用流程仍全是高钛渣/金红石-高温氯化-真空还原-精制-海绵钛-破碎-真空熔炼-钛材这一高能耗、高污染的高成本生产工艺。东北大学在国家973、国家自然科学基金以及企业重大科技攻关等项目的联合资助下,针对现有金属热还原法直接制备钛基合金存在的钛氧化物还原不彻底等技术难题,发明了基于喷吹金属蒸气深度多级还原直接冶炼钛基合金的新技术,并突破了其喷吹金属蒸气深度还原装备的技术难题,建成了吨级规模的基于喷吹深度多级还原装备。成功制备出氧含量低于0.6%的低氧高钛铁;氧含量低于0.1%,氮含量低于200ppm的钛铝合金及钛铝钒合金,目前已完成20kg规模的放大试验,建成了吨级规模的基于喷吹深度多级还原核心装备,进入产业化和推广应用阶段。核心成果已获得国家发明专利6项,整体技术及装备水平世界领先。 项目研究形成了从方法-产品-装备的原始创新,突破直接热还原法制备钛基合金的技术难题,实现了钛合金的短流程清洁制备,为国家安全建设和社会经济建设提供了战略物质保障社会经济效益显著。未来5年,我国特种钢精炼用高钛铁合金用量可达30万吨,若投资建立一条深度多级还原直接冶炼低氧高钛铁的生产线,可实现年产量5000吨的规模,其总产值可达2.5亿元以上,年均创造效益约5000万元。建设一条1000吨规模的钛铝基钛合金生产,其总产值可达2亿元以上,年均创造效益约5000~8000万元。因此项目建设将极大地拉动地方经济。
东北大学 2021-04-11
高性能沥青基连续长丝炭纤维
依托“湖南大学碳材料研究所”,建成国内沥青基碳纤维生产基地,逐步用碳纤维复合材料取代铝合金、钢筋等,促进建筑行业、汽车行业的“产业革命”,打造百亿、千亿的产业集群,把湖南长沙打造成全球第四家拥有整套高性能沥青基碳纤维制备技术的生产基地,确立长沙中国“碳谷”地位。目前已研发出高性能沥青基连续长丝炭纤维。 相关研究成果已应用于航天、航天、承载一体化、冲击载荷下微结构、兵器材料等,为我国武器装备发展和国防科技工业进步提供了基础支撑。合作单位包括国防科工局、中科院近代物理所、中国兵器工业第二0一研究所、中国工程物理研究院、航天科工集团、航天科技集团、中国兵器集团等国防军工单位。
湖南大学 2021-04-11
具有紫外响应的硅基成像器件
传统的CCD、CMOS硅基成像器件都不能响应紫外波段的光信号,这是因为紫外波段的光波在多晶硅中穿透深度很小(<2nm)。但是近年来随着紫外探测技术的日趋发展,人们越来越需要对紫外波段进行更深的探测分析与认识。紫外探测技术是继激光探测技术和红外探测技术之后发展起来的又一军民两用光电探测技术。几十年来,紫外探测技术已经逐渐应用于光谱分析、军事、空间天文、环境监测、工业生产、医用生物学等诸多领域,对现代科研、国防和人民生活都产生了深远的影响。特别是在先进光谱仪器方面,国内急迫需要响应波段拓展到紫外的硅基成像器件。硅基成像器件如CCD、CMOS是应用最广泛的光电探测器件。当前最先进的光谱仪器大都采用了CCD或CMOS作为探测器件,这是因为CCD、CMOS具有灵敏度强、噪声低、成像质量好等优点。但由于紫外波段的光波在多晶硅中穿透深度很小(<2nm),CCD、CMOS等在紫外波段响应都很弱。成像器件的这种紫外弱响应限制了其在先进光谱仪器及其他领域紫外波段探测的使用。 在技术发达国家,宽光谱响应范围、高分辨率、高灵敏度探测器CCD已经广泛应用于高档光谱仪器中。上世纪中叶美国Varian公司开发的Varian700 ICP-AES所使用的宽光谱CCD检测器分辨率达0.01nm,光波长在600nm和300nm时QE分别达到了84%和50%;美国热电公司开发的CAP600 系列ICP所用探测器光谱响应范围更是达到165~1000nm,在200nm时的分辨率达到0.005nm.法国Johinyvon的全谱直读ICP,其所用的CCD探测器像素分辨率达0.0035nm,紫外响应拓展到120nm的远紫外波段。德国斯派克分析仪器公司的全谱直读电感耦合等离子体发射光谱仪一维色散和22个CCD检测器设计,其光谱响应范围为120-800nm。德国耶拿JENA 连续光源原子吸收光谱仪contrAA采用高分辨率的中阶梯光栅和紫外高灵敏度的一维CCD探测器,分辨率达0.002nm,光谱响应范围为189—900 nm。总而言之,发达国家在宽光谱响应和高分辨率高灵敏度探测器件的研制领域已取得相当的成就。主要技术指标和创新点(1)  我们在国内首次提出紫外增强的硅基成像器件,并在不改变传统硅基成像探测器件的结构的基础上,利用镀膜的方法增强成像探测器件CCD、CMOS的紫外响应,使其光谱响应范围拓宽到190—1100nm,实现对190nm以上紫外光的探测。(2)  提高成像探测器的紫外波段灵敏度,达到0.1V/lex.s。(3)  增强成像探测器件的紫外响应的同时,尽量不削弱探测器件对可见波段的响应。(4)  选用适合的无机材料,克服有机材料使用寿命短的缺陷。 紫外探测技术已经逐渐应用于光谱分析、军事、空间天文、环境监测、工业生产、医用生物学等诸多领域,对现代科研、国防和人民生活都产生了深远的影响。特别是在先进光谱仪器方面,国内急迫需要响应波段拓展到紫外的硅基成像器件,该设计与传统CCD、CMOS结合,能满足宽光谱光谱仪器所需的紫外响应探测器的需要。能提高光谱仪器光谱响应范围,在科学实验和物质分析和检测中具有很广的市场前景。 该设计样品能取代传统CCD、CMOS,应用于大型宽光谱光谱仪器上,作为光谱仪的探测器件。将传统光谱仪器的光谱检测范围拓宽到190—1100nm. 实现紫外探测和紫外分析。具有较强的市场推广应用价值。
上海理工大学 2021-04-11
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