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氮化镓陶瓷薄膜电路的激光直写
LPKF ProtoLaser R4可针对敏感基材实现高精度加工
乐普科（天津）光电有限公司
2022-06-22
一种用于浸没式光刻的浸液温控系统
本发明公开了一种用于浸没式光刻的浸液温控系统，通过其获得具有稳定温度的浸液，以用于浸没式光刻工艺中，其特征在于，该温控系统包括：用于浸液流动的浸液管路，待温控的浸液通过管路进口进入该浸液管路，温控后的浸液通过该浸液管路出口输出；用于对所述浸液进行冷却的工艺冷却液回路，工艺冷却液在该回路中循环流动；以及热交换器（6），所述浸液管路和工艺冷却液回路同时流经该热交换（6），利用该热交换器（6）完成工艺冷却液和浸液的热交换，获得具有稳定温度的浸液，实现对浸液的温度控制。本发明的装置采用内部回流结构与热交换器
华中科技大学
2021-04-14
基于转印激光刻蚀石墨烯的耐用可降解柔性应变传感器
成果介绍一种高性能石墨烯柔性电子皮肤，该电子皮肤结合了一种具备脱水性的商业化妆品胶体以及可编程的激光刻写石墨烯，在无毒、环保、可大量印刷的制备加工工艺下，具有轻薄、贴合皮肤、可降解、高耐用性的特性，实现了高于500的应变系数、大于75[[[%]]]的拉伸范围以及稳定的电阻变化能力。该柔性表皮压阻式传感器可应用在生命体征监测、人机交互等领域中，目前已经将其初步应用在手势识别之中，并做出了一系列人机交互应用。技术创新点及参数采用绿色环保的新工艺，解决了传统激光刻写石墨烯脆弱的问题，实现了可编程激光刻写石墨烯的耐摩擦性、耐用性改善，且传感器可降解回收利用。
东南大学
2021-04-13
激光跟踪系统
成果与项目的背景及主要用途： 激光跟踪测量系统是近些年来迅速发展并得到广泛应用的高精度、便携式三 坐标测量机。这种测量系统的主要特点是测量范围大，通常为数十米甚至上百米。 在全量程内的测量精度可以保持在微米级。整个系统的典型重量为 20kg 左右， 非常便携。由于可以和多种形式的合作目标（也叫目标镜或目标测头）配合使用， 因此不仅能对点、线、面等简单的几何特征进行测量，而且能够对内部特征、隐 藏特征或曲面等复杂特征进行快速、高精度的测量。 技术原理与工艺流程简介：跟踪系统结构图如上图所示，检测原理为： 1、反射镜 5 将激光束导向目标镜。 2、光敏器件 8 检测从目标镜返回的光束位置与理想位置的偏差。 3、控制系统根据偏差信号旋转反射镜 5，使光束始终入射目标镜中心。 4、根据干涉仪获得的长度量、转镜的角度信息计算目标镜的三维坐标。 控制系统架构如下图所示： 技术参数： 跟踪加速度：0.5g； 最大速度：3m/s； 范围：20m ； 回转轴系的角度测量范围为偏摆角±175°，俯仰角范围为 40°-160°； 应用领域：航空、航天、造船等领域的超大尺寸测量 合作方式及条件：具体面议
天津大学
2021-04-11
一种电纺丝直写工艺闭环控制方法
本发明公开了一种电纺丝直写工艺闭环控制方法，根据实际喷射时流体的变化，将喷嘴处的液体分成泰勒锥和射流两部分进行控制，即采用高速相机进行形态检测，并将末端信息直接反馈给控制器，能够分别对影响射流和泰勒锥最关键的因素基板运动速度和喷射电压进行调控，从而对电纺丝直写工艺进行闭环控制，取得控制纤维形貌和直径、从而制备高精度阵列化图案的有益效果。
华中科技大学
2021-04-14
一种电纺丝直写工艺闭环控制方法
本发明公开了一种电纺丝直写工艺闭环控制方法，根据实际喷 射时流体的变化，将喷嘴处的液体分成泰勒锥和射流两部分进行控制， 即采用高速相机进行形态检测，并将末端信息直接反馈给控制器，能 够分别对影响射流和泰勒锥最关键的因素基板运动速度和喷射电压进 行调控，从而对电纺丝直写工艺进行闭环控制，取得控制纤维形貌和 直径、从而制备高精度阵列化图案的有益效果。
华中科技大学
2021-04-14
激光导引AGV系统
可以量产/n该项目开发的地面系统软件，可实现地图构建、任务下发、路径规划、多AGV调度管理、实时监控、车辆仿真等功能，可与WCS或MES系统进行集成；该项目采用两阶段的调度策略对多AGV系统进行路径规划，解决了多AGV系统任务调度问题。。AGV主要技术指标：1、AGV运行速度：负载最大:50m/min,空载最大:100m/min； 2、定位精度：±5mm ；3、引导方式：激光和惯导混合引导； 4、驱动方式：双轮差速/单舵轮/麦克拉姆轮； 5、移载机构：背负式（可安装各种工作机构）/叉车式； 6、防碰
湖北工业大学
2021-01-12
激光跟踪测量系统
成果与项目的背景及主要用途： 激光跟踪测量系统是近些年来迅速发展并得到广泛应用的高精度、便携式三坐标测量机。这种测量系统的主要特点是测量范围大，通常为数十米甚至上百米。在全量程内的测量精度可以保持在微米级。整个系统的典型重量为20kg左右，非常便携。由于可以和多种形式的合作目标（也叫目标镜或目标测头）配合使用，因此不仅能对点、线、面等简单的几何特征进行测量，而且能够对内部特征、隐藏特征或曲面等复杂特征进行快速、高精度的测量。
天津大学
2021-04-14
压印法集成电路光刻技术
本项目提出一种创新的集成电路(IC)制造工艺路线，即压印光刻(Imprint Lithography－IL)技术，并对该技术相关的压印和脱模工艺机理、紫外光固化阻蚀胶材料的物化和工艺特性、与IC制造其它工艺的综合集成和优化、压印光刻设备的关键技术等进行研究和技术开发。其基本原理为：以电子束直写刻蚀(或其它刻蚀技术)生成IC图型母板(模具)，以母板(模具)步
西安交通大学
2021-01-12
用于浸没式光刻的浸液温控装置
本发明公开了一种用于浸没式光刻的浸液温控系统，包括：用 于浸液流动的浸液管路，待温控的浸液通过一管路进口进入该浸液管 路，温控处理后的具有稳定温度的浸液通过该浸液管路的出口输出； 用于对所述浸液进行冷却的工艺冷却液回路，工艺冷却液在该回路中 循环流动；以及多个热交换器，其沿流向依次布置，所述浸液管路和 工艺冷却水回路同时流经每个热交换器，并利用各热交换器分别依次 完成工艺冷却液和浸液之间的热交换，从而通过多次换热获得具有稳 定温度的浸液，实现对浸液的温度控制。本发明的装置系统采用内部 回流结构与多级热交换器相结合，实现对浸液温度的多级控制，可以 实现浸没光刻中对浸液稳定的精确稳定的控制，提供温控效率。
华中科技大学
2021-04-11