用于浸没式光刻的浸液温控装置
本发明公开了一种用于浸没式光刻的浸液温控系统,包括:用 于浸液流动的浸液管路,待温控的浸液通过一管路进口进入该浸液管 路,温控处理后的具有稳定温度的浸液通过该浸液管路的出口输出; 用于对所述浸液进行冷却的工艺冷却液回路,工艺冷却液在该回路中 循环流动;以及多个热交换器,其沿流向依次布置,所述浸液管路和 工艺冷却水回路同时流经每个热交换器,并利用各热交换器分别依次 完成工艺冷却液和浸液之间的热交换,从而通过多次换热获得具有稳 定温度的浸液,实现对浸液的温度控制。本发明的装置系统采用内部 回流结构与多级热交换器相结合,实现对浸液温度的多级控制,可以 实现浸没光刻中对浸液稳定的精确稳定的控制,提供温控效率。
华中科技大学
2021-04-11